全反射X射线荧光光谱仪的技术指标和功能
全反射X射线荧光光谱仪是一种用于材料科学领域的分析仪器，于2016年11月28日启用。 一、技术指标 可分析元素范围：Al~U（靶元素和与靶元素干扰严重的元素除外） 浓度范围：10-9~100% 检出限：Ni≤2pg 激发源：最大功率≥30W；最大激发电压≥50kV，最大激发电流≥1mA 探测器：SDD探测器，活性面积≥30mm2，能量分辨率≤145eV（Mn Kα）， 最大计数率≥100kcps 测量强度的重复性：RSD≤1%（扣除技术统计误差）。 二、主要功能 用于分析液体、粉末、固体样品中常量、次量和痕量元素的快速分析，能够迅速准确分析从Al~U（除惰性气体及少部分元素外）的所有元素，含量范围从10-9~100%。......阅读全文
全反射X射线荧光光谱仪的技术指标和功能
全反射X射线荧光光谱仪是一种用于材料科学领域的分析仪器，于2016年11月28日启用。 一、技术指标 可分析元素范围：Al~U（靶元素和与靶元素干扰严重的元素除外） 浓度范围：10-9~100% 检出限：Ni≤2pg 激发源：最大功率≥30W；最大激发电压≥50kV，最大激发电流≥1mA 探
X射线荧光光谱仪的全反射荧光
如果n1>n2，则介质1相对于介质2为光密介质，介质2相对于介质1为光疏介质。对于X射线，一般固体与空气相比都是光疏介质。所以，如果介质1是空气，那么α1>α2，即折射线会偏向界面。如果α1足够小，并使α2=0，此时的掠射角α1称为临界角α临界。当α1
全反射X射线荧光光谱仪技术相关介绍
全反射现象由Compton于1923年发现，1971年Yoneda等首次提出利用全反射现象来激发被测元素的特征谱线。这是一种超衡量检测XRF技术。 XRF于1981年在德国问世,实质上是EDXRF的拓展,与常规EDXRF所具有的关键区别就在于其反射系统：TXRF通常有一级、二级或三级反射系
什么是全反射X射线荧光光谱仪技术？
全反射现象由Compton于1923年发现，1971年Yoneda等首次提出利用全反射现象来激发被测元素的特征谱线。这是一种超衡量检测XRF技术。 XRF于1981年在德国问世,实质上是EDXRF的拓展,与常规EDXRF所具有的关键区别就在于其反射系统：TXRF通常有一级、二级或三级反射系统
全反射X射线荧光光谱仪(TXRF)组成结构
反射X射线荧光光谱仪(TXRF)主要包括：X射线源、光路系统、进样系统、探测器、数据处理系统及其他附件，下文主要介绍前四部分。 一、X射线源：由高压发生器及射线管组成。提供初级X射线，对样品中待测元素进行激发得到X射线荧光，其强度正比于初级X射线的强度。通常，XRD或XRF发生器便可满足TXR
TXRF全反射X射线荧光光谱仪的相关介绍
TXRF全反射X射线荧光光谱仪快速多元素痕量分析可对固体、粉末、液体、悬浮物、过滤物、大气飘尘、薄膜样品等进行定性、定量分析，元素范围13Al-92U。 需要样品量少，液体及悬浮物样品1-50微升，粉末样品10微克以内。 便携式全反射荧光仪，设备小巧，一体化结构设计，不需要任何辅助设备及气体
全反射X射线荧光(TXRF)应用简介
全反射X射线荧光(TXRF)具有优异的检出限（低至ppt或pg），与其它具有类似元素检出限的检测手段相比，具有基体效应小、样品需求量小、操作相对简单、运行成本低等优势。 TXRF一次可以对70多种元素进行同时分析，这是原子吸收ETAAS和FAAS方法难以完成的。与质谱仪中的ICP-MS和GDM
全反射X射线荧光光谱仪(TXRF)原理及结构简述
X射线荧光(XRF)是当原级X射线照射样品时，受激原子内层电子产生能级跃迁所发射的特征二次X射线。该二次X射线的能量及强度可被探测，与样品内待测元素的含量相关，此为XRF光谱仪的理论依据。 根据分光系统的不同，XRF光谱仪主要有波长色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)两种，二者结构示
X射线荧光测厚仪的原理和技术指标
原理 当原子受到原级X射线或其他微观粒子的激发使原子内层电子电离而出现空位，原子内层电子重新配位，较外层的电子跃迁到内层空位，并同时放出次级X射线，即X射线荧光。X射线荧光的波长对不同元素是特征的，因此可以根据元素X射线荧光特征波长对元素做定性分析，根据元素释放出来的荧光强度，来进行定量分析如
理学推出全反射X射线荧光光谱仪－镉元素检测有优势
近日，日本理学宣布推出新一代理学NANOHUNTER II台式全反射X射线荧光（TXRF）光谱仪，液体或固体表面高灵敏度痕量元素分析达到ppb水平。全反射X射线荧光光谱通过一种途径使X射线入射光束刚好擦过样品，来实现低背景噪音、高灵敏度的超微量元素测量。NANOHUNTER II台式全反射X射线
手持X射线荧光光谱仪的主要技术指标
1. 超高的检测精度精确度高。 2. 超高的稳定性，超高的重复性。 3. 优异的线性相关性。 4. 采用了完全重新设计的射线管、无高压电源线、无 RF 噪音、更好的X射线屏蔽。 5. 结构更精密，缩短了射线管、探测器与被测样品之间的距离，对于某些应用信号提高了~40%. 6. 新的滤波
全反射X荧光光谱仪的特点介绍
1、单内标校正，有效简化了定量分析，无基体影响； 2、对于任何基体的样品可单独进行校准和定量分析； 3、多元素实时分析，可进行痕量和超痕量分析； 4、不受样品的类型和不同应用需求影响； 5、的液体或固体样品的微量分析，分析所需样品量小； 6、优良的检出限水平，元素分析范围从钠覆盖到钚；
全反射X荧光光谱仪的基本介绍
全反射荧光光谱仪是一种用于环境科学技术及资源科学技术领域的分析仪器，于2014年12月1日启用。 1、技术指标 检出限可以达到 ppb 和 ppm 级别，S2 PICOFOX 非常适用于痕量元素分析。在样品数量较少、液体样品含有高基质以及样品种类经常变化的情况下，优势十分明显。 2、主要功
全反射X射线荧光分析仪原理及特点
全反射X荧光光谱仪原理是基于X荧光能谱法，但与X射线能谱形成对比的是“传统能谱采用原级X光束以45°角轰击样品，而TXRF采用毫弧度的临界角。由于采用此种近于切线方向的入射角，原级X光束几乎可以全部被反射，照射在样品表面后，可以zui大程度上避免样品载体吸收光束和减小散射的发生，同时减小了载体
TXRF8全反射X射线荧光分析仪
全反射X荧光（TXRF）分析技术是近年来才发展起来的多元素同时分析技术。TXRF利用全反射技术，使样品荧光的杂散本底比X荧光能量色散谱仪（EDXRF）本底降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏度，避免了XRF测量中通常遇到的本底增强或减弱效应；同时TXRF技术又继承了EDXRF方法的优越
TXRF8全反射X射线荧光分析仪
产品介绍 全反射X荧光（TXRF）分析技术是近年来才发展起来的多元素同时分析技术。TXRF利用全反射技术，使样品荧光的杂散本底比X荧光能量色散谱仪（EDXRF）本底降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏度，避免了XRF测量中通常遇到的本底增强或减弱效应；同时TXRF技术又继承了ED
x射线荧光光谱仪材料辨识功能
x射线荧光光谱仪是一种快速的、非破坏式的物质测量方法。x射线荧光光谱仪检测技术的改进提高了检测速度。探测器技术及用于脉冲信号处理的电子学线路的迅速发展，在允许的死时间情况下，探测器接收光子的数量提高了1个数量级以上。 仪器是较新型X射线荧光光谱仪，具有重现性好，测量速度快，灵敏度高的特点。能
X射线荧光光谱仪中X射线的由来和性质分析
X射线荧光光谱仪（XRF）由激发源（X射线管）和探测系统构成。X射线管产生入射X射线（一次X射线），激发被测样品。受激发的样品中的每一种元素会放射出二次X射线，并且不同的元素所放射出的二次X射线具有特定的能量特性或波长特性。探测系统测量这些放射出来的二次X射线的能量及数量。然后，仪器软件将探测系统所
单波长色散X射线荧光光谱仪技术指标
符合ASTM 7039，GB/T 11140和SH/T 0842标准要求，硫重复性0.8 ppm (2ppm), 1.8 ppm (10ppm), 12.4 ppm (500ppm)； 检测范围0.15ppm至3000ppm， 样品杯容积4mL,分析时间30至300秒；即插即用，样品准备快速，无
波长色散台式X射线荧光光谱仪的技术指标
分析元素范围：从氟到铀（F→U）。分析：固体、液体、粉末、合金以及薄膜。大气：空气、氦气或真空。X射线管：50kV，200W Pd阳极。一次光束滤光片：Zr。探测器：SC。 晶体：三位转换器。 自动进样器：12位标准。真空：旋转泵标准。 电源：100–120V(50/60Hz)15A或200–2
X射线荧光光谱仪X射线吸收的介绍
当X射线穿过物质时，一方面受散射作用偏离原来的传播方向，另一方面还会经受光电吸收。光电吸收效应会产生X射线荧光和俄歇吸收，散射则包含了弹性和非弹性散射作用过程。 当一单色X射线穿过均匀物体时，其初始强度将由I0衰减至出射强度Ix，X射线的衰减符合指数衰减定律： 式中，μ为质量衰减系数；ρ为样
X射线荧光光谱仪X射线的衍射介绍
相干散射与干涉现象相互作用的结果可产生X射线的衍射。X射线衍射与晶格排列密切相关，可用于研究物质的结构。 其中一种用已知波长λ的X射线来照射晶体样品，测量衍射线的角度与强度，从而推断样品的结构，这就是X射线衍射结构分析（XRD）。 另一种是让样品中发射出来的特征X射线照射晶面间距d已知的晶体
概述X射线荧光光谱仪X射线的产生
根据经典电磁理论，运动的带电粒子的运动速度发生改变时会向外辐射电磁波。实验室中常用的X射线源便是利用这一原理产生的：利用被高压加速的电子轰击金属靶，电子被金属靶所减速，便向外辐射X射线。这些X射线中既包含了连续谱线，也包括了特征谱线。 1、连续谱线 连续光谱是由高能的带电粒子撞击金属靶面时受
X射线荧光光谱仪X射线散射的介绍
除光电吸收外，入射光子还可与原子碰撞，在各个方向上发生散射。散射作用分为两种，即相干散射和非相干散射。 相干散射：当X射线照射到样品上时，X射线便与样品中的原子相互作用，带电的电子和原子核就跟随着X射线电磁波的周期变化的电磁场而振动。因原子核的质量比电子大得多，原子核的振动可忽略不计，主要是原
»－正文－TXRF8全反射X射线荧光分析仪
产品介绍 全反射X荧光（TXRF）分析技术是近年来才发展起来的多元素同时分析技术。TXRF利用全反射技术，使样品荧光的杂散本底比X荧光能量色散谱仪（EDXRF）本底降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏度，避免了XRF测量中通常遇到的本底增强或减弱效应；同时TXRF技术又继承了ED
X－射线荧光光谱仪
用X射线照射试样时，试样可以被激发出各种波长的荧光X射线，需要把混合的X射线按波长（或能量）分开，分别测量不同波长（或能量）的X射线的强度，以进行定性和定量分析，为此使用的仪器叫X射线荧光光谱仪。由于X光具有一定波长，同时又有一定能量，因此，X射线荧光光谱仪有两种基本类型：波长色散型和能量色散型。图
X射线荧光光谱仪X射线光管结构
常规X射线光管主要采用端窗和侧窗两种设计。普通X射线光管一般由真空玻璃管、阴极灯丝、阳极靶、铍窗以及聚焦栅极组成，并利用高压电缆与高压发生器相接，同时高功率光管还需要配有冷却系统。侧窗和端窗X射线光管结构如图6和图7所示。 当电流流经X射线光管灯丝线圈时，引起阴极灯丝发热发光，并向四周发射电子
波长色散型X荧光光谱仪的技术指标和功能
波长色散型X-荧光光谱仪是一种用于地球科学、工程与技术科学基础学科、能源科学技术领域的分析仪器，于2006年06月09日启用。 1、技术指标 RSD=0.09% 计数率按仪器技术规定的测试条件， Cu-Kα为808Kcps； P-Kα为259 Kcps； Al-Kα在PET晶体下为452 K
X射线荧光光谱仪和X射线荧光能谱仪特点对比
X射线荧光光谱仪和X射线荧光能谱仪各有优缺点。前者分辨率高，对轻、重元素测定的适应性广。对高低含量的元素测定灵敏度均能满足要求。后者的X射线探测的几何效率可提高2～3数量级，灵敏度高。可以对能量范围很宽的X射线同时进行能量分辨(定性分析)和定量测定。对于能量小于2万电子伏特左右的能谱的分辨率差。
X射线衍射光谱仪的技术指标
初级准直器：3位以上程序控制, 适合重轻元素。 晶体选择：≥5块晶体, 必须含有2块弯晶及人工多层膜晶体。 多道分析器：总道数≥500道 从光管阳极到样品的距离≤16mm，以充分利用光管的X射线发射强度，保证测量灵敏度。 位置面罩转换器，适合做不同尺寸的样品，电脑控制自动转换。 充氦液体测量系统