光刻机的曝光度
a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）软<硬<真空 接触的越紧密，分辨率越高，当然接触的越紧密，掩膜和材料的损伤就越大。缺点：光刻胶污染掩膜板；掩膜板的磨损，容易损坏,寿命很低（只能使用5～25次）；容易累积缺陷；上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。b.接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻......阅读全文
开年融资第三轮，埃瑞微半导体为何受资本青睐？
8月6日，半导体Overlay套刻装备提供商——埃瑞微半导体宣布完成Pre-A轮融资，由卓源亚洲、金雨茂物联合投资。 据了解，这已是今年来埃瑞微半导体完成的第三轮融资，充分表明了资本市场对于该公司的认可。1月种子轮，由源码资本、险峰长青、卓源亚洲、锡创投、中小企业发展基金投资; 3月种子+轮，由金
让摩尔定律一再放缓－晶圆厂的cycle－time是什么？（二）
对于切割，芯片制造商使用SADP/SAQP，或双重曝光工艺。双重曝光有时被称为曝光-刻蚀-曝光-刻蚀（LELE）。三重曝光包括LELELE。对于多重曝光中，7nm工艺所进行沉积、蚀刻和清洁步骤是16nm/14nm的两倍。 Coventor首席技术官David Fried表示：“随着我
清华和镭测共同开发双折射双频激光干涉仪实现批量生产
日前，记者从清华大学精密仪器系获悉，该系教授张书练课题组进行原理研究并由北京镭测科技有限公司开发生产的双折射双频激光干涉仪具有优良的可靠性和先进的技术指标，其中，双折射双频激光干涉仪的分辨率达到1纳米(十亿分之一米)，线性测量长度范围0~70米，非线性误差小于1纳米，测量速度超过2米。 双频
光刻垄断难解，技术难在哪？
经常听说，高端光刻机不仅昂贵而且还都是国外的，那么什么是光刻机呢？上篇我们聊了从原材料到抛光晶片的制成过程，今天我们就来聊聊什么是光刻～第一步骤的晶体生长机晶片的制造，我们上篇已经聊过了。今天我们要聊的是光刻，我们先简单聊一聊硅的氧化（热氧化），刻蚀的话我们后面再讲。硅的氧化其中包含了在分立器件和集
关键科技工厂火灾加剧全球电脑芯片短缺
为电脑芯片提供关键技术的阿斯麦控股公司（ASML Holding）报告称，其制造工厂发生火灾，损害程度尚不清楚。从手机到汽车等各种产品中使用的半导体本就全球短缺，这场火灾使得这一问题进一步恶化。 火灾发生在德国柏林的一家工厂，该工厂隶属于阿斯麦控股公司。虽然其名字
关键科技工厂火灾加剧全球电脑芯片短缺
为电脑芯片提供关键技术的阿斯麦控股公司（ASML Holding）报告称，其制造工厂发生火灾，损害程度尚不清楚。从手机到汽车等各种产品中使用的半导体本就全球短缺，这场火灾使得这一问题进一步恶化。 火灾发生在德国柏林的一家工厂，该工厂隶属于阿斯麦控股公司。虽然其名字
对华半导体管制升级，“从1到100”国产替代在路上
近日，美国对华半导体管制升级，涉及140家中国半导体企业实体，涵盖了制造设备、制造软件、高性能存储等领域。这项旨在进一步遏制中国半导体先进制程的措施，是对半导体产业的又一次打击，短期内许多企业的经营活动受影响。然而，这对中国半导体产业来说，并不完全是一件坏事，或许会促进产业的自立自强。 四大行
半导体开年不利－这只股3天跌近30％！后续机会在哪？机构乐观预测
导读受美国施压荷兰公司停止向中国出口光刻机的影响，A股半导体板块在开年3个交易日持续下跌，仅半导体指数就累计跌逾5%，有个股3天累计跌近30%。投资者不禁问道：半导体2024年的投资机会在哪里？所幸的是，机构给出的预判，要比行情乐观许多。 外围事件引发的半导体波动行情，仍在持续。 受美国施压
超3.68亿元！清华大学6至7月计划采购大批仪器
近期，清华大学连续发布多项仪器采购意向，预算总金额高达36836.6万元。涉及仪器设备包括红外光谱仪、热重-热常数分析仪、激光扫描共聚焦显微镜、高通量分子互作分析仪、类器官代谢监测仪、冷冻超薄切片系统、电子束光刻机等。预计采购时间2025年6月~7月。序号采购需求概况预算金额(万元)预计采购日期
多个传感器间相互位置关系校准方法
内容说明本发明涉及集成电路制造领域，特别涉及一种多个传感器间相互位置关系校准方法。发明背景投影扫描式(TFT)光刻机的目的是把掩模上图形清晰、正确地成像在涂有光刻胶的基板上，随着基板尺寸的增大，掩模、基板的形变会对套刻结果产生很大的影响，因此必须在掩模或基板上布置更多的标记。为了提高产率，现提出一种
限制生效前，中国67月芯片制造设备进口激增
据英国《金融时报》网站8月25日报道，在美国盟友实施出口限制之前，中国的半导体设备进口量激增，创下新的纪录。 中国海关数据显示，今年6月和7月，中国的芯片生产机器或装置进口总额接近50亿美元，比去年同期的29亿美元增长了70%。 报道称，大部分设备进口自荷兰和日本。这两个国家之前同意与美国合
限制生效前，中国67月芯片制造设备进口激增
据英国《金融时报》网站8月25日报道，在美国盟友实施出口限制之前，中国的半导体设备进口量激增，创下新的纪录。 中国海关数据显示，今年6月和7月，中国的芯片生产机器或装置进口总额接近50亿美元，比去年同期的29亿美元增长了70%。 报道称，大部分设备进口自荷兰和日本。这两个国家之前同意与美国合
光子人工智能芯片助“中国芯”换道超车
算力是传统电子人工智能芯片的1000倍，但功耗只有其百分之一，低延迟还抗电磁干扰，由清华、北大、北交大等高校博士生创业研发的光子人工智能芯片，在技术上实现不少突破，未来可广泛应用于手机、自动驾驶、智能机器人、无人机等领域。近日，该光子人工智能芯片项目落户顺义，将这项新技术推向了台前。 “芯片
这一年，国产技术不断突破
盘点这一年的核心技术：22纳米光刻机、450公斤人造蓝宝石、0.12毫米玻璃、大型航天器回收、盾构机“弃壳返回”、远距离虹膜识别……哪一个不夺人眼球！ 2018年，高新技术成果在各行各业开花结果，在提高产业效能的同时也为人们的生活创造了更多便利。科技创新主体不约而同向着“自主掌握核心技术，打
这一年，国产技术不断突破
盘点这一年的核心技术：22纳米光刻机、450公斤人造蓝宝石、0.12毫米玻璃、大型航天器回收、盾构机“弃壳返回”、远距离虹膜识别……哪一个不夺人眼球！ 2018年，高新技术成果在各行各业开花结果，在提高产业效能的同时也为人们的生活创造了更多便利。科技创新主体不约而同向着“自主掌握核心技术，打破
美、荷、日管制对华芯片制造设备出口－包括但不限于光刻
美国、荷兰、日本关于对华限售芯片制造设备的谈判取得了进展。针对媒体此前对美、荷、日达成协定的报道，荷兰光刻机巨头ASML（NASDAQ：ASML/AMS：ASML）在1月29日发给财新的一份声明中称，已知悉几国政府间就达成一项侧重于先进制程芯片制造技术的协议有了最新进展，其中将包括但不限于先进制程的
全自动匀胶显影系统简介
全自动匀胶显影系统是一种用于信息科学与系统科学、物理学、工程与技术科学基础学科、材料科学领域的工艺试验仪器，于2019年12月5日启用。 技术指标 衬底支持：4英寸，6英寸基片。7个可独立进行控温的热板，高精度热板温度精度+/-0.2℃。匀胶单元每个Cup配置4条光刻胶管路，具备背洗、边缘清
90％靠进口，俄罗斯芯片不担心卡脖子？
科技的快速发展，现在已经是一个技术至上的时代，掌握核心技术就相当于在科技领域占据主导地位。因此芯片领域现在是这个时代的重要部分，芯片是电子技术的核心组织。近年来由于美国的打压，我国勉强走上了自主研发芯片的道路，并取得了巨大的成就。在这个领域，美国不止打压中国，俄罗斯也深受其害。随着美国和俄罗斯之间的
我国首台核心部件100％国产高端晶圆激光切割设备问世
高端智能装备是国之重器，是制造业的基石，尤其是半导体领域内高端智能装备，在国民经济发展中具有举足轻重的作用。手机、电脑、汽车等产品的芯片，离不开半导体。 据中国光谷微信公众号7月11日消息，华工激光半导体产品总监黄伟介绍，近期，该公司制造出我国首台核心部件100%国产化的高端晶圆激光切割设备，
华科大成果入选“光学领域十大社会影响力事件”
刘世元教授团队相关成果原理示意图。受访者供图 1月10日，“2022中国光学领域十大社会影响力事件（Light10）”年度榜单出炉。《中国科学报》记者获悉，该校机械学院刘世元教授团队成功研发了我国首款全自主计算光刻EDA软件，入围榜单。这一款完全自主可控的OPC软件已在宇微光学软件有限公司实现
激光植锡球技术在倒装芯片焊接的应用
我们都知道，影响我国芯片制造发展的主要因素在于光刻机，目前这项技术掌握在国外少数的几家企业手上，我国要自主研发打破被卡脖子，亟待国内科研人士的开发。芯片制造四大基本工艺包括：芯片设计、FPGA验证、晶圆光刻显影、蚀刻、芯片封装等，晶片制作过程最为复杂，需经过湿洗、光刻、 离子注入、干蚀刻、等离子冲洗
我国纳米光刻技术研究取得突破
日前，中科院光电技术研究所微光刻技术与微光学实验室首次提出基于微结构边际的LSP超分辨光刻技术。该技术利用微纳结构边际作为掩模图形，对表面等离子体进行有效激发，其采用普通I-line、G-line光源获得了特征尺寸小于30纳米的超分辨光刻图形。 据相关负责人介绍，传统的微光刻工艺采用尽可能
第二十一届全国机械工程学院院长/系主任联席会议在邕举行
8月8日，由全国机械工程学院院长/系主任联席会议委员会主办、广西大学承办的第二十一届全国机械工程学院院长/系主任联席会议在南宁举行。中国工程院院士郭东明、杨华勇、王树新、马玉山、陈学东出席会议。 本届大会以“深化机械科产教融合 赋能新质生产力发展”为主题，设开幕式、主旨报告、分会场报告、闭幕式
－“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”工作会在京召开
近日，“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项2014年工作务虚会在京召开。会议由科技部曹健林副部长主持，专项第一行政责任人、北京市副市长张工，科技部重大专项办公室、专项领导小组办公室、专项实施管理办公室及科技部、财政部、发展改革委、工信部、中科院等成员单位负责同志、专项咨询委员会及总体专家组
首条量子芯片生产线有了“火眼金睛”
记者日前从安徽省量子计算工程研究中心获悉，我国量子计算机“悟空”即将面世，我国第一条量子芯片生产线正在紧锣密鼓生产“悟空芯”——为“悟空”配套的量子芯片。 为高质量生产我国完全自主可控的量子芯片，在这条量子芯片生产线上采用了一双“火眼金睛”——国内首个专用于量子芯片生产的NDPT-100无损探
天天都在说的芯片，到底是什么？
假设一百年或者几百年之后，回顾2018年到2019年的大国关系，未来的人们可能发明一个新词，或许就叫做芯片战争。虽然这种战争暂时还没听到枪炮声响和看到硝烟，但是对未来世界格局的深远影响，可能不亚于一场次级别的世界大战。这是因为围绕芯片这种国际商品而产生的交易额，是当今全球原油交易市场总额的数
中国严重依赖进口的20项产品大盘点，TEM－SEQ入选
中国制造业目前已取得了举世瞩目的成就，从落后挨打，到现在巨龙腾飞，中国制造人付出了巨大心血和努力。然而不可否认的是，中国目前许多产品仍然高度依赖进口，中国制造在这些领域的研发和生产依然存在难以攻破的技术难关。 这其中有关乎中国工业命脉的核心产品，也有和我们生活息息相关的工业零部件，今天小编就来
“极紫外光刻关键技术研究”通过验收
近日，“极紫外（EUV）光刻关键技术研究”项目验收会在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（以下简称长春光机所）召开，验收会由“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项（02专项）实施管理办公室组织。 会上，评审专家组肯定了项目取得的一系列成果，一致同意项目通过验收，认为该项目的
半导体设备常见类型和分类
作为芯片领域的核心推动力，半导体设备在晶圆制造、封装测试、质量控制和制程过程中扮演着不可替代的角色。以下是一些常见的半导体设备，这些是半导体设备中的一些常见类型，它们共同构成了半导体制造过程中不可或缺的组成部分。一、晶圆制造设备晶圆制造设备是半导体制造过程中的核心设备之一。它包括光刻机、薄膜沉积设备
我国科研团队完成一种新型光刻胶技术初步验证
4月2日，记者从华中科技大学获悉，该校与湖北九峰山实验室组成联合研究团队，突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。相关成果日前发表在《化学工程杂志》上。据介绍，这一具有自主知识产权的光刻胶体系已在生产线上完成了初步工艺验证，并同步完成了各项技术指标的检测优化，实现了从技术开发到成果转