披上纳米外衣，玄武岩也能导电
“点石成金”的故事，如今在中科院新疆理化所的实验室里变成现实。该所研究人员以绝缘材料玄武岩纤维为基底，采用化学气相沉积技术，实现了不同碳纳米材料在玄武岩纤维表面的沉积和生长，使其具备导体特性。 这一实验由中科院新疆理化所和德国德累斯顿莱布尼茨高分子研究所共同合作进行。近日，该研究结果发表在材料领域权威杂志《复合材料A：应用科学与制造》上。 玄武岩纤维是一种以玄武岩为原料，通过熔融拉丝工艺制成的纤维材料。因在强度、耐温范围、生产成本、抗腐蚀性和生产过程环保等方面表现突出，被广泛地应用在过滤材料、建筑材料、纤维增强复合材料等领域。玄武岩矿石属于绝缘材料，这一属性限制了相应的纤维材料在导电领域的应用。 在国家自然科学基金、国家“千人计划”和中德科研合作计划（PPP）等项目的支持下，中德研究团队尝试以玄武岩纤维为基底，利用其本身含有的金属元素并采用化学气相沉积技术，实现了不同碳纳米材料在玄武岩纤维表面的沉积和生长。在最近的实验......阅读全文
物理气相沉积和化学气相沉积的对比
化学气相沉积过程中有化学反应，多种材料相互反应，生成新的的材料。 物理气相沉积中没有化学反应，材料只是形态有改变。 物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。缺点膜一基结合力弱,镀膜不耐磨, 并有方 向性 化学杂质难以去除。优点可造金属膜、非
解释一下化学气相沉积法制备纳米材料
化学气相沉积可以分为有基底沉积和无基底沉积。有基底沉积又分为催化沉积和无催化沉积；催化沉积往往用于区域选择性沉积或特定形貌纳米材料的沉积；无催化沉积常用于制作各种膜材料；无基底沉积往往利用气相分解，可以得到各种纳米粉体，使用相对较少。
化学气相沉积的概述
化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物
化学气相沉积的特点
1）在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。 2）可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好）。 3）采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应，使沉积可在较低的温度下进行。 4）涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化
什么是气相沉积法
化学气相沉积法，包括低压化学气相沉积（LPCVD）和等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺。 化学气相沉积主要是以末种化合物,为反应气体,在一定的保护气氛下反应生成单质原子并沉积在加热的衬底上，衬底材料一般选用次单质或其稳定化合物等。
化学气相沉积系统共享
仪器名称：化学气相沉积系统仪器编号：13003987产地：美国生产厂家：TRION型号：PHANTOMIII出厂日期：201205购置日期：201303所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
化学气相沉积的原理简介
化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上产生化学反应和传输反应等并产生固态沉积物的一种工艺，它大致包含三步： （1）形成挥发性物质 ； （2）把上述物质转移至沉积区域 ； （3）在固体上产生化学反应并产生固态物质 。 最基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等几
气相沉积是什么意思
其含义是气相中化学反应的固体产物沉积到表面。CVD装置由下列部件组成；反应物供应系统，气相反应器，气流传送系统。反应物多为金属氯化物，先被加热到一定温度，达到足够高的蒸汽压，用载气（一般为Ar或H2）送入反应器。如果某种金属不能形成高压氯化物蒸汽，就代之以有机金属化合物。在反应器内，被涂材料或用金属
简述化学气相沉积的应用
现代科学和技术需要使用大量功能各异的无机新材料，这些功能材料必须是高纯的，或者是在高纯材料中有意地掺入某种杂质形成的掺杂材料。但是，我们过去所熟悉的许多制备方法如高温熔炼、水溶液中沉淀和结晶等往往难以满足这些要求，也难以保证得到高纯度的产品。因此，无机新材料的合成就成为现代材料科学中的主要课题。
物理气相沉积法与化学气相沉积法有何区别
物理气相沉积法可以看作是物理过程，实现物质的转移，最终沉积到靶材上面。化学气相沉积法是在一定条件下通过化学反应，形成所需物质沉积在靶材或者基材表面。
物理气相沉积和化学气相沉积的区别及优缺点
化学气相沉积过程中有化学反应，多种材料相互反应，生成新的的材料。物理气相沉积中没有化学反应，材料只是形态有改变。物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。缺点膜一基结合力弱,镀膜不耐磨, 并有方 向性化学杂质难以去除。优点可造金属膜、非金属膜,又可按要
物理气相沉积法与化学气相沉积法有何区别
物理气相沉积法与化学气相沉积法有3点不同，相关介绍具体如下：一、两者的特点不同：1、物理气相沉积法的特点：物理气相沉积法的沉积粒子能量可调节，反应活性高。通过等离子体或离子束介人，可以获得所需的沉积粒子能量进行镀膜，提高膜层质量。通过等离子体的非平衡过程提高反应活性。2、化学气相沉积法的特点：能得到
物理气相沉积法与化学气相沉积法有何区别
物理气相沉积法与化学气相沉积法有3点不同，相关介绍具体如下：一、两者的特点不同：1、物理气相沉积法的特点：物理气相沉积法的沉积粒子能量可调节，反应活性高。通过等离子体或离子束介人，可以获得所需的沉积粒子能量进行镀膜，提高膜层质量。通过等离子体的非平衡过程提高反应活性。2、化学气相沉积法的特点：能得到
简述化学气相沉积法优缺点
化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-
解析引发式化学气相沉积（iCVD）
引发式化学气相沉积（iCVD）方法是一种绿色新型的功能高分子薄膜制备方法。结合传统的液相自由基聚合反应与化学气相沉积技术，iCVD方法将聚合所需的引发剂和功能单体气化引入腔体，在较低加热温度下诱导引发剂裂解，使单体聚合成高分子薄膜沉积于基底上。沉积过程中基底温度控制在室温范围，因此不会伤害其性能
物理气相沉积法和化学气相沉积法的优劣势有哪些
化学气相沉积过程中有化学反应，多种材料相互反应，生成新的的材料。物理气相沉积中没有化学反应，材料只是形态有改变。物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。缺点膜一基结合力弱,镀膜不耐磨, 并有方 向性化学杂质难以去除。优点可造金属膜、非金属膜,又可按要
物理气相沉积法和化学气相沉积法的优劣势有哪些
化学气相沉积过程中有化学反应，多种材料相互反应，生成新的的材料。物理气相沉积中没有化学反应，材料只是形态有改变。物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。缺点膜一基结合力弱,镀膜不耐磨, 并有方 向性化学杂质难以去除。优点可造金属膜、非金属膜,又可按要
TRION化学气相沉积系统共享应用
仪器名称：化学气相沉积系统仪器编号：13003987产地：美国生产厂家：TRION型号：PHANTOMIII出厂日期：201205购置日期：201303所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
CVD（化学气相沉积）的原理及应用
其含义c是气3相中3化1学反5应的固体产物沉积到表面。CVD装置由下k列部件组成；反7应物供应系统，气3相反7应器，气4流传送系统。反6应物多为0金属氯化8物，先被加热到一g定温度，达到足够高的蒸汽压，用载气5（一s般为6Ar或H3）送入v反4应器。如果某种金属不a能形成高压氯化4物蒸汽，就代之d以
化学气相沉积的技术类型相关介绍
化学气相沉积装置最主要的元件就是反应器。按照反应器结构上的差别，我们可以把化学气相沉积技术分成开管/封管气流法两种类型： 1 封管法 这种反应方式是将一定量的反应物质和集体放置于反应器的两边，将反应器中抽成真空， 再向其中注入部分输运气体，然后再次密封， 再控制反应器两端的温度使其有一定差别
化学气相沉积法生产几种贵金属薄膜
贵金属薄膜因其有着较好的抗氧化能力、高导电率、强催化活性以及极其稳定引起了研究者的兴趣。和生成贵金属薄膜的其他方式相比，化学气相沉积法有更多技术优势，所以大多数制备贵金属薄膜都会采用这种方式。沉积贵金属薄膜用的沉积员物质种类比较广泛，不过大多是贵金属元素的卤化物和有机化合物，比如COCl2、氯化
化学气相沉积技术的简介、原理以及特点
化学气相沉积技术 化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)是指在不改变基体材料的成分和不削弱基体材料的强度的条件下, 赋予材料表面一些特殊的性能的一种材料表面改性技术。目前, 由化学气相沉积技术制备的材料, 不仅应用于刀具材料、耐磨耐热耐腐蚀材料、宇航工业上的
化学气相沉积（CVD）工艺及它的未来
麻省理工学院化学工程教授Karen Gleason说，从某种意义上说，你可以将化学气相沉积技术或CVD一直追溯到史前： 她说："当穴居人点燃一盏灯，烟尘沉积在山洞的墙壁上时，"那是一种初级形式的CVD。 在被称为启动化学气相沉积（iCVD）的过程中，加热的导线（粉红色的圆柱体）导致 "启动剂
化学气相沉积技术在材料制备中使用
1化学气相沉积法生产晶体、晶体薄膜 化学气相沉积法不但可以对晶体或者晶体薄膜性能的改善有所帮助，而且也可以生产出很多别的手段无法制备出的一些晶体。化学气相沉积法最常见的使用方式是在某个晶体衬底上生成新的外延单晶层，最开始它是用于制备硅的，后来又制备出了外延化合物半导体层。它在金属单晶薄膜的制备
首次揭秘深渊沉积黑碳碳汇
近日，《自然》旗下新期刊《通讯—地球与环境》(Communications Earth & Environment)在线刊登上海海洋大学海洋科学学院研究员许云平团队关于深渊黑碳的最新研究成果，全球首次报道了深渊沉积黑碳的来源、分布和埋藏通量。张曦在做实验 受访者供图 黑碳是生
首次揭秘深渊沉积黑碳碳汇
近日，《自然》旗下新期刊《通讯—地球与环境》(Communications Earth & Environment)在线刊登上海海洋大学海洋科学学院研究员许云平团队关于深渊黑碳的最新研究成果，全球首次报道了深渊沉积黑碳的来源、分布和埋藏通量。张曦在做实验 受访者供图 黑碳是生
化学气相沉积法需要哪些实验仪器和药品
1,首先你需要一台化学气相沉积机台，常见的有牛津的PECVD几台。2,药品的话主要是一切特殊气体，如硅烷，氮气，氨气，氧气，笑气，氟化碳气体等。3,试验步骤建议使用田口的DOE实验法，这样你可以省去一些不必要的试验。
清华大学仪器共享平台TRION－化学气相沉积系统
仪器名称：化学气相沉积系统仪器编号：13003987产地：美国生产厂家：TRION型号：PHANTOMIII出厂日期：201205购置日期：201303所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
物理气相沉积的详述
(一)真空蒸镀原理(1) 真空蒸镀是在真空条件下，将镀料加热并蒸发，使大量的原子、分子气化并离开液体镀料或离开固体镀料表面(升华)。(2)气态的原子、分子在真空中经过很少的碰撞迁移到基体。(3)镀料原子、分子沉积在基体表面形成薄膜。(二)蒸发源将镀料加热到蒸发温度并使之气化，这种加热装置称为蒸发源。