全反射X荧光光谱仪的特点介绍
1、单内标校正，有效简化了定量分析，无基体影响； 2、对于任何基体的样品可单独进行校准和定量分析； 3、多元素实时分析，可进行痕量和超痕量分析； 4、不受样品的类型和不同应用需求影响； 5、的液体或固体样品的微量分析，分析所需样品量小； 6、优良的检出限水平，元素分析范围从钠覆盖到钚； 7、动态线性范围； 8、无需任何化学前处理，无记忆效应； 9、非破坏性分析，运行成本低廉。......阅读全文
全反射X荧光光谱仪的特点介绍
1、单内标校正，有效简化了定量分析，无基体影响； 2、对于任何基体的样品可单独进行校准和定量分析； 3、多元素实时分析，可进行痕量和超痕量分析； 4、不受样品的类型和不同应用需求影响； 5、的液体或固体样品的微量分析，分析所需样品量小； 6、优良的检出限水平，元素分析范围从钠覆盖到钚；
全反射X荧光光谱仪的基本介绍
全反射荧光光谱仪是一种用于环境科学技术及资源科学技术领域的分析仪器，于2014年12月1日启用。 1、技术指标 检出限可以达到 ppb 和 ppm 级别，S2 PICOFOX 非常适用于痕量元素分析。在样品数量较少、液体样品含有高基质以及样品种类经常变化的情况下，优势十分明显。 2、主要功
X射线荧光光谱仪的全反射荧光
如果n1>n2，则介质1相对于介质2为光密介质，介质2相对于介质1为光疏介质。对于X射线，一般固体与空气相比都是光疏介质。所以，如果介质1是空气，那么α1>α2，即折射线会偏向界面。如果α1足够小，并使α2=0，此时的掠射角α1称为临界角α临界。当α1
全反射X射线荧光光谱仪技术相关介绍
全反射现象由Compton于1923年发现，1971年Yoneda等首次提出利用全反射现象来激发被测元素的特征谱线。这是一种超衡量检测XRF技术。 XRF于1981年在德国问世,实质上是EDXRF的拓展,与常规EDXRF所具有的关键区别就在于其反射系统：TXRF通常有一级、二级或三级反射系
TXRF全反射X射线荧光光谱仪的相关介绍
TXRF全反射X射线荧光光谱仪快速多元素痕量分析可对固体、粉末、液体、悬浮物、过滤物、大气飘尘、薄膜样品等进行定性、定量分析，元素范围13Al-92U。 需要样品量少，液体及悬浮物样品1-50微升，粉末样品10微克以内。 便携式全反射荧光仪，设备小巧，一体化结构设计，不需要任何辅助设备及气体
全反射X射线荧光光谱仪(TXRF)组成结构
反射X射线荧光光谱仪(TXRF)主要包括：X射线源、光路系统、进样系统、探测器、数据处理系统及其他附件，下文主要介绍前四部分。 一、X射线源：由高压发生器及射线管组成。提供初级X射线，对样品中待测元素进行激发得到X射线荧光，其强度正比于初级X射线的强度。通常，XRD或XRF发生器便可满足TXR
什么是全反射X射线荧光光谱仪技术？
全反射现象由Compton于1923年发现，1971年Yoneda等首次提出利用全反射现象来激发被测元素的特征谱线。这是一种超衡量检测XRF技术。 XRF于1981年在德国问世,实质上是EDXRF的拓展,与常规EDXRF所具有的关键区别就在于其反射系统：TXRF通常有一级、二级或三级反射系统
全反射荧光光谱仪基本介绍
全反射荧光光谱仪是一种用于环境科学技术及资源科学技术领域的分析仪器，于2014年12月1日启用。 技术指标 检出限可以达到 ppb 和 ppm 级别，S2 PICOFOX 非常适用于痕量元素分析。在样品数量较少、液体样品含有高基质以及样品种类经常变化的情况下，优势十分明显。 主要功能 便
全反射X射线荧光分析仪原理及特点
全反射X荧光光谱仪原理是基于X荧光能谱法，但与X射线能谱形成对比的是“传统能谱采用原级X光束以45°角轰击样品，而TXRF采用毫弧度的临界角。由于采用此种近于切线方向的入射角，原级X光束几乎可以全部被反射，照射在样品表面后，可以zui大程度上避免样品载体吸收光束和减小散射的发生，同时减小了载体
X荧光光谱仪的特点介绍
EXF-10A 是一款具有三重X射线防护措施；人性化的操作界面；应用α算法、FP法、经验系数法、基本参数法分析软件。满足RoHS/WEEE相关管控要求，完全符合国际电工委员会IEC62321标准及中国环保标准所规定的技术要求和技术规范。 EXF-10A适用于工厂来料及制程控制中的有害物质检测，铅(
全反射X射线荧光(TXRF)应用简介
全反射X射线荧光(TXRF)具有优异的检出限（低至ppt或pg），与其它具有类似元素检出限的检测手段相比，具有基体效应小、样品需求量小、操作相对简单、运行成本低等优势。 TXRF一次可以对70多种元素进行同时分析，这是原子吸收ETAAS和FAAS方法难以完成的。与质谱仪中的ICP-MS和GDM
全反射X射线荧光光谱仪(TXRF)原理及结构简述
X射线荧光(XRF)是当原级X射线照射样品时，受激原子内层电子产生能级跃迁所发射的特征二次X射线。该二次X射线的能量及强度可被探测，与样品内待测元素的含量相关，此为XRF光谱仪的理论依据。 根据分光系统的不同，XRF光谱仪主要有波长色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)两种，二者结构示
全反射X射线荧光光谱仪的技术指标和功能
全反射X射线荧光光谱仪是一种用于材料科学领域的分析仪器，于2016年11月28日启用。 一、技术指标 可分析元素范围：Al~U（靶元素和与靶元素干扰严重的元素除外） 浓度范围：10-9~100% 检出限：Ni≤2pg 激发源：最大功率≥30W；最大激发电压≥50kV，最大激发电流≥1mA 探
X荧光光谱仪特点
X荧光光谱仪特点： 1、无损检测，可对电子电气设备，玩具指令中的有害物质进行定性定量分析。 2、测量时间短，客户可选择测试时间：60-300秒。 3、全封闭式金属机箱及防泄漏保护开关设计，更好地保障操作员的人身安全。流水线型外观，美观大方。 4、配备X Y轴可移动平台，方便样品点选
理学推出全反射X射线荧光光谱仪－镉元素检测有优势
近日，日本理学宣布推出新一代理学NANOHUNTER II台式全反射X射线荧光（TXRF）光谱仪，液体或固体表面高灵敏度痕量元素分析达到ppb水平。全反射X射线荧光光谱通过一种途径使X射线入射光束刚好擦过样品，来实现低背景噪音、高灵敏度的超微量元素测量。NANOHUNTER II台式全反射X射线
关于X射线荧光光谱仪的应用特点介绍
X射线荧光光谱仪（XRF）是用于元素定量分析的仪器，广泛应用于钢铁、水泥、石油化工、环境保护、有色冶炼、材料、科研等各个领域，其在制样方便、无损、快速等方面优于其它分析方法，但其在定量精度和样品适应范围等方面一直存在挑战。 当前XRF广泛应用的领域往往具备三个特点：一是样品基体相对稳定；二是分
实验室X荧光光谱仪的特点介绍
实验室能量色散X荧光光谱分析仪体积小、稳定性好、分析快速准确、运行成本低、操作维护方便、是控制产品质量的理想选择。可测定铅Pb、汞Hg、镉Cd、铬Cr、溴Br等元素。硅半导体探测器，通过智能激发和检测设计实现高灵敏度，用户可自定义多曲线多光谱拟和分析方法，适用于不同的应用场合。 实验室能量
X射线荧光光谱仪的特点及应用介绍
X射线荧光光谱仪应用领域：冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色金属冶炼、加工和回收工业中的各种分析。 X射线荧光光谱仪主要特点： 1、电子系统采用国际标准机笼、高集成化设计。 2、ZL技术的入缝及整体出射狭缝制造技术，确保光学系统
为你介绍X荧光光谱仪及其性能特点
X荧光光谱仪（XRF）由激发源（X射线管）和探测系统构成。X射线管产生入射X射线（一次X射线），激发被测样品，产生X荧光（二次X射线），探测器对X荧光进行检测。近年来，X荧光光谱分析在各行业应用范围不断拓展，已成为一种广泛应用于冶金、地质、有色、建材、商检、环保、卫生等各个领域，特别是在RoHS
X射线荧光光谱仪相关特点
X射线荧光光谱仪具有重现性好，测量速度快，灵敏度高的特点。能分析B(5)~U(92)之间所有元素。样品可以是固体、粉末、熔融片，液体等，分析对象适用于炼钢、有色金属、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行业样品。无标半定量方法可以对各种形状样品定性分析，并能给出半定量结果，结果准确度对某些样品可以接近定量水平
X荧光光谱仪拥有哪些特点？
1.操作界面简单，测量方便，快捷。2.采用独特双峰位快速自动校准。3.能够检测卤族元素的精确含量。4.无损检测，在无标准样品时亦可准确分析。5.同置高清晰摄像头，可帮助客户判断测量的部位。6.设置了自动安全防护开关，以确保用户安全使用。7.X荧光光谱仪采用127±5eV的高精度分辨率，保证数据测量的
全反射傅里叶变换红外(ATRFTIR－)－光谱仪的衰减全反射特点
1) 不破坏样品, 不需要象透射红外光谱那样要将样品进行分离和制样。对样品的大小, 形状没有特殊要求, 属于样品表面无损测量。 2) 可测量含水和潮湿的样品。 3) 检测灵敏度高, 测量区域小, 检测点可为数微米。 4) 能得到测量位置处物质分子的结构信息、某化合物或官能团空间分布的红外光
X荧光光谱仪的产品技术特点
a) 分析速度高。测定用时与测定精密度有关，但一般都很短，2～5分钟就可以测完样品中的全部待测元素。 b) X射线荧光光谱跟样品的化学结合状态无关，而且跟固体、粉末、液体及晶质、非晶质等物质的状态也基本上没有关系。（气体密封在容器内也可分析）但是在高分辨率的精密测定中却可看到有波长变化等现象。特
X荧光光谱仪XRF的性能特点
专业的水泥、钢铁、矿料等全元素分析，亦可用于镀层检测和RoHS检测。 超薄窗大面积的进口SDD探测器。 内置信噪比25倍。 抽真空样品腔，有利于低含量轻元素的分析 针对不同样品可自动切换准直器和滤光片。 任意多个可选择的分析和识别模型 相互独立的基体效应校正模型 多变量非线性回归程
X射线荧光光谱仪的优势特点
X射线荧光光谱仪的优势特点介绍： a) 分析速度高。测定用时与测定精密度有关，2～5分钟就可以测完样品中的全部待测元素。 b) X射线荧光光谱跟样品的化学结合状态无关，而且跟固体、粉末、液体及晶质、非晶质等物质的状态也基本上没关系（气体密封在容器内也可分析）但是在高分辨率的精密测定中却可看到有波长变
X射线荧光光谱仪的结构特点
X射线荧光光谱仪主要由激发、色散、探测、记录及数据处理等单元组成。激发单元的作用是产生初级X射线。它由高压发生器和X光管组成。后者功率较大，用水和油同时冷却。色散单元的作用是分出想要波长的X射线。它由样品室、狭缝、测角仪、分析晶体等部分组成。通过测角器以1∶2速度转动分析晶体和探测器，可在不同的布拉
X射线荧光光谱仪和X射线荧光能谱仪特点对比
X射线荧光光谱仪和X射线荧光能谱仪各有优缺点。前者分辨率高，对轻、重元素测定的适应性广。对高低含量的元素测定灵敏度均能满足要求。后者的X射线探测的几何效率可提高2～3数量级，灵敏度高。可以对能量范围很宽的X射线同时进行能量分辨(定性分析)和定量测定。对于能量小于2万电子伏特左右的能谱的分辨率差。
TXRF8全反射X射线荧光分析仪
全反射X荧光（TXRF）分析技术是近年来才发展起来的多元素同时分析技术。TXRF利用全反射技术，使样品荧光的杂散本底比X荧光能量色散谱仪（EDXRF）本底降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏度，避免了XRF测量中通常遇到的本底增强或减弱效应；同时TXRF技术又继承了EDXRF方法的优越
TXRF8全反射X射线荧光分析仪
产品介绍 全反射X荧光（TXRF）分析技术是近年来才发展起来的多元素同时分析技术。TXRF利用全反射技术，使样品荧光的杂散本底比X荧光能量色散谱仪（EDXRF）本底降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏度，避免了XRF测量中通常遇到的本底增强或减弱效应；同时TXRF技术又继承了ED
全反射X荧光技术在痕量元素检测中的应用
TX2000全反射X荧光光谱仪 高沸点石油化工产品及其衍生物中痕量元素的检测是一项挑战性工作，目前检测手段主要为AAS、ICP-OES、EDXRF等。 样品测量结果与样品前处理息息相关。前处理方法包括稀释样品，灰化法分解样品，湿法分解样品等。但是这些前处理手段都有其不足之处，如高温易挥发元素损失