镀膜过程监控
光谱仪 AvaSpec-ULS2048（200-1100nm）软件 AvaSoft-Full软件和XLS或PROC应用软件光源 AvaLight-DH-S-BAL均衡光谱型氘-卤素灯光纤探头 1根FCR-7UV200-2-ME反射型光纤探头，1根FC-UV600-2光纤和1根FC-UV200-2光纤过真空装置 FC-VFT-UV200和FC-VFT-UV600在镀膜过程中需要对一些重要参数进行监控，如膜层厚度、成分、表面光洁度、光透射率、反射系数、偏振特性等，都可以利用光谱学和双光束干涉的方法进行测量。光纤的使用为监控过程提供了灵活的工具，可以使光方便地进入或导出远方的真空超净室，而且可以同时为膜层分析提供多个几何量的测量选择。膜层的照明和发光的探测可以在相对于膜层的不同光纤位置进行，可以测量镜面反射、漫反射、传输、偏振、干涉、荧光和拉曼散射等。可以利用多根光纤同时监测多个参数，或者在不同的空间位置或掩模条件下同时测量。用几个适......阅读全文
镀膜过程监控
光谱仪 AvaSpec-ULS2048（200-1100nm）软件 AvaSoft-Full软件和XLS或PROC应用软件光源 AvaLight-DH-S-BAL均衡光谱型氘-卤素灯光纤探头 1根FCR-7UV200-2-ME反射型光纤探头，1根FC-UV600-2光纤和1根FC-UV200-2光纤
光学镀膜简介
光学镀膜由薄膜层组合制作而成，它产生干扰效应来提高光学系统内的透射率或反射性能。光学镀膜的性能取决于层数、个别层的厚度和不同的层接口折射率。用于精密光学的zui常见镀膜类型：增透膜(AR)、高反射（镜）膜、 分光镜膜和过滤光片膜。增透膜包括在高折射率的光学中并用于zui大化光
与真空镀膜相比，离子镀膜有哪些优点
通过真空镀膜技术的应用,使塑料表面金属化,将有机材料和无机材料结合起来,大提高了它的物理、化学性能.其优点主要表现在：改善美观,表面光滑,金属光泽彩色化,装饰性大大提高；改善表面硬度,原塑胶表面比金属软而易受损害,通过真空镀膜,硬度及耐磨性大大增加；提高耐候性,一般塑料在室外老化很快,主要原因是紫外
[光学]镀膜的定义
中文名称[光学]镀膜英文名称optical thin film deposition定 义在光学零件表面上镀上一层或多层光学薄膜的工艺过程。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），光学仪器一般名词（三级学科）
[光学]镀膜的定义
中文名称[光学]镀膜英文名称optical thin film deposition定 义在光学零件表面上镀上一层或多层光学薄膜的工艺过程。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），光学仪器一般名词（三级学科）
电镀膜厚仪
XRF2000镀层测厚仪检测电子电镀,化学镀层厚度,如镀金,镀镍,镀铜,镀铬,镍锌,镀银,镀钯...可测单层,双层,多层,合金镀层,测量范围:0.04-35um测量精度:±5%,测量时间只需30秒便可准确知道镀层厚度全自动台面,操作非常方便简单XRF2000镀层测厚仪,提供金属镀层厚度的测量，同时可
真空镀膜技术与湿式镀膜技术对比
真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无
LAMOST光谱仪蓝区全介质反射镜镀膜研究取得进展
全介质反射膜是利用光学干涉原理，选择两种分别具有高、低折射率特性的介质材料，通过多组高低折射率材料组成的膜系叠加，达到宽波段、高反射率的目标。依照膜层性能要求，通常的全介质反射膜系设计包含有几十甚至上百层薄膜。与传统的金属反射镜相比，全介质反射镜具有使用寿命长、膜层吸收小、反射波段内反射效率高的
AR镀膜减反射玻璃－AR镀膜设备应用于哪些领域
AR镀膜减反射玻璃 AR镀膜设备应用于哪些领域 AR镀膜减反射玻璃，是一种将玻璃表面进行特殊处理的玻璃，其与普通玻璃相比具有较低的反射比。 AR镀膜设备主要应用： 在普通的钢化玻璃表面镀膜，从而提高了钢化玻璃表面的透光率以及实现了易清洁功能。同时还延长了玻璃的寿命。AR镀膜
AR镀膜减反射玻璃－AR镀膜设备应用于哪些领域
AR镀膜减反射玻璃 AR镀膜设备应用于哪些领域 AR镀膜减反射玻璃，是一种将玻璃表面进行特殊处理的玻璃，其与普通玻璃相比具有较低的反射比。 AR镀膜设备主要应用： 在普通的钢化玻璃表面镀膜，从而提高了钢化玻璃表面的透光率以及实现了易清洁功能。同时还延长了玻璃的寿命。AR镀膜
真空镀膜的概念
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
常见的光源与镀膜介绍
光源与镀膜：LED光源、同轴光源、光学镀膜、环形灯；
真空镀膜的常用方法
(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放
真空镀膜的方法介绍
真空镀膜的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000
为什么要在镜片上镀膜？
当光源（波）由一种传播介质到另外一种传播介质时，初始光源的强度将会由透过部分和反射部分以及材质本身吸收衰减三部分组成，材质的吸收衰减只能通过更换材质来降低，而被反射的部分就需要通过不同的膜料膜层堆叠来减少，以达到增加光源在该镜片基材的透过率。在使用该光学镜片时，就能得到更小的光衰，按照这个思路就不难
真空镀膜的技术分类
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时
真空金属镀膜（VMD）技术浅谈
真空金属镀膜技术 在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法称为真空镀膜，目前在工业领域应用较多的为真空蒸镀和溅射镀膜两种镀膜技术。真空镀膜技术真正应用是在1930年油扩散泵和机械泵技术推出后。1935年研制出采用真空沉积技术的减反射膜，并在1945年应用于眼镜
真空镀膜技术简介
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的
真空镀膜技术分类
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时
ICP光谱仪的分析过程
ICP光谱仪的分析过程主要分三步，即激发、分光和检测。 其一，激发光源使试样蒸发汽化，离解或分解为原子状态，原子也可能进一步电离成离子状态。原子及离子在光源中激发发光； 其二，利用分光器把光源发射的光色散为按波长排列的光谱； 其三，利用光电器件检测光谱，按所测得的光谱波长对试样进行定性分析
镀膜机使用注意事项
1、定期清洁真空室并尽量抹干，每次都彻底洗干净，以免造成越来越难洗的现象。烘干后再镀膜，头一炉应比原来延长四倍时间才镀膜。 2、定期更换扩散泵油，更换真空泵及罗茨泵油。更换扩散泵油前一定要确认真空度是否低于1X102Pa，扩散泵里面的油温是否彻底冷却到常温状态后，方可进行加热或充大气进行拆卸，
常用的物理镀膜方法有几种
一.光学镀膜材料（纯度：99.9%-99.9999%） 1. 高纯氧化物： 一氧化硅、SiO，二氧化铪、HfO2，二硼化铪，氯氧化铪，二氧化锆、ZrO2，二氧化钛、TiO2，一氧化钛、TiO，二氧化硅、SiO2，三氧化二钛、Ti2O3，五氧化三钛、Ti3O5，五氧化二钽、Ta2O5，五氧化二铌、
真空镀膜的技术优势
真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无
光谱仪的分类介绍
一、经典光谱仪 经典光谱仪是以空间色散原理上所建立的仪器，经典光谱仪是相逢光谱器，调制管沟一是非空间分光的，它采用圆孔进光。 二、新型光谱仪 新型光谱仪实在调制原理上所建立的仪器。 其实，光谱仪可以应用的范围很广，在农业、天文、汽车、生物、化学、镀膜、色度计量、环境检测、薄膜工业、食品、
经典光谱仪和新型光谱仪的简介
一、经典光谱仪 经典光谱仪是以空间色散原理上所建立的仪器，经典光谱仪是相逢光谱器，调制管沟一是非空间分光的，它采用圆孔进光。 二、新型光谱仪 新型光谱仪实在调制原理上所建立的仪器。 其实，光谱仪可以应用的范围很广，在农业、天文、汽车、生物、化学、镀膜、色度计量、环境检测、薄膜工业、食品、
真空镀膜机的结构原理
一、电控柜的操作 1. 开水泵、气源 2. 开总电源 3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。 4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。 5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关
超高真空多靶磁控溅射镀膜仪
超高真空多靶磁控溅射镀膜仪是一种用于物理学领域的物理性能测试仪器，于2010年2月21日启用。 技术指标 双室磁控溅射系统，极限压力：主溅射室，6.67*10-6Pa，2、永磁靶5套，三个直流电源，两个射频电源，靶材直径60mm；3、6个样品工位，尺寸直径30mm，基片加热最高600度，退火
LangmuirBlodgett膜分析仪技术
Langmuir-Blodgett膜分析仪Langmuir-Blodgett膜分析仪与Langmuir膜分析仪非常相似，它也可以进行膜的制备和研究。此外，LB膜分析仪配备了镀膜井和镀膜头。在所需的堆积密度下（通常为固相），镀膜头可以用来将Langmuir膜转移到固体基材上。镀膜井可以在Langmui
AvaSpec－InStock预配置型光纤光谱仪
vaSpec In-Stock预配置型光纤光谱仪 Avantes公司有多款预配置型In-Stock光谱仪，提供给那些想在短时间内得到Avantes高品质光谱仪的客户。 AvaSpec-Fast技术参数 光谱仪型号 AvaSpec ULS3648-UA
光伏面板的近红外分析检测
背景: 某生产薄膜光伏面板的企业客户要求对其生产的光伏用镀膜玻璃样品进行近红外反射分析。光伏面板即太阳能电池板，由电池阵列组成。由于光伏面板的光吸收能力是非常关键的因素，可决定面板边缘和其他区域的反射率，因此成为这些反光区域的光能损耗指示器。生产商评价及考核面板效率改善的诸多方式中包括使用