简介离子源离子束的主要参数
①离子束流强 即能够获得的有用离子束的等效电流强度，用电流单位A或mA表示。 ②有用离子百分比 即有用离子束占总离子束的百分比。一般来说，离子源给出的总离子束包括单电荷离子、多电荷离子、各种分子离子和杂质元素离子等的离子束。 ③能散度 由于离子的热运动和引出地点的不同，使得离子源给出的离子束的能量对要求的单一能量有一定离散，一般希望能散度尽量小，在高精度的离子束应用中尤其是这样。 ④束的聚焦性能 以离子束的截面和张角表示。聚焦不好的离子束在传输过程中会使离子大量丢失。获得良好聚焦特性的离子束的最终障碍是束中离子之间的静电排斥力，为了克服这一障碍，应尽早使离子获得较高能量。 ⑤离子源的效率 以离子束形式引出的工作物质占总消耗的工作物质的比例。 ⑥工作寿命 离子源一次安装以后使用的时间。......阅读全文
简介离子源离子束的主要参数
①离子束流强 即能够获得的有用离子束的等效电流强度，用电流单位A或mA表示。 ②有用离子百分比 即有用离子束占总离子束的百分比。一般来说，离子源给出的总离子束包括单电荷离子、多电荷离子、各种分子离子和杂质元素离子等的离子束。 ③能散度 由于离子的热运动和引出地点的不同，使得离子源给出的
离子束的离子源的主要参数
①离子掺杂与离子束改性。从20世纪60年代开始，人们将一定能量的硼、磷或其他元素的离子注入到半导体材料中，形成掺杂。掺杂的深度可用改变离子的能量来控制；掺杂的浓度可通过积分离子流强度来控制。离子注入方法的重复性、可靠性比扩散法好。离子注入掺杂在半导体大规模集成电路的生产中已成为重要环节，用离子注入法
离子源的应用离子束
离子源是用以获得离子束的装置。我们知道，在各类离子源中，用得最多的是等离子体离子源，即用电场将离子从一团等离子体中引出来。这类离子源的主要参数由等离子体的密度、温度和引出系统的质量决定。属于这类离子源的有:潘宁放电型离子源射频离子源、微波离子源、双等离子体源、富立曼离子源等。另一类使用较多的离子
质谱仪器中的离子源简介
质谱仪器中的离子源是仪器的重要组成部分，与仪器的灵敏度、分辨本领等主要性能指标有密切的关系。离子源的作用是使被分析的物质分子电离成离子(正离子及少量的负离子)，并使正离子加速进入质量分析器，因此具有双重功能。在多数情况下，离子源还把产生的离子聚合成一定的几何形状(矩形或圆形)和一定能量的离子束。
简介双等离子体离子源
在非均匀磁场中工作的一种弧放电离子源它的电极系统和磁系统都经过精心安排,使得放电产生的等离子体发生两次收缩（几何箍缩和磁箍缩）。由于引出的离子流强度大、亮度高、而主体结构又比较紧凑，使用十分普遍。 大功率的双等离子体离子源能产生安培级以上的正离子束，是一种有效的强流离子源。正离子被中和以后，就
简介痕量碳硫分析仪的主要参数
1、分析范围： 碳：0.0001%～10% （可扩展至99.99%） 硫：0.0001%～5% （可扩展至99.99%） 2、灵敏度（最小读数）：0.00001% 3、分析精度： 碳：0.0001%或RSD≤0.5% 硫：0.0001%或RSD≤1.0% 4、分析误差： 碳符合I
高低温测试仪的主要参数简介
控制器：进口数显触摸按键，P.I.D 微电脑S.S.R温度控制器（韩国三元ST190仪表） 精度：0.1℃（显示范围） 感温传感器：PT100铂金电阻测温体 控制方式：热平衡调温调方式 温度控制采用P.I.D + S.S.R系统同频道协调控制 具有自动演算的功能，可将温度变化条件立即修
水冷粉碎机的主要参数和结构原理简介
主要技术参数 （1）、机器内腔直径 φ400mm （2）、机器最小粉碎粒度 200目 （3）、电动机功率（用户自配） 30~40KW （4）、机器可工作最高转速 5000r/min 结构原理 在机器内部，由4组刀盘共56把刀片组成的粉碎转子支承在左右端盖的轴承座上作高速旋转，使固体物
聚焦离子束系统知多少？
纳米科技是当今国际上的一个热点。纳米测量学在纳米科技中起着信息采集和分析的不可替代的重要作用，纳米加工是纳米尺度制造业的核心，发展纳米测量学和纳米加工的一个重要方法就是电子束，离子束技术。近年来发展起来的聚焦离子束纳米加工系统用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工，结合扫描电子显微镜实时观察，开辟了从
加速离子束的装置
从离子源获得的离子束的能量一般从几百电子伏到几万电子伏。因为用高引出电压方式获得较高能量的离子束受到击穿的限制，所以必须使离子在电场和磁场中加速,这类装置叫做加速器(见粒子加速器) 使用各种加速器可以使离子获得很高的能量（如几百吉电子伏），也可以使离子减速，以获得能量较低的（如几十电子伏）但流强
聚焦离子束显微镜(FIB)机台和测试方法简介
工作原理聚焦离子束显微镜(FIB)的利用镓(Ga)金属作为离子源，再加上负电场 (Extractor) 牵引尖端细小的镓原子，而导出镓离子束再以电透镜聚焦，经过一连串可变孔径光阑，决定离子束的大小，再经过二次聚焦以很小的束斑轰击样品表面，利用物理碰撞来进行特定图案的加工，一般单粒子束的FIB(Sin
转荷型和溅射型负离子源的介绍
1、转荷型负离子源 利用正离子束转荷产生负离子的装置。正离子束与固体物质表面相互作用，或通过气体靶俘获电子就能转化成负离子束。正离子束可以由小型双等离子体离子源提供。如果采用高频离子源，只要把引出电极的孔道加长，就能得到负离子束。 2、溅射型负离子源 用正离子束去轰击工作物质，就能得到该种
聚焦离子束的工作原理
液态金属离子源离子源是聚焦离子束系统的心脏，真正的聚焦离子束始于液态金属离子源的出现，液态金属离子源产生的离子具有高亮度、极小的源尺寸等一系列优点，使之成为目前所有聚焦离子束系统的离子源。液态金属离子源是利用液态金属在强电场作用下产生场致离子发射所形成的离子源[1、2]。液态金属离子源的基本结
聚焦离子束的工作原理
液态金属离子源离子源是聚焦离子束系统的心脏，真正的聚焦离子束始于液态金属离子源的出现，液态金属离子源产生的离子具有高亮度、极小的源尺寸等一系列优点，使之成为目前所有聚焦离子束系统的离子源。液态金属离子源是利用液态金属在强电场作用下产生场致离子发射所形成的离子源[1、2]。液态金属离子源的基本结构如图
聚焦离子束的工作原理
液态金属离子源离子源是聚焦离子束系统的心脏，真正的聚焦离子束始于液态金属离子源的出现，液态金属离子源产生的离子具有高亮度、极小的源尺寸等一系列优点，使之成为目前所有聚焦离子束系统的离子源。液态金属离子源是利用液态金属在强电场作用下产生场致离子发射所形成的离子源[1、2]。液态金属离子源的基本结构如图
物镜的主要参数
①、放大倍数是指眼睛看到像的大小与对应标本大小的比值。它指的是长度的比值而不是面积的比值。例：放大倍数为100×，指的是长度是1μm的标本，放大后像的长度是100μm，要是以面积计算，则放大了10,000倍。显微镜的总放大倍数等于物镜和目镜放大倍数的乘积。②、数值孔径也叫镜口率，简写NA 或A，是物
单台1200万！南京大学拟采购一套飞行时间二次离子质谱仪
南京大学2023年10至11月政府采购意向-飞行时间二次离子质谱仪，预算金额1200万元，预计采购时间为10月份。详细情况如下：飞行时间二次离子质谱仪项目所在采购意向：南京大学2023年10至11月政府采购意向采购单位：南京大学采购项目名称：飞行时间二次离子质谱仪预算金额：1200.000000
简介水产品药物残留快速检测仪的主要参数
1、主控芯片采用ARM Cortex-A7，RK3288/4核处理器，主频1.88Ghz，运转速度更快速，稳定性更强。 2、显示方式：7英寸液晶触摸屏显示，人性化中文操作界面，读数直观、简单。 3、交直流两用，直流12V供电，可连接车载电源，可配6ah大容量充电锂电池，方便户外流动测试。
离子束切割抛光仪
离子束切割抛光仪是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器，于2018年5月23日启用。 技术指标 抛光角度: +10° 到 -10° ，每个离子枪可独立调节 离子束能量: 100 V 到 8.0 kV 离子束流密度: 10 mA/cm2 峰值 抛光速度: 300 μm/h（8.0 kV条件下对于
血气主要参数
AVL Compact 2为微处理机控制的全自动血气分析仪其测量参数为：pH 酸碱度 7.35瓇7.45 (45~35nmol)PCO2 二氧化碳分压 35~45mmhg (4.67~6.0kpa)PO2 氧分压 75~100mmhg (10~13.3kpa)BP 当地大气压根据以上参数,并结合病人
漫谈离子源
样品的离子化是进行质谱分析的重要步骤，如何高效地进行离子化对质谱仪的灵敏度、分辨率等有着重要的影响。 离子源是对样品进行电离的场所，离子源的主要功能是把中性的原子（或分子）电离成离子，并形成具有一定能量的离子束。不同的质谱仪根据分析用途的不同配备有不同的离子源，这些离子源由于电离方式不同，具有不同的
DART离子源
由美国J. Laramee和R. Cody（美JEOL公司）于2005年发明，现由IonSense公司商品化生产、制造和销售。获得2005年Pittcon大奖。 DART已广泛应用于药物发现与开发（ADME）、食品药品安全控制与检测、司法鉴定、临床检验、材料分析、天然产品品质鉴定、及相关化学和
ICP离子源
使用氩气作为等离子气的原因：氩的第一电离能高于绝大多数元素的第一电离能(除He、F、Ne外)，且低于大多数元素的第二电离能(除Ca、Sr、Ba等)。因此，大多数元素在氩气等离子体环境中，只能电离成单电荷离子，进而可以很容易地由质谱仪器分离并加以检测。ICP离子源中的物质1） 已电离的待测元素：As
单向晶闸管的主要参数
（1）额定正向平均电流 定义：在规定的环境温度和散热条件下，允许通过阳极和阴极之间的电流平均值。 （2）维持电流 定义：在规定的环境温度、控制极断开的条件下，保证晶闸管处于导通状态所需要的小正向电流，一般为几毫安至几十毫安。 （3）控制极触发电压和电流 定义：在环境
兰州重离子加速器首次实现离子源脉冲束注入运行
1月17日至22日，中国科学院近代物理研究所加速器运行团队，利用超导离子源SECRAL首次为兰州重离子加速器（HIRFL）提供了约120电子微安的40Ar12+脉冲束（图1），并成功注入HIRFL储存环CSR（图2），实现了束流的加速和累积（图3），累计运行超过48小时。 Afterglow工
东方超环中性束注入系统成功引出3兆瓦离子束
近日，中科院合肥物质科学研究院等离子体所承担的大科学工程“东方超环”（EAST）辅助加热中性束注入系统（NBI）兆瓦级强流离子源分别完成了氢离子束功率3兆瓦（MW）、脉冲宽度毫秒500（ms）的高能量离子束引出实验，以及束功率1MW、脉冲宽度4s的长脉冲离子束引出实验。本轮实验获
质谱离子源的作用
离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是 一种流强大产额高的离子源各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。 气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞，带电粒子束使工作物质溅
质谱离子源的作用
离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是 一种流强大产额高的离子源各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。 气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞，带电粒子束使工作物质溅
关于电子轰击离子源的机理介绍
极面约0.2特斯拉的磁铁如NS相吸放置，离子束通过的中，位置具有较大的场强，由此引起离子束的质量歧视效应（在到选出口缝前由于电子束聚焦磁铁的影响，离子束已按质荷比偏离，因而输出的离子流与质量有关）。 在性能要求很严的离子源中，在设计和装配时应充分考虑这一位移量和出射角的变化，用机械方法纠正。有
离子源加热的问题
现象： 今天我更换5975的离子源，换上一个清洗过的离子源，刚开始抽真空时便嗅到一股强烈的塑料烧焦的味道从MSD中传出，打开instrument control界面时发现离子源温度显示为511摄氏度随后离子源报错。放真空后重新安装离子源后，再抽真空又能嗅到强烈的焦味，检查真空状态时仍显示离