TXRF8全反射X射线荧光分析仪
产品介绍 全反射X荧光（TXRF）分析技术是近年来才发展起来的多元素同时分析技术。TXRF利用全反射技术，使样品荧光的杂散本底比X荧光能量色散谱仪（EDXRF）本底降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏度，避免了XRF测量中通常遇到的本底增强或减弱效应；同时TXRF技术又继承了EDXRF方法的优越性。它突出的优点是检出限低（pg、ng/mL级以下）、用样量少（μL、ng级）、准确度高（可用内标法）、简便、快速，而且可进行无损分析，成为一种不可替代的全新的元素分析方法。国际上每两年召开一次TXRF分析技术国际讨论会，该技术被誉为在分析领域是最具有竞争力的分析手段、在原子谱仪领域内处于领先地位。 在X荧光谱仪范围内，与波长色散谱仪（WDXRF）方法比较，由于TXRF分析技术用样量很少，也不需要制作样品的烦琐过程，又没有本底增强或减弱效应，不需要每次对不同的基体做不同的基体校准曲线。另外由于使用内标法，对环境温......阅读全文
TXRF8全反射X射线荧光分析仪
全反射X荧光（TXRF）分析技术是近年来才发展起来的多元素同时分析技术。TXRF利用全反射技术，使样品荧光的杂散本底比X荧光能量色散谱仪（EDXRF）本底降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏度，避免了XRF测量中通常遇到的本底增强或减弱效应；同时TXRF技术又继承了EDXRF方法的优越
TXRF8全反射X射线荧光分析仪
产品介绍 全反射X荧光（TXRF）分析技术是近年来才发展起来的多元素同时分析技术。TXRF利用全反射技术，使样品荧光的杂散本底比X荧光能量色散谱仪（EDXRF）本底降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏度，避免了XRF测量中通常遇到的本底增强或减弱效应；同时TXRF技术又继承了ED
»－正文－TXRF8全反射X射线荧光分析仪
产品介绍 全反射X荧光（TXRF）分析技术是近年来才发展起来的多元素同时分析技术。TXRF利用全反射技术，使样品荧光的杂散本底比X荧光能量色散谱仪（EDXRF）本底降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏度，避免了XRF测量中通常遇到的本底增强或减弱效应；同时TXRF技术又继承了ED
全反射X射线荧光分析仪原理及特点
全反射X荧光光谱仪原理是基于X荧光能谱法，但与X射线能谱形成对比的是“传统能谱采用原级X光束以45°角轰击样品，而TXRF采用毫弧度的临界角。由于采用此种近于切线方向的入射角，原级X光束几乎可以全部被反射，照射在样品表面后，可以zui大程度上避免样品载体吸收光束和减小散射的发生，同时减小了载体
全反射X射线荧光(TXRF)应用简介
全反射X射线荧光(TXRF)具有优异的检出限（低至ppt或pg），与其它具有类似元素检出限的检测手段相比，具有基体效应小、样品需求量小、操作相对简单、运行成本低等优势。 TXRF一次可以对70多种元素进行同时分析，这是原子吸收ETAAS和FAAS方法难以完成的。与质谱仪中的ICP-MS和GDM
X射线荧光光谱仪的全反射荧光
如果n1>n2，则介质1相对于介质2为光密介质，介质2相对于介质1为光疏介质。对于X射线，一般固体与空气相比都是光疏介质。所以，如果介质1是空气，那么α1>α2，即折射线会偏向界面。如果α1足够小，并使α2=0，此时的掠射角α1称为临界角α临界。当α1
全反射X射线荧光光谱仪(TXRF)组成结构
反射X射线荧光光谱仪(TXRF)主要包括：X射线源、光路系统、进样系统、探测器、数据处理系统及其他附件，下文主要介绍前四部分。 一、X射线源：由高压发生器及射线管组成。提供初级X射线，对样品中待测元素进行激发得到X射线荧光，其强度正比于初级X射线的强度。通常，XRD或XRF发生器便可满足TXR
什么是全反射X射线荧光光谱仪技术？
全反射现象由Compton于1923年发现，1971年Yoneda等首次提出利用全反射现象来激发被测元素的特征谱线。这是一种超衡量检测XRF技术。 XRF于1981年在德国问世,实质上是EDXRF的拓展,与常规EDXRF所具有的关键区别就在于其反射系统：TXRF通常有一级、二级或三级反射系统
全反射X射线荧光光谱仪技术相关介绍
全反射现象由Compton于1923年发现，1971年Yoneda等首次提出利用全反射现象来激发被测元素的特征谱线。这是一种超衡量检测XRF技术。 XRF于1981年在德国问世,实质上是EDXRF的拓展,与常规EDXRF所具有的关键区别就在于其反射系统：TXRF通常有一级、二级或三级反射系
TXRF全反射X射线荧光光谱仪的相关介绍
TXRF全反射X射线荧光光谱仪快速多元素痕量分析可对固体、粉末、液体、悬浮物、过滤物、大气飘尘、薄膜样品等进行定性、定量分析，元素范围13Al-92U。 需要样品量少，液体及悬浮物样品1-50微升，粉末样品10微克以内。 便携式全反射荧光仪，设备小巧，一体化结构设计，不需要任何辅助设备及气体
全反射X射线荧光光谱仪(TXRF)原理及结构简述
X射线荧光(XRF)是当原级X射线照射样品时，受激原子内层电子产生能级跃迁所发射的特征二次X射线。该二次X射线的能量及强度可被探测，与样品内待测元素的含量相关，此为XRF光谱仪的理论依据。 根据分光系统的不同，XRF光谱仪主要有波长色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)两种，二者结构示
X射线荧光分析仪的优点
对于已压铸好的机械零件可以做到无损检测，而不毁坏样品。 测试速率高，可以在较少时间内进行大量样品测试，分析结果可以通过计算机直接连网输出。 分析速度较快。 对于纯金属可采用无标样分析，精度能达分析要求。 不需要专业实验室与操作人员，不引入其它对环境有害的物质。
X射线荧光分析仪的介绍
X射线荧光分析仪主要由激发、色散（波长和能量色散）、探测、记录和测量以及数据处理等部分组成。X射线光谱仪与X射线能谱仪两类分析仪器有其相似之处，但在色散和探测方法上却完全不同。在激发源和测量装置的要求上，两类仪器也有显著的区别。X射线荧光分析仪按其性能和应用范围，可分为实验室用的X射线荧光光谱仪
X射线荧光分析仪的缺点
关于非金属和界于金属和非金属之间的元素很难做到精确检测。在用基本参数法测试时，如果测试样品里含有C、H、O等元素，会出现误差。 不能作为仲裁分析方法，检测结果不能作为国家认证根据，不能区分元素价态。 对于钢铁等含有非金属元素的合金，需要代表性样品进行标准曲线绘制，分析结果的精确性是建立在标样
X射线荧光分析仪的优点
对于已压铸好的机械零件可以做到无损检测，而不毁坏样品。 测试速率高，可以在较少时间内进行大量样品测试，分析结果可以通过计算机直接连网输出。 分析速度较快。 对于纯金属可采用无标样分析，精度能达分析要求。 不需要专业实验室与操作人员，不引入其它对环境有害的物质。
X射线荧光分析仪的缺点
关于非金属和界于金属和非金属之间的元素很难做到精确检测。在用基本参数法测试时，如果测试样品里含有C、H、O等元素，会出现误差。 不能作为仲裁分析方法，检测结果不能作为国家认证根据，不能区分元素价态。 对于钢铁等含有非金属元素的合金，需要代表性样品进行标准曲线绘制，分析结果的精确性是建立在标样
全反射X射线荧光光谱仪的技术指标和功能
全反射X射线荧光光谱仪是一种用于材料科学领域的分析仪器，于2016年11月28日启用。 一、技术指标 可分析元素范围：Al~U（靶元素和与靶元素干扰严重的元素除外） 浓度范围：10-9~100% 检出限：Ni≤2pg 激发源：最大功率≥30W；最大激发电压≥50kV，最大激发电流≥1mA 探
X射线荧光（XRF）：理解特征X射线
什么是XRF？ X射线荧光定义：由高能X射线或伽马射线轰击激发材料所发出次级（或荧光）X射线。这种现象广泛应用于元素分析。 XRF如何工作？ 当高能光子（X射线或伽马射线）被原子吸收，内层电子被激发出来，变成“光电子”，形成空穴，原子处于激发态。外层电子向内层跃迁，发射出能量等于两级能
理学推出全反射X射线荧光光谱仪－镉元素检测有优势
近日，日本理学宣布推出新一代理学NANOHUNTER II台式全反射X射线荧光（TXRF）光谱仪，液体或固体表面高灵敏度痕量元素分析达到ppb水平。全反射X射线荧光光谱通过一种途径使X射线入射光束刚好擦过样品，来实现低背景噪音、高灵敏度的超微量元素测量。NANOHUNTER II台式全反射X射线
选购X射线荧光分析仪的误区
听别人多，看自己少。用户在设备选型时经常会开展一些调研考察，一方面了解一些各种仪器及厂家的基本情况，作一些相互比较；另一方面会去一些与自己情况类似的用户那里考察。这当然是必要的。但最重要的还是要根据自己的实际情况和具体需求来选择。比如:以全厂质量控制为主要目的，样品种类多，需要做全分析，准确度要
X射线荧光分析仪的发展历程
1895年伦琴发现X射线； 1910年特征X射线光谱的发现，为X射线光谱学的建立奠定了基础； 20世纪50年代商用X射线发射与荧光光谱仪的问世，使得X射线光谱学技术进入了实用阶段； 60年代能量色散型X射线光谱仪的出现，促进了X射线光谱学仪器的迅速发展，并使现场和原位X射线光谱分析成为可能
X射线荧光分析仪的主要分类
根据分光方式的不同，X射线荧光分析可分为能量色散和波长色散两类，也X射线荧光分析就是通常所说的能谱仪和波谱仪，缩写为EDXRF和WDXRF。通过测定荧光X射线的能量实现对被测样品的分析的方式称之为能量色散X射线荧光分析，相应的仪器称之为能谱仪，通过测定荧光X射线的波长实现对被测样品分析的方式称之为波
选择X射线荧光分析仪的误区
强调“荧光”，许多用户误认为只有用X光管作为激发源的管激发仪器才是X荧光仪，一味地强调所谓“荧光”。事实上，如前所述，无论是采用X光管还是采用放射性同位素源作为激发源，只要是由X射线激发、通过测定被测样品发出的荧光X射线得出其化学成分及含量的仪器，都是X荧光分析仪。 源激发和管激发各有优缺点。
简述X射线荧光分析仪的产品特点
1、在测定微量成分时，由于X射线管的连续X射线所产生的散射线会产生较大的背景，致使目标峰的观测比较困难。为了降低或消除背景和特征谱线等的散射X射线对高灵敏度分析的影响，此荧光分析仪配置了4种可自动切换的滤光片，有效地降低了背景和散射X射线的干扰，调整出最具感度的辐射，进一步提高了S/N的比值，从
选购X射线荧光分析仪的注意点
重价格轻服务。价格当然是选购商品的重要因素，但不应当是决定性因素。分析仪器各部件质量及其价格悬殊极大，并且直接决定了仪器的售价，单纯追求价格便宜，很难保证质量。对于X荧光分析仪这样的设备来说，服务往往更为重要。这里所说的服务不仅指安装调试、备品备件供应、维修服务等，更重要的是应用技术服务。对于大
质子激发X射线荧光分析的X－射线谱
在质子X 射线荧光分析中所测得的X 射线谱是由连续本底谱和特征X 射线谱合成的叠加谱。样品中一般含有多种元素，各元素都发射一组特征X 射线谱，能量相同或相近的谱峰叠加在一起，直观辨认谱峰相当困难，需要通过复杂的数学处理来分解X 射线谱。解谱包括本底的扣除、谱的平滑处理、找峰和定峰位、求峰的半高宽
全反射X荧光光谱仪的基本介绍
全反射荧光光谱仪是一种用于环境科学技术及资源科学技术领域的分析仪器，于2014年12月1日启用。 1、技术指标 检出限可以达到 ppb 和 ppm 级别，S2 PICOFOX 非常适用于痕量元素分析。在样品数量较少、液体样品含有高基质以及样品种类经常变化的情况下，优势十分明显。 2、主要功
全反射X荧光光谱仪的特点介绍
1、单内标校正，有效简化了定量分析，无基体影响； 2、对于任何基体的样品可单独进行校准和定量分析； 3、多元素实时分析，可进行痕量和超痕量分析； 4、不受样品的类型和不同应用需求影响； 5、的液体或固体样品的微量分析，分析所需样品量小； 6、优良的检出限水平，元素分析范围从钠覆盖到钚；
X射线荧光分析仪的基本信息介绍
X 射线荧光光谱仪的不断完善和发展所带动的X 射线荧光分析技术已被广泛用于冶金、地质、矿物、石油、化工、生物、医疗、刑侦、考古等诸多部门和领域。X 射线荧光光谱分析不仅成为对其物质的化学元素、物相、化学立体结构、物证材料进行试测，对产品和材料质量进行无损检测，对人体进行医检和微电路的光刻检验等的
全球与中国X射线荧光分析仪市场现状
亚太地区是最大的市场，约占37%的市场份额。其次是北美和欧洲，约占55%的市场份额。主要的生产厂商有AMETEK, Thermo Fisher, Shimadzu, Rigaku, Oxford-Instruments, HORIBA, Hitachi High-tech, Olympus Inno