离子注入机的原理
离子注入机由离子源、离子引入和质量分析器、加速管、扫描系统和工艺腔组成，可以根据实际需要省去次要部位。离子源是离子注入机的主要部位，作用是把需要注入的元素气态粒子电离成离子，决定要注入离子的种类和束流强度。离子源直流放电或高频放电产生的电子作为轰击粒子，当外来电子的能量高于原子的电离电位时，通过碰撞使元素发生电离。碰撞后除了原始电子外，还出现正电子和二次电子。正离子进入质量分析器选出需要的离子，再经过加速器获得较高能量，由四级透镜聚焦后进入靶室，进行离子注入。......阅读全文
离子注入机的原理
离子注入机由离子源、离子引入和质量分析器、加速管、扫描系统和工艺腔组成，可以根据实际需要省去次要部位。离子源是离子注入机的主要部位，作用是把需要注入的元素气态粒子电离成离子，决定要注入离子的种类和束流强度。离子源直流放电或高频放电产生的电子作为轰击粒子，当外来电子的能量高于原子的电离电位时，通过
离子注入机的应用
离子注入机是集成电路制造前工序中的关键设备，离子注入是对半导体表面附近区域进行掺杂的技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入与常规热掺杂工艺相比可对注入剂量、注入角度、注入深度、横向扩散等方面进行精确的控制，克服了常规工艺的限制，提高了电路的集成度、开启速度、成品率和寿命，降低了
离子注入机概述
离子注入机是高压小型加速器中的一种，应用数量最多。它是由离子源得到所需要的离子，经过加速得到几百千电子伏能量的离子束流，用做半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入，还用于金属材料表面改性和制膜等。 中文名：离子注入机 外文名:Ion implanter 属 性
离子注入机的结构组成
离子注入机由5部分组成：离子源、离子引出和质量分析器、加速管、扫描系统、工艺腔。 1、离子源 离子注入机利用离子源中灯丝产生的热电子在电场的作用下轰击气体分子，使之电离。待注入的杂质源如果是气态，便可以直接引入到离子源的电场中，如果是固态，则还需加热蒸发，变为气相后引入到这个电场中。气相的杂
离子注入机有哪些类型
常用的生产型离子注入机主要有三种类型：低能大束流注入机、高能注入机和中束流注入机，如下表所示：离子注入机类型离子注入机类型能量范围注入剂量范围工艺中的主要应用低能大束流离子注入机0.2keV~100keV超浅结、源漏注入、多晶硅栅极注入等高能离子注入机~MEV深埋层等 低能大束流离子注入机：大
离子注入装备28纳米工艺制程全覆盖
记者29日从中国电子科技集团获悉，该集团旗下中电科电子装备集团有限公司（以下简称电科装备）已实现离子注入装备28纳米工艺制程全覆盖，有力保障我国集成电路制造行业在成熟制程领域的产业安全。 据悉，离子注入机是芯片制造中的关键装备，28纳米则是当前芯片应用领域中覆盖面最广的成熟制程。 电科装备连
氦质谱检漏仪半导体设备及材料检漏应用
真空设备在半导体行业中的应用愈来愈广泛，例如真空镀膜设备（蒸发，溅射），干法雷设备，热处理设备（合金炉，退火炉），掺杂设备（离子注入机等）这些真空设备作为半导体技术发展不可或缺的条件必将起到越来越重要的作用。 真空设备在半导体行业中的应用愈来愈广泛，例如真空镀膜设备（蒸发，溅射），干法雷设备（
什么是离子源
离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。
扫描电镜X射线能谱分析法测定低能重离子注入黄豆种子
利用200kV 离子注入机产生的 Fe~+、Cu~+和 Zn~+3种重离子分别对黄豆种子进行直流注入,以扫描电镜X射线能谱分析法测定低能重离子的注入深度。测量定结果表明,Fe~+的最大注入深度未超过18μm,Cu~+、Zn~+的最大注入深度可达25μm。
低温泵简介
低温泵是利用低温表面冷凝气体的真空泵，又称冷凝泵。低温泵可以获得抽气速率最大、极限压力最低的清洁真空，广泛应用于半导体和集成电路的研究和生产，以及分子束研究、真空镀膜设备、真空表面分析仪器、离子注入机和空间模拟装置等方面。
离子束的离子源的主要参数
①离子掺杂与离子束改性。从20世纪60年代开始，人们将一定能量的硼、磷或其他元素的离子注入到半导体材料中，形成掺杂。掺杂的深度可用改变离子的能量来控制；掺杂的浓度可通过积分离子流强度来控制。离子注入方法的重复性、可靠性比扩散法好。离子注入掺杂在半导体大规模集成电路的生产中已成为重要环节，用离子注入法
先导基电完成对伍丰仪器的战略并购－川越周期担任本次交易独家财务顾问
近日，先导基电（600641.SH）通过全资子公司上海万业元创科技有限公司完成对上海伍丰科学仪器有限公司的100%股权收购，川越周期担任本次交易的独家财务顾问。（资料来源：企查查） 一、标的方介绍：上海伍丰科学仪器有限公司 上海伍丰科学仪器有限公司（简称“伍丰仪器”）成立于1998年，成立至
SIMS(secondary－ion－mass－spectroscopy)二次离子质谱图文
1.仪器介绍二次离子质谱（SIMS）是一种用于通过用聚焦的一次离子束溅射样品表面并收集和分析喷射的二次离子来分析固体表面和薄膜的组成的技术。SIMS是最灵敏的表面分析技术，元素检测限为百万分之几到十亿分之一。Schematic of a typical dynamic SIMS instrument
我国碳化硅器件制造关键装备研发取得重大进展
以碳化硅（SiC）为代表的第三代半导体产业是全球战略竞争新的制高点。SiC器件具有极高的耐压水平和能量密度，可有效降低能量转化损耗和装置的体积重量，满足电力传输、机车索引、新能源汽车、现代国防武器装备等重大战略领域对高性能、大功率电力电子器件的迫切需求，被誉为带动“新能源革命”的“绿色能源”器
二次资源利用让难熔金属“熔炉中重生”
钨、钽、铌、铼和钼……难熔金属在原子能、航空航天、电子信息和医学诊疗等涉及国家安全和国计民生的高科技领域具有极为重要的用途。但是，近10年来，世界钨工业所消耗的大部分钨资源来自中国，造成我国这类优质战略资源的储藏量大幅下降。 26日，记者从北京理工大学获悉，十年磨一剑，由北京理工大学、中国船舶
离子源如何清洗
离子源的清洗方法为：对金属的清洗和非金属部件的清洗。对金属部件来说，首先用棉签湿水后沾上专门的氧化铝粉（菲林跟有配）来摩擦金属部件。注意不要让氧化铝粉干燥！氧化铝粉洗完后，用水浸泡金属部件，然后超声15分钟，然后把水倒掉，用丙酮浸泡，再超声15分钟，烘干就可。对于非金属部件，就免掉吵声这一步骤。离子
勒夏特列原理的定义原理
勒夏特列原理（又称平衡移动原理）是一个定性预测化学平衡点的原理，主要内容为： 在一个已经达到平衡的反应中，如果改变影响平衡的条件之一（如温度、压强以及参加反应的化学物质的浓度），平衡将向着能够减弱这种改变的方向移动。比如一个可逆反应中，当增加反应物的浓度时，平衡要向正反应方向移动，平衡的移动使得增加
共计1.2亿元，东南大学公布2022年11至12月政府采购意向
近日，东南大学公布2022年11至12月政府采购意向，欲花费1.2亿元采购仪器设备。为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将东南大学企业信息2022年11至12月政府采购意向公开如下：序号采购单位采购项目名称采购品目
质谱离子源的作用
离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是 一种流强大产额高的离子源各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。 气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞，带电粒子束使工作物质溅
质谱离子源的作用
离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是 一种流强大产额高的离子源各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。 气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞，带电粒子束使工作物质溅
氦质谱检漏仪半导体设备及材料检漏应用
真空设备在半导体行业中的应用愈来愈广泛，例如真空镀膜设备（蒸发，溅射），干法雷设备（ICP,RIE,PECVD）,热处理设备（合金炉，退火炉）， 掺杂设备（离子注入机等）这些真空设备作为半导体技术发展不可或缺的条件必将起到越来越重要的作用。 半导体设备及材料需要检漏原因：1、半导体设备
辅助电极原理的原理与作用
辅助电极原理 辅助电极的作用相对比较简单。辅助电极也叫对电极，它和设定在某一电位下的研究电极组成一个串联回路，使得研究电极上电流畅通，只用来通过电流以实现研究电极的极化。研究电极的反向电流应能流畅地通过辅助电极，因此一般要求辅助电极本身电阻小，并且不容易发生极化。辅助电极的面积一般比研究电极大
我国芯片行业要多久可以赶上美国？
来源：远望智库预见未来 军民融合观察 观察者网 作者：远方青木在芯片领域，中美差距到底有多大? 因为中国经济起步太晚，在追赶方面我们肯定是按先易后难的顺序搞的。芯片技术遵循摩尔定律，在同样价格的前提下，每18~24个月元器件的数目就会翻一倍，也就是性能翻一倍。这恐怖的进化速度代表整个芯片产业链
照相技术原理之一－光的原理
大家在实验过程中越来越多的需要用到光学系统，从一般的照相，到凝胶成相，分光光度仪，酶标仪，化学发光仪，荧光PCR，测序系统，流式细胞仪等等等等，都会涉及到光学系统，那么你到底了解多少光学系统呢。我们先从最基本的开始，准备好，开始复习高中课程了。光的原理 光波（Light Wave） 光由相互垂直的
PCR的原理
PCR（聚合酶链式反应）技术的基本原理类似于DNA的天然复制过程，其特异性依赖于与靶序列两端互补的寡核苷酸引物。PCR由变性→退火→延伸三个基本反应步骤构成：①模板DNA的变性：模板DNA经加热至93℃左右一定时间后，使模板DNA双链或经PCR扩增形成的双链DNA解离，使之成为单链，以便它与引物结合
PCR的原理
PCR（聚合酶链式反应）技术的基本原理类似于DNA的天然复制过程，其特异性依赖于与靶序列两端互补的寡核苷酸引物。PCR由变性→退火→延伸三个基本反应步骤构成：①模板DNA的变性：模板DNA经加热至93℃左右一定时间后，使模板DNA双链或经PCR扩增形成的双链DNA解离，使之成为单链，以便它与引物结合
马弗炉的原理
根据炉温对给定温度的偏差，自动接通或断开供给炉子的热源能量，或连续改变热源能量的大小，使炉温稳定有给定温度范围，以满足热处理工艺的需要。对于马弗炉的分类，可以根据其加热元件、额定温度、和控制器的不同而分类，具体为：1、按加热元件区分有：电炉丝马弗炉、硅碳棒马弗炉、硅钼棒马弗炉；2、按额定温度来区分一
PCR的原理
PCR（聚合酶链式反应）技术的基本原理类似于DNA的天然复制过程，其特异性依赖于与靶序列两端互补的寡核苷酸引物。PCR由变性→退火→延伸三个基本反应步骤构成：①模板DNA的变性：模板DNA经加热至93℃左右一定时间后，使模板DNA双链或经PCR扩增形成的双链DNA解离，使之成为单链，以便它与引物结合
马弗炉的原理
马费炉的工作原理：①马弗炉炉温自动控制原理:根据炉温对给定温度的偏差，自动接通或断开供给炉子的热源能量，或连续改变热源能量的大小，使炉温稳定有给定温度范围，以满足热处理工艺的需要。温度自动控制常用调节规律有二位式、三位式、比例、比例积分和比例积分微分等几种。电阻炉炉温控制是这样一个反馈调节过程，比较
质谱法的原理
使试样中各组分电离生成不同荷质比的离子，经加速电场的作用，形成离子束，进入质量分析器，利用电场和磁场使发生相反的速度色散--离子束中速度较慢的离子通过电场后偏转大，速度快的偏转小;在磁场中离子发生角速度矢量相反的偏转，即速度慢的离子依然偏转大，速度快的偏转小;当两个场的偏转作用彼此补偿时，它们的轨道