光刻机的曝光度
a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）软<硬<真空 接触的越紧密，分辨率越高，当然接触的越紧密，掩膜和材料的损伤就越大。缺点：光刻胶污染掩膜板；掩膜板的磨损，容易损坏,寿命很低（只能使用5～25次）；容易累积缺陷；上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。b.接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻......阅读全文
光刻机龙头阿斯麦举行投资者日－芯片业或迎来新转折？
全球光刻机龙头阿斯麦将在当地时间周三午后举行投资者日。在事前发布的声明中，公司明确表示对高端光刻机业务前景和“钱”景持续乐观的立场。 作为向芯片制造业提供关键生产工具的龙头企业，阿斯麦预期这一轮电子行业的全球大趋势，将继续向半导体市场的增长注入动力。与此同时，芯片终端市场的增长和光刻强度的增加
光电所在光学薄膜厚度均匀性控制技术方面取得进展
中国科学院光电技术研究所深紫外镀膜课题组在光刻机镜头镀膜技术上取得一系列进展，提出并实现了数种提高光学薄膜厚度均匀性的办法，克服了大口径大曲面镜头上薄膜厚度均匀性控制的难题。 光刻机镜头中包含大量的曲面光学镜头，随着光刻机数值孔径增大，部分光学镜面的口径增大且形状逐步接近于半球，镜面上镀膜后的
我国芯片行业要多久可以赶上美国？
来源：远望智库预见未来 军民融合观察 观察者网 作者：远方青木在芯片领域，中美差距到底有多大? 因为中国经济起步太晚，在追赶方面我们肯定是按先易后难的顺序搞的。芯片技术遵循摩尔定律，在同样价格的前提下，每18~24个月元器件的数目就会翻一倍，也就是性能翻一倍。这恐怖的进化速度代表整个芯片产业链
2024深圳半导体光刻机设备展览会半导体IC制造与封装展览会
深圳电子元器件展，电子仪器仪表展，深圳电子仪器仪表展，电子元器件展，深圳电子设备展，电子设备展，电子元器件展览会，电子仪器展，深圳电子仪器展，电仪器展览会，深圳继电器展，深圳电容器展，深圳连接器展，深圳集成电路展2024中国（深圳）国际半导体与封装设备展览会2024 China (Shenzhen)
集成电路关键技术迎来黄金发展期
研讨会现场（主办方供图）8月23日，集成电路关键技术研讨会在北京举办。与会专家围绕着我国集成电路产业链条中的光刻机、软硬件质量保障等集成电路关键技术问题进行了研讨交流，以促进国内集成电路行业发展。“未来十年，集成电路关键技术迎来黄金发展期，机遇和挑战并存。”此次研讨会主持人、中国科学院自动化研究所高
合肥研究院承担的国家科技重大专项课题通过验收
3月12日至14日，中国科学院合肥物质科学研究院安徽光学精密机械研究所承担的课题“双腔同步全固化激光电源及输出能量稳定系统研究”通过了国家科技重大专项实施管理办公室的验收。该课题成功为MOPA结构的准分子激光器提供低抖动全固化的高脉冲快放电电源，并实现了通过反馈控制系统实现激光输出能量稳定。该课
美国拉拢日、荷围围堵中国半导体产业－中国致电荷兰外长…
据美国媒体报道，日前美国、日本和荷兰三国的官员，就进一步限制向中国出口用于制造半导体的设备的事宜，进行了新一轮的磋商。报道称，美国要求荷兰和日本的公司，收紧对华半导体设备出口的相关政策，防止中国获得制造半导体的先进设备和工艺，进而限制中国半导体产业发展。据悉，在美国的极限施压下，日本和荷兰已经同
汞灯的光谱
横坐标是波长，纵坐标是光幅（强度）。关于X光，汞灯光谱中包含有X光，但强度已经很小了，达不到应用水平。其实可以看到，KrF,ArF的强度也不大，所以在早期i线的光刻机上用的是汞灯，而DUV的光刻机用的是准分子激光。实验室中的汞灯一般为线光谱，主要谱线波长为： 。
2024上海国际半导体光刻机设备展览会暨半导体芯片设备展览会
展会名称：2024中国（上海）国际半导体展览会英文名称：China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间：2024年11月18-20日 论坛时间：2024年11月18-19日 展会地点：上海新国际
卡住中国脖子的－35－项技术最全盘点（一）
中国芯片落后么？肯定是落后，而且是全方位的落后。从设计能力到制造能力，中国目前都差一大截，尤其是制造能力，这个是事实。就像我们觉得华为中兴很厉害，但是他们依赖的很多重要技术就是被包在芯片封装里面的那些外国玩意。现代这个世界，中国不可能把所有重要领域的科技能掌握到，你再厉害也有受制于人的地方。你不惜代
5nm是物理极限－芯片发展将就此结束？（二）
有外媒报道的劳伦斯伯克利国家实验室将现有最精尖的晶体管制程从14nm缩减到了1nm，其晶体管就是由碳纳米管掺杂二硫化钼制作而成。不过这一技术成果仅仅处于实验室技术突破的阶段，目前还没有商业化量产的能力。至于该项技术将来是否会成为主流商用技术，还有待时间检验。再来说说光刻机分辨率的事要想做出更
半导体行业探讨：EUV技术与HighNA－EUV的光刻革命
EUV（极紫外光刻）技术在半导体行业备受瞩目。据ASML公布的2023年第三季度报告，EUV光刻机的预定额从5亿欧元猛增至第四季度的56亿欧元，预计将在2025年前后交付。这一技术由日本工程师木下博夫提出，经过几十年的发展，ASML成为唯一能够量产EUV光刻机的厂商。EUV技术相对传统DUV技术具有
一篇文章说清半导体制程发展史（二）
第二个问题，为什么现在的技术节点不再直接反应晶体管的尺寸呢？原因也很简单，因为无法做到这个程度的缩小了。有三个主要原因：首先，原子尺度的计量单位是埃，为0.1nm。10nm的沟道长度，也就只有不到100个硅原子而已。未来晶体管物理模型是这样的：用量子力学的能带论计算电子的分布，但是用经典的电
中微5纳米等离子体刻蚀机又被网媒“戴高帽”
近来有网络媒体称，“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机，性能优良，将用于全球首条5纳米芯片制程生产线”，并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁，第一次占领世界制高点”“中国弯道超车”等等。 中微公司的刻蚀机的确水平一流，但夸大阐述其战略意义，则被相关专家反对。刻蚀只是芯片制造多个环节
涂胶显影设备的前景
涂胶显影设备是芯片制程中必不可少的处理设备，利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工，与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为光刻机的输入即曝光前光刻胶涂覆和输出即曝光后图形的显影，涂胶显影机的性能不仅对细微曝光处的形成造成直接影响，而且其显影工艺的图形质量和误差
三个月突破634亿大关：中国半导体制造设备进口额飙升90％
在过去的三个月里，中国半导体制造设备的进口总额突飞猛进，达到634亿人民币，同比增长了惊人的90%。这一数字不仅远超过去年同期，也预示着中国半导体行业在国际竞争环境下的艰难前行。 美国针对中国的半导体制造设备出口管制政策是这一现象背后的主要推动力。自去年以来，美国联合日本、韩国和荷兰对中国实施
华中大团队成功研发我国首款计算光刻EDA软件
近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化，填补了国内空白。 光刻成像原理图 “OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨
ASML示警：过度出口管制或抬高芯片成本
集微网消息，ASML首席执行官Peter Wennink警告称，过度的管制措施可能导致芯片制造商的成本上升，因为美国要求从日本到荷兰的盟友帮助限制中国获得关键半导体技术的机会。据彭博社报道，荷兰和日本是半导体制造设备主要供应商的所在地，即将加入美国政府领导的遏制向中国出口该技术的努力，ASML对中国
超声扫描显微镜的相关特色到底在哪里
关于超声扫描显微镜，可以说超声扫描显微镜是一种离线的检测分析设备，可以说超声扫描显微镜拥有自主知识产权，创新是企业发展的必由之路。在国内半导体专用设备领域凭借自身多年的技术积累，不断创新，在多年积淀的技术基础上，四十五所厚积薄发，半导体专用设备领域都有新品推出，SSJ-100超声扫描显微镜就是其中之
让摩尔定律一再放缓－晶圆厂的cycle－time是什么？（二）
对于切割，芯片制造商使用SADP/SAQP，或双重曝光工艺。双重曝光有时被称为曝光-刻蚀-曝光-刻蚀（LELE）。三重曝光包括LELELE。对于多重曝光中，7nm工艺所进行沉积、蚀刻和清洁步骤是16nm/14nm的两倍。 Coventor首席技术官David Fried表示：“随着我
清华和镭测共同开发双折射双频激光干涉仪实现批量生产
日前，记者从清华大学精密仪器系获悉，该系教授张书练课题组进行原理研究并由北京镭测科技有限公司开发生产的双折射双频激光干涉仪具有优良的可靠性和先进的技术指标，其中，双折射双频激光干涉仪的分辨率达到1纳米(十亿分之一米)，线性测量长度范围0~70米，非线性误差小于1纳米，测量速度超过2米。 双频
光刻垄断难解，技术难在哪？
经常听说，高端光刻机不仅昂贵而且还都是国外的，那么什么是光刻机呢？上篇我们聊了从原材料到抛光晶片的制成过程，今天我们就来聊聊什么是光刻～第一步骤的晶体生长机晶片的制造，我们上篇已经聊过了。今天我们要聊的是光刻，我们先简单聊一聊硅的氧化（热氧化），刻蚀的话我们后面再讲。硅的氧化其中包含了在分立器件和集
关键科技工厂火灾加剧全球电脑芯片短缺
为电脑芯片提供关键技术的阿斯麦控股公司（ASML Holding）报告称，其制造工厂发生火灾，损害程度尚不清楚。从手机到汽车等各种产品中使用的半导体本就全球短缺，这场火灾使得这一问题进一步恶化。 火灾发生在德国柏林的一家工厂，该工厂隶属于阿斯麦控股公司。虽然其名字
半导体开年不利－这只股3天跌近30％！后续机会在哪？机构乐观预测
导读受美国施压荷兰公司停止向中国出口光刻机的影响，A股半导体板块在开年3个交易日持续下跌，仅半导体指数就累计跌逾5%，有个股3天累计跌近30%。投资者不禁问道：半导体2024年的投资机会在哪里？所幸的是，机构给出的预判，要比行情乐观许多。 外围事件引发的半导体波动行情，仍在持续。 受美国施压
多个传感器间相互位置关系校准方法
内容说明本发明涉及集成电路制造领域，特别涉及一种多个传感器间相互位置关系校准方法。发明背景投影扫描式(TFT)光刻机的目的是把掩模上图形清晰、正确地成像在涂有光刻胶的基板上，随着基板尺寸的增大，掩模、基板的形变会对套刻结果产生很大的影响，因此必须在掩模或基板上布置更多的标记。为了提高产率，现提出一种
限制生效前，中国67月芯片制造设备进口激增
据英国《金融时报》网站8月25日报道，在美国盟友实施出口限制之前，中国的半导体设备进口量激增，创下新的纪录。 中国海关数据显示，今年6月和7月，中国的芯片生产机器或装置进口总额接近50亿美元，比去年同期的29亿美元增长了70%。 报道称，大部分设备进口自荷兰和日本。这两个国家之前同意与美国合
限制生效前，中国67月芯片制造设备进口激增
据英国《金融时报》网站8月25日报道，在美国盟友实施出口限制之前，中国的半导体设备进口量激增，创下新的纪录。 中国海关数据显示，今年6月和7月，中国的芯片生产机器或装置进口总额接近50亿美元，比去年同期的29亿美元增长了70%。 报道称，大部分设备进口自荷兰和日本。这两个国家之前同意与美国合
光子人工智能芯片助“中国芯”换道超车
算力是传统电子人工智能芯片的1000倍，但功耗只有其百分之一，低延迟还抗电磁干扰，由清华、北大、北交大等高校博士生创业研发的光子人工智能芯片，在技术上实现不少突破，未来可广泛应用于手机、自动驾驶、智能机器人、无人机等领域。近日，该光子人工智能芯片项目落户顺义，将这项新技术推向了台前。 “芯片
这一年，国产技术不断突破
盘点这一年的核心技术：22纳米光刻机、450公斤人造蓝宝石、0.12毫米玻璃、大型航天器回收、盾构机“弃壳返回”、远距离虹膜识别……哪一个不夺人眼球！ 2018年，高新技术成果在各行各业开花结果，在提高产业效能的同时也为人们的生活创造了更多便利。科技创新主体不约而同向着“自主掌握核心技术，打破
这一年，国产技术不断突破
盘点这一年的核心技术：22纳米光刻机、450公斤人造蓝宝石、0.12毫米玻璃、大型航天器回收、盾构机“弃壳返回”、远距离虹膜识别……哪一个不夺人眼球！ 2018年，高新技术成果在各行各业开花结果，在提高产业效能的同时也为人们的生活创造了更多便利。科技创新主体不约而同向着“自主掌握核心技术，打