清华大学仪器共享平台金盛微纳全自动磁控溅射系统
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zhaoting@tsinghua.edu.cn）窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn）分类标签：微纳加工 半导体工艺 集成电路 磁控溅射技术指标：SiO2薄膜溅射；工艺温度﹤200℃知名用户：王喆垚(微电子所)、陈兢(北京大学)、何立平(中科院物理所)、严清峰(化学系)、许军(微电子所)、尤政(精仪系) 朱荣(精仪系)、张志勇(北京大学)、金传洪(浙江大学)技术团队：设备工程师：林宏设备主管：刘建设项目主管：陈炜功能特色：可低温（T﹤200℃）溅射SiO2膜，满......阅读全文
磁致溅射仪层生长型薄膜的形成
这种生长类型的特点是，蒸发原子首先在基片表面以单原子层的形式均匀地翟盖一层，然后再在三维方向上生长更多的层。这种生长方式多数发生在基片原子与蒸发原子间的结合能接近于蒸发原子间的结合能的情况下。层生长型的过程大致如下:入射到基片表面的原子，经过表面扩散并与其它原子碰撞后形成二维的核，二维核捕捉周围
磁致溅射仪核生长型薄膜的形成
这种类型形成过程的特点是，到达基片上的原子首先凝聚成核，后续飞来的原子不断集聚在核的附近使核在三维方向不断成长，最终形成薄膜。大部分薄膜的形成过程都属于这种类型。核生长型的薄膜其生长过程可以分为如下四个阶段。 (l)成核阶段碰撞到基片上的原子，其中一部分与基片原子交换的能量很少，仍具有相当大的
磁致溅射仪层核生长型薄膜的形成
在基体和薄膜原子相互作用特别强的情况下，才容易出现层核生长型。首先在基片表面生长1-2层单原子层，这种二维结构强烈地受基片晶格的影响，晶格常数有较大的畸变。然后再在这原子层上吸附入射原子，并以核生长方式生成小岛，最终形成薄膜。
阴极发光仪和离子溅射仪原理有什么区别
阴极发光仪和离子溅射仪原理有什么区别主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加
清华大学仪器共享平台磁控溅射镀膜机
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
XPS能谱仪氩离子束溅射技术介绍
为了清洁被污染的固体表面,在X射线光电子能谱分析中,常常利用离子枪发出的离子束对样品表面进行溅射剥离,以清洁表面。利用离子束定量地剥离一定厚度的表面层,然后再用XPS分析表面成分,这样就可以获得元素成分沿深度方向的分布图,这是离子束最重要的应用。作为深度分析的离子枪,一般采用0.5～5 KeV的Ar
转荷型和溅射型负离子源的介绍
1、转荷型负离子源 利用正离子束转荷产生负离子的装置。正离子束与固体物质表面相互作用，或通过气体靶俘获电子就能转化成负离子束。正离子束可以由小型双等离子体离子源提供。如果采用高频离子源，只要把引出电极的孔道加长，就能得到负离子束。 2、溅射型负离子源 用正离子束去轰击工作物质，就能得到该种
清华大学仪器共享平台中科院－国产溅射台
仪器名称：国产溅射台仪器编号：02011815产地：中国生产厂家：中科院微电子中心自制型号：JS-3出厂日期：200107购置日期：200210所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090
为什么溅射原子的能量大于蒸发原子的许多倍
真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离
基于高能粒子溅射的表面深度剖析方法现状及应用
近年来国内外对于材料表面问题的研究非常活跃。材料表面深度剖面分析方法不仅能像均质材料的分析方法那样获得表面元素含量的信息,而且能够用来表征从表面到基体各元素成份的纵深分布情况。为了解当前材料表面深度剖面分析技术及发展状况,文章从各类高能粒子入射样品表面的分析机理入手,介绍了二次离子质谱法、俄歇电子能
样品制备：如何使用喷金仪（离子溅射仪）改善SEM－成像
扫描电子显微镜 (SEM) 是一种多功能的工具，在大部分时候，无需什么样品制备，即可提供各种样品的纳米级信息。而在某些情况下，为了获得更好的SEM图像，会推荐或甚至有必要结合喷金仪（离子溅射仪）使用SEM。在这篇博客中，我们将解释喷金仪是如何工作的，以及适用的样品类型。 如上所述， SEM 几乎可以
金刚石表面Ar离子溅射效应的电子能谱分析
用 X射线光电子能谱 ( XPS)对微波等离子体 ( MPCVD)合成的金刚石进行了 Ar离子溅射效应原位分析 .原始表面的 C1 s光电子峰位于 2 85 .80 e V,随着溅射时间的延长 ,C1 s峰位向低结合能方向移动 ,1 h后移至 2 85 .40 e V.在溅射过程中 ,C1 s的半高
电镜附件的原理及其应用——离子溅射仪/真空镀膜机
在利用扫描电镜分析非导电样品时，因为样品的不导电性，会在样品表面累积电离子，因此在成像过程中会产生大量的放电现象，严重影响图像质量。因此在观察非导体时一般都要事先用真空镀膜机或离子溅射仪在试样表面上蒸涂（沉积）一层重金属导电膜（我们一般是在试样表面蒸涂一层金膜），这样既可以消除试样荷电现象，又可以增
磁控溅射技术设计合成ZrN/WN和CrN/ZrN纳米多层膜
本文在Si（100）基底表面上分别利用超高真空射频磁控溅射技术（ultra-high vacuum rf magnetron sputtering system）设计合成ZrN／WN纳米多层膜，利用非平衡直流磁控双靶交替反应溅射技术（unbalanced dual-cathode dc reacti
我国学者利用磁控溅射技术提升锌基电池库伦效率与寿命
近日，中科院大连化物所储能技术研究部（DNL17）李先锋研究员、张华民研究员团队，提出了一种利用磁控溅射技术在3D多孔碳毡电极上溅射金属锡层的策略，在水系锌基电池中实现了对锌沉积形貌的诱导，有效降低了锌的电化学沉积过电位，缓解了锌枝晶的生长，使锌基电池的库伦效率与循环寿命显著提升。 锌负极具有
磁钛表面磁控溅射构建功能性梯度涂层对钛瓷结合的影响
钛以其优良的生物相容性、耐腐蚀性、理想的物理和机械性能以及相对低廉的价格而被日益广泛地应用于口腔种植体、义齿铸造支架及冠和固定桥义齿的制作。但由于钛与瓷之间结合力低于传统贵金属以及贱金属烤瓷系统,使钛烤瓷修复体在临床上的广泛应用受到限制。目前认为导致钛-瓷结合力较差的原因有以下两点:在烤瓷烧结高温条
低杂波保护限制器热斑刻蚀机理研究取得进展
近日，中国科学院合肥物质科学研究院等离子体物理研究所研究员徐国盛带领的研究团队，通过研究 EAST 低杂波保护限制器热斑刻蚀机理，揭示 EAST 低杂波石墨保护限制器热斑引起杂质爆发的物理机制是以化学溅射为主，因此当温度上升到碳的化学溅射增强的温度，就会出现碳杂质爆发现象，严重制约低杂波系统的高
HORIBA科学仪器发布GDOES深度分析DiP创新系统
分析测试百科网讯 HORIBA科学仪器事业部最近为辉光放电发射光谱（GD-OES）的深度分析发布了DiP创新系统。 DiP(差分干涉分析)为无需校准的深度剖面分析提供了实时的镀层厚度、断面深度和溅射速度。 GD-OES是公认的快速、多元素的导电和非导电材料深度分析技术。GD-OES依赖于被调
二次离子质谱仪同时分析非金属元素和金属元素
二次离子质谱（sims）和溅射中性粒子质谱（snms）是表面分析科学和材料科学中广泛应用的分析技术。使用离子溅射固体表面能够引起光子、电子、中性粒子和二次离子的发射。sims技术探测溅射产生二次离子，snms技术探测溅射产生中性粒子。由于二次离子的产率和基体相关，sims技术具有显著的基体效应，
LAB18薄膜沉积系统共享应用
仪器名称：LAB18薄膜沉积系统仪器编号：12028282产地：中国生产厂家：Kurt型号：KJLC出厂日期：201204购置日期：201212所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090
清华大学仪器共享平台Kurt－LAB18薄膜沉积系统
仪器名称：LAB18薄膜沉积系统仪器编号：12028282产地：中国生产厂家：Kurt型号：KJLC出厂日期：201204购置日期：201212所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090
LAITOFMS用于地质样品直接分析的初步研究
目前,地质样品的分析方法一般要求以溶液形式进样,但样品的消解过程不仅耗时、复杂,而且容易引入污染。为寻取一种快速便捷的地质样品分析方法,我们尝试将本实验室自行研制的激光溅射电离飞行时间质谱仪用于地质样品的直接分析,该方法只需对样品进行清洗、压片或切块等简单前处理。在保证仪器的信噪比和分辨率的基础上,
嫦娥四号完成第28月昼工作－揭示石块来源
原文地址：http://news.sciencenet.cn/htmlnews/2021/3/454858.shtm 来自国家航天局的消息，嫦娥四号着陆器和“玉兔二号”月球车分别于3月21日2时和3月20日17时09分结束第28月昼工作，进入月夜休眠。截至目前，嫦娥四号着陆器和“玉兔二号”月球车
LAB18薄膜沉积系统共享
仪器名称：LAB18薄膜沉积系统仪器编号：12028282产地：中国生产厂家：Kurt型号：KJLC出厂日期：201204购置日期：201212所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090
研究揭示“玉兔二号”发现的石块源自芬森撞击坑
原文地址：http://news.sciencenet.cn/htmlnews/2021/3/455034.shtm 记者近日从中国科学院空天信息创新研究院获悉，该院遥感科学国家重点实验室科研人员通过系统分析嫦娥四号获取的探测数据，取得一系列有关着陆区矿物成分、地形地质演化历史、月壤太空风化程度
几种新型号二次离子质谱仪采用的新技术
几种新型号二次离子质谱仪采用的新技术 本文简要叙述法国CAMECA公司,德国IONTOFGmbH 公司新型的NanoSIMS50 IMSWFIMSSCUITRATOFSIMSIV 型二次离子质谱的特色,着重介绍这些仪器改进过的和新增加的 仪器部件的原理、性能及功用。关键词 二
几种新型号二次离子质谱仪采用的新技术
几种新型号二次离子质谱仪采用的新技术 本文简要叙述法国CAMECA公司,德国IONTOFGmbH 公司新型的NanoSIMS50 IMSWFIMSSCUITRATOFSIMSIV 型二次离子质谱的特色,着重介绍这些仪器改进过的和新增加的 仪器部件的原理、性能及功用。关键词 二次离子质谱 飞行时间二次
扫描电镜试样制备
1 ．对试样的要求：试样可以是块状或粉末颗粒，在真空中能保持稳定，含有水分的试样应先烘干除去水分，或使用临界点干燥设备进行处理。表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干。新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免破坏断口或表面的结构状态。有些试样的表面、断口需要进行
扫描电镜厂家讲述扫描电镜测样，须注意什么？
1.对试样的要求：试样可以是块状或粉末颗粒，在真空中保持稳定，含有水分的试样应先烘干除去水分，或使用临界点干燥设备进行处理。表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干。新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免破坏断口或表面的结构状态。有些试样的表面、断口需要进行适当
ITO半导体导电膜
掺锡氧化铟（IndiumTinOxide），一般简称为ITO。因此，它是液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器（EL/OLED）、触摸屏（TouchPanel）、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极zui常用的薄膜材料。 二、发展 真正进行ITO薄膜的研究工作还是19世纪末，当