物理所等开发出可产业化晶硅倒金字塔制绒新工艺
得益于晶硅原料成本的大幅下降以及规模化效应，晶硅太阳能电池是目前光伏产业中居于绝对主导地位的产品，并在未来相当长时间内保持这种局面。硅片表面制绒是制造晶硅电池的第一道工艺，又称“表面织构化”，是电池制造的一个核心环节。良好的绒面结构不仅可以降低太阳光反射率，增加光的吸收，而且可以提高表面钝化以及电极接触等特性，从而提高载流子的收集效率，因此，制绒工艺的创新研究一直是晶硅太阳能电池的焦点课题。在目前的制造工艺中，单晶或准单晶硅片的通用制绒工艺采用碱液金字塔刻蚀法，硅表面形成随机金字塔结构，可对太阳光进行两次反射，一般反射率在10%左右。而具有倒金字塔形状的凹坑结构是更为理想的绒面，因为太阳光在倒金字塔绒面上会经历三次反射，比金字塔绒面多吸收一次，反射率可降至5%左右，从而提高电池效率，因此廉价并可产业化的倒金字塔制绒工艺成为一个研发热点，近二十年来科研人员尝试了许多方案，可时至今日仍然没有大的进展，成了一个公认的国际难题。 ......阅读全文
物理所等开发出可产业化晶硅倒金字塔制绒新工艺
得益于晶硅原料成本的大幅下降以及规模化效应，晶硅太阳能电池是目前光伏产业中居于绝对主导地位的产品，并在未来相当长时间内保持这种局面。硅片表面制绒是制造晶硅电池的第一道工艺，又称“表面织构化”，是电池制造的一个核心环节。良好的绒面结构不仅可以降低太阳光反射率，增加光的吸收，而且可以提高表面钝化以及
鞍钢高端绒面彩涂板出口俄罗斯
鞍钢成功开发出绒面彩涂板并实现批量生产，目前已累计获得订单1620吨，全部销往国外，主要用于俄罗斯高档建筑上，标志着鞍钢彩涂板又一新品种走出国门。 绒面彩涂板属于特殊效果彩涂板，表面状似丝绒，相比普通彩涂产品拥有更漂亮典雅的外观，是目前高端新型建筑装饰用彩涂板，被誉为彩涂板中的明珠，价格高于同
有机/无机异质结太阳能电池方面研究取得系列进展
当前硅基太阳能电池实验室效率的世界纪录（25.6%）是由日本松下公司创造的，其器件结构是基于晶体硅/非晶硅薄膜的异质结形式（HIT电池）。HIT电池中充分利用了非晶硅薄膜对单晶硅表面的高质量钝化，以极低的界面电学损失获得超高的开路电压（740 mV）。借鉴HIT结构，新近发展起来的单晶硅/有机
等离子体/化学刻蚀设备的刻蚀分类
刻蚀最简单最常用分类是：干法刻蚀和湿法刻蚀。显而易见，它们的区别就在于湿法使用溶剂或溶液来进行刻蚀。 湿法刻蚀是一个纯粹的化学反应过程，是指利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的。其特点是： 湿法刻蚀在半导体工艺中有着广泛应用：磨片、抛光、清洗、腐蚀
等离子体/化学刻蚀设备中刻蚀的解释
刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻 [1] 相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。刻蚀是
有机/无机异质结太阳能电池方面取得系列进展
当前硅基太阳能电池实验室效率的世界纪录（25.6%）是由日本松下公司创造的，其器件结构是基于晶体硅/非晶硅薄膜的异质结形式（HIT电池）。HIT电池中充分利用了非晶硅薄膜对单晶硅表面的高质量钝化，以极低的界面电学损失获得超高的开路电压（740 mV）。借鉴HIT结构，新近发展起来的单晶硅/有机
金字塔选址之谜破解
地质调查显示，古埃及许多金字塔是沿着尼罗河一条现已枯竭的支流建造的。这可以解释为什么包括著名的吉萨大金字塔在内的金字塔，都聚集在一片贫瘠、不适宜居住的土地上。相关论文发表于《通讯-地球与环境》。澳大利亚麦考瑞大学的Tim Ralph说：“自古以来，尼罗河就为定居点的埃及人提供食物，同时是货物和建筑材
NICP刻蚀机共享
仪器名称：NICP刻蚀机仪器编号：02011812产地：中国生产厂家：中科院微电子中心自制型号：NICP-I型出厂日期：200107购置日期：200210所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-627
什么是湿法刻蚀
这是传统的刻蚀方法。把硅片浸泡在一定的化学试剂或试剂溶液中，使没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜表面与试剂发生化学反应而被除去。例如,用一种含有氢氟酸的溶液刻蚀二氧化硅薄膜，用磷酸刻蚀铝薄膜等。这种在液态环境中进行刻蚀的方法称为“湿法”刻蚀。它的优点操作简便；对设备要求低；易于实现大批量生产；刻蚀的选择
等离子体/化学刻蚀设备——等离子刻蚀机简介
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力
干法刻蚀与湿法刻蚀主要区别及工艺特点
基本工艺要求 理想的刻蚀工艺必须具有以下特点：①各向异性刻蚀，即只有垂直刻蚀，没有横向钻蚀。这样才能保证精确地在被刻蚀的薄膜上复制出与抗蚀剂上完全一致的几何图形；②良好的刻蚀选择性，即对作为掩模的抗蚀剂和处于其下的另一层薄膜或材料的刻蚀速率都比被刻蚀薄膜的刻蚀速率小得多，以保证刻蚀过程中抗蚀剂掩蔽的
等离子体/化学刻蚀设备化学刻蚀的介绍和过程
化学蚀刻（Chemical etching） 蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。 蚀刻技术可以分为『湿蚀刻』(wet etching)及『干蚀刻』(dry etching)两类。 通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显
ICP刻蚀机F共享
仪器名称：ICP刻蚀机-F仪器编号：13015108产地：日本生产厂家：爱发科型号：NE-550H(F)出厂日期：201211购置日期：201309所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台（暨微纳技术实验室）固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（
等离子刻蚀机简介
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力
ICP刻蚀机Cl共享
仪器名称：ICP刻蚀机-Cl仪器编号：13015109产地：日本生产厂家：爱发科型号：NE-550H(Cl)出厂日期：201211购置日期：201309所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台(暨微纳技术实验室)固定电话：固定手机：固定email：联系人：李希
NICP刻蚀机共享应用
仪器名称：NICP刻蚀机仪器编号：02011812产地：中国生产厂家：中科院微电子中心自制型号：NICP-I型出厂日期：200107购置日期：200210所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-627
ICP设备(刻蚀机)共享
仪器名称：ICP设备(刻蚀机)仪器编号：02001849产地：英国生产厂家：STS SURFACE TECN.型号：MESC Multiplex出厂日期：200001购置日期：200203所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层工艺平台固定电话：固定手机：固定emai
硅太阳能电池制造工艺流程图
1、硅片切割，材料准备：工业制作硅电池所用的单晶硅材料，一般采用坩锅直拉法制的太阳级单晶硅棒，原始的形状为圆柱形，然后切割成方形硅片（或多晶方形硅片），硅片的边长一般为10~15cm，厚度约200~350um，电阻率约1Ω.cm的p型（全球节能环保网掺硼）。2、去除损伤层：硅片在切割过程会出现大量的
新型的硅深刻蚀技术
牛津仪器发布了名为PlasmaPro® Estrelas100的硅深刻蚀技术，该技术提供了工业级的领先工艺性能，可以为微机电系统(MEMS)市场提供极为灵活的解决方案。 考虑到研发领域的需要，PlasmaPro® Estrelas100提供了极致的工艺灵活性。因为硬件的设计考虑到了
ICP设备(刻蚀机)共享应用
仪器名称：ICP设备(刻蚀机)仪器编号：02001849产地：英国生产厂家：STS SURFACE TECN.型号：MESC Multiplex出厂日期：200001购置日期：200203所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层工艺平台固定电话：固定手机：固定emai
ICP刻蚀机Cl共享应用
仪器名称：ICP刻蚀机-Cl仪器编号：13015109产地：日本生产厂家：爱发科型号：NE-550H(Cl)出厂日期：201211购置日期：201309所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台(暨微纳技术实验室)固定电话：固定手机：固定email：联系人：李希
ICP刻蚀机F共享应用
仪器名称：ICP刻蚀机-F仪器编号：13015108产地：日本生产厂家：爱发科型号：NE-550H(F)出厂日期：201211购置日期：201309所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台（暨微纳技术实验室）固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（
晶澳多晶硅电池光电转化率达17.8％
近日，晶澳公司成功克服太阳能电池工艺行业难题，将多晶产品光电转化率提高到17.8%这一世界级水平，对推进我国“太阳能屋顶计划”意义重大。 在太阳能电池领域，光电转化率是一项极其重要的技术指标。目前，国内光伏企业同类太阳能电池产品的光电转化率在17.1%至17.3%之间。决定光电转化率的关键
绒拟云芝孢子结构
绒拟云芝子实体小，非褶菌目，多孔菌科，纤孔菌属。菌盖无柄，半圆形，复瓦状生长，往往相互接连，1-2cm×1.5-3cm，厚0.2-0.6cm，黄褐色至红褐色，有细绒毛，常具辐射状皱纹及粗糙，边缘薄而锐。菌肉黄褐色，厚约1mm。 绒拟云芝菌管长1-5mm，色较菌肉深。管口初期污白色，圆形，渐呈褐
棉花短绒变身电池原料
小小的棉花短绒，居然可以成为制造电池的原料，还能吸附化学试剂。最近，中国科学院新疆理化所资源化学研究室研究员张亚刚带领的研究团队就以棉花短绒为原料，设计开发了新型碳纤维和功能型氮掺杂多孔碳材料。 传统的碳材料制备方法需要消耗大量的化石能源，还伴随着环境问题。多年来，该团队以棉花短绒为突破口，力
简介等离子刻蚀机的应用
等离子体处理可应用于所有的基材，甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗，等离子体镀膜也毫无问题。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低，因此，低压等离子体也能处理敏感性材料。等离子刻蚀机的典型应用包括： 等离子体清除浮渣 光阻材料剥离 表面处理 各向异性和各向同性失效分析
等离子刻蚀机的原理简介
感应耦合等离子体刻蚀法（Inductively Coupled Plasma Etch，简称ICPE）是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下，ICP 射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈，以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电，产生高密度的等离子体，在下电极的RF 射频
LAM－干法刻蚀机共享应用
仪器名称：干法刻蚀机仪器编号：16002654产地：美国生产厂家：LAM型号：LAM4520XL出厂日期：199801购置日期：201602所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,133662739
等离子刻蚀机有哪些缺点？
1、 硅片水平运行，机片高（等离子刻蚀去PSG槽式浸泡甩干，硅片受冲击小）； 2、下料吸笔易污染硅片（等离子刻蚀去PSG后甩干）； 3、传动滚轴易变形（PVDF，PP材质且水平放置易变形）； 4、成本高（化学品刻蚀代替等离子刻蚀成本增加）。
弘塑刻蚀系统共享应用
仪器名称：刻蚀系统仪器编号：04009242产地：台湾生产厂家：弘塑科技有限公司型号：NitrideEtch出厂日期：200312购置日期：200410所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：马伟涛（010-62796022,13