ICP设备(刻蚀机)共享应用
仪器名称：ICP设备(刻蚀机)仪器编号：02001849产地：英国生产厂家：STS SURFACE TECN.型号：MESC Multiplex出厂日期：200001购置日期：200203所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层工艺平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：王喆垚（010-62772748,13552821122,z.wang@tsinghua.edu.cn）窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn）分类标签：微纳加工 深硅刻蚀 集成电路技术指标：硅深槽刻蚀，刻蚀速率3um/min知名用户：清华大学、北京大学、中科院微电子所技术团队：教授1人、副教授1人、工程师2人功能特色：本设备可进行硅片深刻蚀，加工尺寸为4英寸及以下硅片。Si刻蚀速率为3um/min，光刻胶硅刻蚀选择比为1：20,均匀性小于5%。样品......阅读全文
等离子体去胶机
等离子体去胶机，是在（RIE）反应离子刻蚀机的基础上简化改进而来，为小型等离子去胶机，具有体积小，性能优良、用途多、工艺速率高、均匀性及重复性好、价格低、使用方便等特点。是各电子器件企业及科研单位、大专院校的机型。适合于微电子制作工艺中光刻胶的去胶工艺，同时有RIE刻蚀功能，可以刻蚀Si、SiO2、
何为真空等离子清洗机，有哪些不为人知的过程？
真空离子清洗机由真空发生系统、电气控制系统、等离子发生器、真空腔休、机械等几个部分够成，可以根据客户的特殊要求定制符合客户需要的真空系统，真空室。容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行
等离子清洗机工作原理及常见用途介绍
美国CIF 等离子清洗机（Plasma Cleaner）清洗原理：等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种存在状态，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）
锑化物量子阱激光器的刻蚀与钝化等核心工艺技术新突破
锑化物半导体材料在红外制导、海洋监测、深空探索等领域具有重要应用前景，随着锑化物多元素复杂低维材料分子束外延技术的不断进步，国际上锑化物半导体相关的材料与光电器件技术创新发展十分迅速，美、日、德等发达国家竞相开展研究，广为人们瞩目。 在国家973计划、国家自然科学基金委重大项目等支持下，中国科
清华大学仪器共享平台WESTBOND－键合机
仪器名称：键合机仪器编号：19019277产地：生产厂家：WESTBOND, INC型号：7476D出厂日期：购置日期：2019-10-29所属单位：物理系>离子束刻蚀实验室放置地点：理科楼 C-207固定电话：010-62772764固定手机：13552113513固定email：jianglin
等离子体清洗机在堆积工艺中的运用
等离子体清洗机在堆积工艺中的运用由以下四个进程组成。（1）电子和反响气体发作电子碰撞反响，生成离子和自由基；（2）活性组分从等离子体传输到基底外表；（3）活性组分经过吸附作用或物化反响堆积到基底外表；（4）活性组分或反响产品成为堆积薄膜的组成部分。在高密度等离子体化学气相堆积工艺中，堆积和刻蚀进程往
聚焦离子束（FIB）直写技术研究
现代半导体制造业迅速发展，对产品的质量要求越来越高，对相关的微分析技术的要求也越来越高。除了IC 制造以外，纳米结构在新元件上应用越来越多，特别是纳米光子和纳米光学。聚焦离子束（Focused Ion Beam，FIB）系统是在常规离子束和聚焦电子束系统研究的基础上发展起来的，除具有扫描电子显微镜具
半导体设备龙头2023年业绩预告出炉－－新增订单超80亿元
1月14日晚间，中微公司(688012)发布2023年年度业绩预告，公司预计去年营业收入约62.6亿元，同比增长约32.1%，其中，2023年刻蚀设备销售约47.0亿元，同比增长约49.4%；MOCVD设备销售约4.6亿元，同比下降约34.0%。 同时，公司预计去年归属于母公司所有者的净利润为
物理所二维胶体晶体刻蚀法制备石墨烯纳米带研究取得进展
最近，中科院物理研究所/北京凝聚态物理国家实验室（筹）表面物理国家重点实验室白雪冬研究组的王文龙副研究员及其合作者在石墨烯纳米带的可控制备研究方面取得重要进展，相关工作发表在Adv. Mater. 23，1246 (2011) 上。 石墨烯（Graphene）自2004年发
聚焦离子束在LiNbO_3及KTP等晶体上的亚微米刻蚀研究
正聚焦离子束(focused ion beam,简写FIB)是一个微纳加工和观察分析设备。在强电场下金属离子溢出液态离子源,形成束流,经光圈限束、加速、聚焦、象散校正、偏转,打到样品指定点上。利用其溅射效应,FIB可用于样品表面亚微米尺寸的刻蚀,控制其扫描路径可以在无掩模下刻蚀任意正聚焦离子
福建物构所将二次硫化和酸刻蚀获得钠离子电池负极材料
中国科学院福建物质结构研究所结构化学国家重点实验室研究员张健领导的无机合成化学团队与博士张华彬合作，采用二次硫化（溶剂热硫化和高温煅烧硫化）和酸刻蚀的策略，将锌、钼基的沸石型咪唑骨架（HZIF-Zn/Mo）转变为由钼缺陷丰富的超薄二硫化钼纳米片组装的中空的微立方体框架（HMF-MoS2）。福建物
我国芯片行业要多久可以赶上美国？
来源：远望智库预见未来 军民融合观察 观察者网 作者：远方青木在芯片领域，中美差距到底有多大? 因为中国经济起步太晚，在追赶方面我们肯定是按先易后难的顺序搞的。芯片技术遵循摩尔定律，在同样价格的前提下，每18~24个月元器件的数目就会翻一倍，也就是性能翻一倍。这恐怖的进化速度代表整个芯片产业链
大气、真空等离子清洗机有何区别？
等离子清洗机利用等离子在低温下产生非平衡电子、反应离子和自由基的能力。等离子体中的高能反应基团轰击表面，导致溅射、热蒸发或光降解。等离子清洗机利用等离子体中各种高能物质的活化，完全剥离和去除物体表面吸附的污垢。目前，等离子清洗机主要分为两类，一类是大气等离子清洗机，另一类是真空等离子清
分体式冷水机主要特点等相关介绍
分体式冷水机是风冷冷水机的一种，他的制冷原理和一体式冷水机完全相同。 主要特点 分体式冷水机是分为室内机和室外机两大部分。室内机主要包括蒸发器、控制器。室外机主要包括压缩机、冷凝器、风扇。因此热量全部排到室外，且室内机体积小，噪音低。 主要应用的设备 扫描电镜、原子吸收、ICP、激光器、
印度知名研究机构订购牛津多台设备
牛津仪器等离子技术部是刻蚀、沉积和生长设备的领导者，近期获得位于印度班加罗尔的印度科学院（IISc）纳米电子研究中心（CEN）采购三台等离子刻蚀与沉积设备的订单。这三台System100等离子刻蚀与沉积设备将安装在该纳米电子研究中心（CEN）先进的纳米电子设备无尘室内，其中两台是PlasmaPr
中科院微电子所过亿元仪器设备采购大单揭晓
自2010年1月20日起至2010年11月18日，中国科学院微电子研究所共发布十三批仪器设备采购项目招标公告，其中已发布中标及成交结果公告的信息统计如下： 采购人名称：中国科学院微电子研究所 采购代理机构全称：东方国际招标有限责任公司 项目
光刻机是什么
1、光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.2、一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。3、Photolithogra
极紫外线光刻机和简介和功能
极紫外线光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。 2018年4月，中芯国际向阿斯麦下单了一台EUV（极紫外线）光刻机，预计将于2019年初交货。 功能 光刻机（又称曝光机）是生产大规模集成电路的核心设备
上海纳米级等离子工艺研讨会预告
上海纳米级等离子工艺研讨会预告 2012年3月19日 本次研讨会将于Semicon2012开幕的前一天召开，我们在此诚意邀请工业界、学术界对微纳米及发光二极管等离子技术的发展趋势及设备制造与应用感兴趣的同行先进参加。 牛津仪器的外方应用专家及国内知名机构的用户将出席并发言。 本
工作人员使用等离子清洗机时该注意哪些
大气等离子清洗机 在之前的介绍中，相信大家都知道等离子清洗机来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。 1、正确设置等离子设备
等离子清洗机的使用方法
使用等离子清洗机要注意什么?现在很多行业都需要等离子清洗机来清洗自己的产品，所以现在等离子清洗机在各行各业中都发挥了重要的作用，所以今天小编要来给大家说说了，有需要的可以收藏本文哦。大气等离子清洗机在之前的介绍中，相信大家都知道等离子清洗机来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,
什么是离子源
离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。
光刻机是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工
光刻机是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工
光驰半导体镀膜项目落地上海宝山，计划今年8月开工
近日，光驰半导体技术（上海）有限公司（以下简称 “光驰半导体”）成功摘得宝山高新技术产业园区的BSPO-1801单元07-17标准地33357.6平方米（合计50亩）工业用地，并与上海市宝山区规划和自然资源局签订土地使用权出让合同，光驰半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目在园区实质落地。图片来源：上海
洪义麟：斑斓世界里的追光者
原文地址：http://news.sciencenet.cn/htmlnews/2023/8/506484.shtm 洪义麟 受访者供图■本报记者 王敏中国科学技术大学（以下简称中国科大 ）国家同步辐射实验室教授级高级工程师洪义麟，是一位衍射光栅研制专家。但在同事眼中，他不仅是一位工程师，更是缺
精准医疗的微流控技术（二）
① 良好的加工性不同的加工方法对聚合物的加工性有不同的要求。 由于微通道的构型越来越趋于复杂，高深宽比的微通道的优点很多，所以聚合物材料应具有良好的加工性。② 良好的电绝缘性和热性能由于微流控芯片中的液体驱动经常采用电驱动方式，而且芯片经常被用于进行电泳分离，加高压电场会产生热量，高温或局部高温都会
仪器设备预算超3500万元！复旦大学公开8月政府采购意向
近日，复旦大学公开了2022年8月政府采购意向，本次预算总金额超3500万元，采购内容包括原子层薄膜气相沉积系统、超高空间分辨电子束诱导电流谱、高分辨晶体衍射仪、傅立叶红外光谱仪、红外探测器高精度测试表征系统、II-VI族化合物半导体分子束外延系统等仪器设备。采购项目名称采购品目采购需求概况预算
斑斓世界里的追光者
原文地址：http://news.sciencenet.cn/htmlnews/2023/6/503309.shtm中国科学技术大学（以下简称中国科大 ）国家同步辐射实验室教授级高级工程师洪义麟，是一位衍射光栅研制专家。但在同事眼中，他可不仅仅是一位工程师，就像大师级的乐手会亲手打造一把小提琴一样，
光刻机是什么
光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。 光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补