ICP设备(刻蚀机)共享应用
仪器名称：ICP设备(刻蚀机)仪器编号：02001849产地：英国生产厂家：STS SURFACE TECN.型号：MESC Multiplex出厂日期：200001购置日期：200203所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层工艺平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：王喆垚（010-62772748,13552821122,z.wang@tsinghua.edu.cn）窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn）分类标签：微纳加工 深硅刻蚀 集成电路技术指标：硅深槽刻蚀，刻蚀速率3um/min知名用户：清华大学、北京大学、中科院微电子所技术团队：教授1人、副教授1人、工程师2人功能特色：本设备可进行硅片深刻蚀，加工尺寸为4英寸及以下硅片。Si刻蚀速率为3um/min，光刻胶硅刻蚀选择比为1：20,均匀性小于5%。样品......阅读全文
GCS采购牛津仪器ICP复合刻蚀系统
刻蚀、沉积和生长系统的领先供应商牛津仪器今日宣布与全球通信半导体公司（GCS）签订了PlasmaPro® System100 ICP 180复合刻蚀系统的订单。这将会扩大GCS的加利福利亚工厂在电介质和氮化镓刻蚀的能力，并将会安装更多牛津仪器提供的设备。 “GCS之所以选择牛津仪器，是因为他们
微波等离子体亚深微米刻蚀
利用微波电子回旋共振（ECR）可以产生高密度的等离子体，选择不同的活性种粒分别对硅、砷化镓等半导体，Al, Cu, W, Ti 等金属，SiO2, Si3N4, Al2O3等无机物质和聚酰亚胺等有机物质，进行选择性刻蚀，制备大规模集成电路的芯片。现在的刻蚀技术，主要是采用电子束或同步辐射束曝光后，用
新型激光刻蚀技术将普通金属变成超级材料
飞秒激光在金属表面刻蚀出的层次结构，如铂表面在扫描电子显微镜(SEM)下的图片所示 罗切斯特大学光学院的教授郭春雷研制出了一种用激光让材料具有疏水性的技术， 如图所示，水珠从被该技术处理过的样品表面上滑落。 华盛顿2015年1月20日—纽约罗切斯特大学的研究者们通过用飞秒激光脉冲轰击普通
化学刻蚀结合激光熔融抛光法加工熔石英元件
近期，中国科学院上海光学精密机械研究所精密光学制造与检测中心研究团队结合化学深刻蚀和激光抛光，对精磨后的熔石英玻璃进行加工，获得具有超光滑表面和高激光损伤阈值的熔石英元件。 熔石英元件的紫外激光损伤是制约高功率激光系统发展的关键问题。熔石英玻璃的传统加工方法历经成型、研磨和机械化学抛光等工艺手
X射线能谱仪在薄膜器件刻蚀中的应用
锫钛酸铅[Pb（Ti,Zr）O3,简称 PZT]是一种新型的铁电薄膜材料,具有独特的电学,光学性能,有很广泛的应用价值。PZT 薄膜与器件的制造,均采用集成电路制造工艺。使用扫描电镜与 X 射线能谱仪对其进行工艺监控,可以得到比较满意的结果。
低杂波保护限制器热斑刻蚀机理研究取得进展
近日，中国科学院合肥物质科学研究院等离子体物理研究所研究员徐国盛带领的研究团队，通过研究 EAST 低杂波保护限制器热斑刻蚀机理，揭示 EAST 低杂波石墨保护限制器热斑引起杂质爆发的物理机制是以化学溅射为主，因此当温度上升到碳的化学溅射增强的温度，就会出现碳杂质爆发现象，严重制约低杂波系统的
反应离子蚀刻机共享
仪器名称：反应离子蚀刻机仪器编号：85427700产地：瑞典生产厂家：瑞典型号：PTL 520/520出厂日期：198509购置日期：198509所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278109
格拉斯哥大学采用等离子刻蚀系统(牛津仪器公司)
英国格拉斯哥大学的詹姆斯•瓦特纳米技术中心在其已安装的牛津仪器公司刻蚀和沉积设备基础上添加了一台 PlasmaPro® System100 ICP 等离子刻蚀系统。 PlasmaPro System100 ICP 适用于多种用途下的化合物半导体材料刻蚀，如光电子、毫米波&太赫兹
等离子清洗机,材料表面清洗、活化、蚀刻、涂层
金铂利莱作为专业生产等离子清洗机的生产厂商，在网上经常有咨询到等离子清洗机的用途有哪些，我的行业能使用等离子清洗机吗?他在我们行业是怎么样工作的，小编总结我们等离子清洗机的一般用途来告诉大家，但是大家有需要等离子清洗机请联系我们！现在我们一起来看看。 一、金属表面去油及清洁 金属表面
903万！中国科学院半导体研究所采购科研仪器设备
分析测试百科网讯 近日，中国科学院半导体研究所采购厚氮化硅感应耦合等离子体化学气相沉积台、硅基铌酸锂薄膜电感耦合等离子刻蚀机，预算金额903万元，文件详情如下：设备用途：1.厚氮化硅感应耦合等离子体化学气相沉积台用于光波导器件表面的氧化硅及氮化硅薄膜淀积，适用于波导器件中包层薄膜的沉积。2.硅基铌酸
355nnm紫外激光器刻蚀玻璃表面，如魔术般给你惊喜
纳秒固体紫外激光器在玻璃上打标，大小误差仅0.05mm355nnm紫外激光器刻蚀玻璃表面，如魔术般给你惊喜好品质，RFH 造！客户又双叕回购紫外激光器雕刻玻璃 当光束进入玻璃之中，会在表面反射部分光，而大部分光会直接透过玻璃，使用紫外线也是一样。在紫外激光器发射紫外激光到玻璃表面时，会进行刻蚀，从
物理所率先实现基于石墨烯的各向异性刻蚀技术
最近，中国科学院物理研究所/北京凝聚态物理国家实验室（筹）张广宇研究组与高鸿钧研究组、王恩哥研究组合作，利用自制的远程电感耦合等离子体系统，首次成功实现了石墨烯的可控各向异性刻蚀。这种基于石墨烯的各向异性刻蚀技术是我国科学家在该研究领域中独具特色的工作，相关结果发表在【Advan
牛津仪器等离子体技术—为刻蚀、沉积提供领先设备和工艺
分析测试百科网讯 2018年11月7日，牛津仪器在西安天骊君廷酒店召开等离子体技术在刻蚀与沉积工艺中的应用研讨会，来自牛津仪器等离子技术部亚洲区销售和服务副总裁Ian Wright先生为大家详细介绍了牛津仪器等离子技术部的发展情况及产品介绍。研讨会还邀请到西安电子科技大学杨凌教授、中国电子科技集
等离子体去胶机
等离子体去胶机，是在（RIE）反应离子刻蚀机的基础上简化改进而来，为小型等离子去胶机，具有体积小，性能优良、用途多、工艺速率高、均匀性及重复性好、价格低、使用方便等特点。是各电子器件企业及科研单位、大专院校的机型。适合于微电子制作工艺中光刻胶的去胶工艺，同时有RIE刻蚀功能，可以刻蚀Si、SiO2、
何为真空等离子清洗机，有哪些不为人知的过程？
真空离子清洗机由真空发生系统、电气控制系统、等离子发生器、真空腔休、机械等几个部分够成，可以根据客户的特殊要求定制符合客户需要的真空系统，真空室。容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行
锑化物量子阱激光器的刻蚀与钝化等核心工艺技术新突破
锑化物半导体材料在红外制导、海洋监测、深空探索等领域具有重要应用前景，随着锑化物多元素复杂低维材料分子束外延技术的不断进步，国际上锑化物半导体相关的材料与光电器件技术创新发展十分迅速，美、日、德等发达国家竞相开展研究，广为人们瞩目。 在国家973计划、国家自然科学基金委重大项目等支持下，中国科
等离子清洗机工作原理及常见用途介绍
美国CIF 等离子清洗机（Plasma Cleaner）清洗原理：等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种存在状态，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）
等离子体清洗机在堆积工艺中的运用
等离子体清洗机在堆积工艺中的运用由以下四个进程组成。（1）电子和反响气体发作电子碰撞反响，生成离子和自由基；（2）活性组分从等离子体传输到基底外表；（3）活性组分经过吸附作用或物化反响堆积到基底外表；（4）活性组分或反响产品成为堆积薄膜的组成部分。在高密度等离子体化学气相堆积工艺中，堆积和刻蚀进程往
聚焦离子束在LiNbO_3及KTP等晶体上的亚微米刻蚀研究
正聚焦离子束(focused ion beam,简写FIB)是一个微纳加工和观察分析设备。在强电场下金属离子溢出液态离子源,形成束流,经光圈限束、加速、聚焦、象散校正、偏转,打到样品指定点上。利用其溅射效应,FIB可用于样品表面亚微米尺寸的刻蚀,控制其扫描路径可以在无掩模下刻蚀任意正聚焦离子
物理所二维胶体晶体刻蚀法制备石墨烯纳米带研究取得进展
最近，中科院物理研究所/北京凝聚态物理国家实验室（筹）表面物理国家重点实验室白雪冬研究组的王文龙副研究员及其合作者在石墨烯纳米带的可控制备研究方面取得重要进展，相关工作发表在Adv. Mater. 23，1246 (2011) 上。 石墨烯（Graphene）自2004年发
福建物构所将二次硫化和酸刻蚀获得钠离子电池负极材料
中国科学院福建物质结构研究所结构化学国家重点实验室研究员张健领导的无机合成化学团队与博士张华彬合作，采用二次硫化（溶剂热硫化和高温煅烧硫化）和酸刻蚀的策略，将锌、钼基的沸石型咪唑骨架（HZIF-Zn/Mo）转变为由钼缺陷丰富的超薄二硫化钼纳米片组装的中空的微立方体框架（HMF-MoS2）。福建物
聚焦离子束（FIB）直写技术研究
现代半导体制造业迅速发展，对产品的质量要求越来越高，对相关的微分析技术的要求也越来越高。除了IC 制造以外，纳米结构在新元件上应用越来越多，特别是纳米光子和纳米光学。聚焦离子束（Focused Ion Beam，FIB）系统是在常规离子束和聚焦电子束系统研究的基础上发展起来的，除具有扫描电子显微镜具
半导体设备龙头2023年业绩预告出炉－－新增订单超80亿元
1月14日晚间，中微公司(688012)发布2023年年度业绩预告，公司预计去年营业收入约62.6亿元，同比增长约32.1%，其中，2023年刻蚀设备销售约47.0亿元，同比增长约49.4%；MOCVD设备销售约4.6亿元，同比下降约34.0%。 同时，公司预计去年归属于母公司所有者的净利润为
我国芯片行业要多久可以赶上美国？
来源：远望智库预见未来 军民融合观察 观察者网 作者：远方青木在芯片领域，中美差距到底有多大? 因为中国经济起步太晚，在追赶方面我们肯定是按先易后难的顺序搞的。芯片技术遵循摩尔定律，在同样价格的前提下，每18~24个月元器件的数目就会翻一倍，也就是性能翻一倍。这恐怖的进化速度代表整个芯片产业链
大气、真空等离子清洗机有何区别？
等离子清洗机利用等离子在低温下产生非平衡电子、反应离子和自由基的能力。等离子体中的高能反应基团轰击表面，导致溅射、热蒸发或光降解。等离子清洗机利用等离子体中各种高能物质的活化，完全剥离和去除物体表面吸附的污垢。目前，等离子清洗机主要分为两类，一类是大气等离子清洗机，另一类是真空等离子清
分体式冷水机主要特点等相关介绍
分体式冷水机是风冷冷水机的一种，他的制冷原理和一体式冷水机完全相同。 主要特点 分体式冷水机是分为室内机和室外机两大部分。室内机主要包括蒸发器、控制器。室外机主要包括压缩机、冷凝器、风扇。因此热量全部排到室外，且室内机体积小，噪音低。 主要应用的设备 扫描电镜、原子吸收、ICP、激光器、
印度知名研究机构订购牛津多台设备
牛津仪器等离子技术部是刻蚀、沉积和生长设备的领导者，近期获得位于印度班加罗尔的印度科学院（IISc）纳米电子研究中心（CEN）采购三台等离子刻蚀与沉积设备的订单。这三台System100等离子刻蚀与沉积设备将安装在该纳米电子研究中心（CEN）先进的纳米电子设备无尘室内，其中两台是PlasmaPr
光刻机是什么
1、光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.2、一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。3、Photolithogra
中科院微电子所过亿元仪器设备采购大单揭晓
自2010年1月20日起至2010年11月18日，中国科学院微电子研究所共发布十三批仪器设备采购项目招标公告，其中已发布中标及成交结果公告的信息统计如下： 采购人名称：中国科学院微电子研究所 采购代理机构全称：东方国际招标有限责任公司 项目
极紫外线光刻机和简介和功能
极紫外线光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。 2018年4月，中芯国际向阿斯麦下单了一台EUV（极紫外线）光刻机，预计将于2019年初交货。 功能 光刻机（又称曝光机）是生产大规模集成电路的核心设备