分子“模板”可控制合成材料的形状
据美国物理学家组织网11月16日报道，美国科学家研制出了一种新的材料合成方法，可以更好地控制合成材料的几何形状和化学成分。使用这种方法合成的新材料如能很好地结合无机材料的功能，将有望用于制造新一代太阳能电池、催化剂以及光子晶体。 美国能源部下属阿贡国家实验室纳米尺度材料和能源系统分部的化学家杰夫·伊拉姆和纳米科学家赛思·达宁开发出了一种名为“连续渗透合成(SIS)”的技术，使用该技术，科学家可以用一块由嵌段共聚物大分子组成的薄膜作为模板，制造出具有各种形状和图案的材料。 这种新方法是原子层沉积(ALD)技术的扩展，ALD是阿贡国家实验室科学家广泛使用的一种材料合成技术，可以将物质以单原子膜的形式一层一层地镀在基底表面。而SIS不需要像ALD那样层层铺设不同纳米材料组成的薄膜，只需使用嵌段共聚物作为基座即可。 达宁表示，这种新方法可制造出仅由ALD技术或嵌段共聚物无法制造出的材料，也可更好地控制所制造材料的几......阅读全文
原子层沉积系统（ALD）的介绍
是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。
原子层沉积系统（ALD）的应用
原子层沉积技术由于其沉积参数的高度可控型（厚度、成份和结构） 原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD），最初称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），也称为原子层化学气相沉积（Atomic Layer Chemical Vapor Depo
原子层沉积系统（ALD）的原理
原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层
分子“模板”可控制合成材料的形状
据美国物理学家组织网11月16日报道，美国科学家研制出了一种新的材料合成方法，可以更好地控制合成材料的几何形状和化学成分。使用这种方法合成的新材料如能很好地结合无机材料的功能，将有望用于制造新一代太阳能电池、催化剂以及光子晶体。 美国能源部下属阿贡国家实验室纳米尺度材料和能源系统分部的化学
对于原子层沉积系统（ALD）的研究
原子层沉积（ALD）的自限制性和互补性致使该技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力，所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀，因而引起了人们广泛的关注。原子尺度上的ALD过程仿真对深入了解沉积机理，改进和优化薄膜生长工艺，提高薄膜质量，改善薄膜性质具有重要意义。在深入了解ALD的工艺特点及工艺过程后
原子层沉积系统（ALD）－跟热蒸镀沉积有什么区别？
原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层
发表嵌段共聚物引导组装研究综述
近日，中科院长春应用化学研究所生态环境高分子材料重点实验室季生象课题组应邀撰写的综述在《聚合科学进展》发表。 该综述对嵌段共聚物在化学图案上引导组装的原理、流程和技术手段，及其在半导体行业的应用进行了全面总结和评述，并对嵌段共聚物引导组装的未来发展前景进行了展望，便于读者快速全面地了解该研究领
嵌段共聚物纳米膜能过滤水中细菌
据美国物理学家组织网近日报道，美国科学家使用嵌段共聚物合成出一种新式的纳米膜，该膜可过滤掉饮用水中的细菌。科学家认为，这种纳米膜或可解决一个多年悬而未决的全球健康问题：如何将细菌从饮用水中隔离开。该研究发表在《纳米快报》杂志上。 水分子和细菌非常微小，人的裸眼无法看到，科学
原子层沉积
原子层沉积(ALD)是一种真正的"纳米"技术，以精确控制的方式沉积几个纳米的超薄薄膜。 原子层沉积的两个限定性特征--自约束的原子逐层生长和高度保形镀膜--给半导体工程，微机电系统和其他纳米技术应用提供了许多好处。 原子层沉积的优点 因为原子层沉积工艺在每个周期内精确地沉积一个原子层，所以能
ald－工艺－怎么保证－单个原子沉积
原子层沉积（Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。单原子层沉积（atomic layer
长春应化所发表嵌段共聚物引导组装研究综述
近日，中国科学院长春应用化学研究所生态环境高分子材料重点实验室季生象课题组应邀撰写的题为Directed self-assembly of block copolymers on chemical patterns: A platform for nanofabrication 的综述在Prog
原子层沉积的研究
原子层沉积（ALD）的自限制性和互补性致使该技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力，所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀，因而引起了人们广泛的关注。原子尺度上的ALD过程仿真对深入了解沉积机理，改进和优化薄膜生长工艺，提高薄膜质量，改善薄膜性质具有重要意义。在深入了解ALD的工艺特点及工艺过程后，针
化学所在嵌段共聚物自组装形貌调控研究方面取得进展
嵌段聚合物可以自发组装为尺寸周期低于100nm以下的纳米结构，进而作为制备具有特定纳米结构材料的模板。嵌段共聚物尺寸小且有高产易得的优异特点，使其得到了广泛的关注和研究。基于嵌段聚合物的纳米刻蚀技术被认为是最重要的下一代刻蚀技术之一。为了实现纳米刻蚀技术的应用，需要解决嵌段聚合物满足垂直取向形貌
化学所在嵌段共聚物自组装形貌调控研究方面取得进展
嵌段聚合物可以自发组装为尺寸周期低于100nm以下的纳米结构，进而作为制备具有特定纳米结构材料的模板。嵌段共聚物尺寸小且有高产易得的优异特点，使其得到了广泛的关注和研究。基于嵌段聚合物的纳米刻蚀技术被认为是最重要的下一代刻蚀技术之一。为了实现纳米刻蚀技术的应用，需要解决嵌段聚合物满足垂直取向形貌
Nano－Research－｜嵌段共聚物稳定的卤化铅钙钛矿纳米线
基于卤化铅钙钛矿(LHPs)的太阳能电池的迅速发展，促使其他密切相关领域的研究十分活跃。这种材料的胶体纳米结构显示出优越的光电性能。特别是一维LHPs纳米线在高度定向时表现出各向异性的光学特性。然而，由于它们的离子特性，对外界环境非常敏感，限制了它们的大规模实际应用。加州大学伯克利分校A. Pa
嵌段共聚物稳定的卤化铅钙钛矿纳米线｜Nano－Research
基于卤化铅钙钛矿(LHPs)的太阳能电池的迅速发展，促使其他密切相关领域的研究十分活跃。这种材料的胶体纳米结构显示出优越的光电性能。特别是一维LHPs纳米线在高度定向时表现出各向异性的光学特性。然而，由于它们的离子特性，对外界环境非常敏感，限制了它们的大规模实际应用。加州大学伯克利分校A. Pa
精确测定生物三嵌段共聚物在不同温度下的粘度
介绍粘度是流体粘滞性的一种量度，是流体流动力对其内部摩擦现象的一种表示。但是对于许多实验室而言，传统的流变性测量设备操作耗时或者无法在所需的条件下进行测试。FLUIDICAM RHEO 流动运动粘度仪采用新的流变测试技术，只需简单的设置即可测量流体在不同温度下粘度随剪切速率的变化。多嵌段共聚物由
PICOSUN－原子层沉积系统共享
仪器名称：PICOSUN 原子层沉积系统仪器编号：16041497产地：中国生产厂家：PICOSUN型号：R200 Advanced出厂日期：201709购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼109固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹
嵌段共聚物/均聚物共混物自组装研究取得新进展
不同体积比的苯/N-甲基吡咯烷酮混合蒸汽处理后PS-b-P4VP/POAA薄膜共混物有序微相分离结构的形成 中国科学院兰州化学物理研究所先进润滑与防护材料研发中心在嵌段共聚物/均聚物共混物自组装方面取得新进展。 研究人员使用溶剂处理方法实现了嵌段共聚物（PS-b-P4VP）/均聚
PICOSUN－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：PICOSUN 原子层沉积系统仪器编号：16041497产地：中国生产厂家：PICOSUN型号：R200 Advanced出厂日期：201709购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼109固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹
BENEQ－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：BENEQ 原子层沉积系统仪器编号：09016504产地：芬兰生产厂家：BENEQ型号：TFS200-106出厂日期：200810购置日期：200910所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹秉军（010
原子层沉积技术开发者获2018年“千年技术奖”
芬兰技术学会２２日宣布，将２０１８年“千年技术奖”授予芬兰物理学家图奥莫·松托拉，以表彰他研发了在信息技术领域发挥重要作用的原子层沉积技术。 原子层沉积技术可以将物质以单原子膜形式一层一层镀在基底表面，在许多高科技领域发挥着重要作用。目前，所有的计算机和智能手机都使用以原子层沉积技术制成的
科学家用“电喷”打印打出三维超精细结构
据物理学家组织网近日报道，一个来自美国伊利诺斯大学厄本纳-香槟分校、芝加哥大学、韩国汉阳大学等的科研小组开发出一种制作纳米结构的新方法，将 “从上到下”的喷墨打印和“从下到上”的自组装技术结合在一起，以一种“电喷”打印方式自动形成三维的超精细结构，所造出的纳米材料可用在半导体和磁存储工业中。
Picosun－Oy真空互联原子层沉积系统共享应用
仪器名称：真空互联-原子层沉积系统仪器编号：21029113产地：芬兰生产厂家：Picosun Oy型号：R-200 Advanced出厂日期：购置日期：2021-11-25所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：01062784044固定
清华大学仪器共享平台Ultratech－原子层沉积系统
仪器名称：原子层沉积系统仪器编号：17016605产地：美国生产厂家：Ultratech型号：Savannah S100出厂日期：购置日期：2017-06-25所属单位：电子系>纳米光电子综合测试平台放置地点：罗姆楼B1-304室固定电话：62796594固定手机：固定email：haosun@ts
两亲性三嵌段共聚物紫杉醇键合药及其合成方法获ZL授权
由中科院长春应用化学研究所景遐斌研究员等科研人员发明的“两亲性三嵌段共聚物-紫杉醇键合药及其合成方法”，近日获得国家发明专利授权（专利号: CN1840199）。 癌症是现代发病率和死亡率最高的疾病之一，严重危害人们的身体健康和生命。紫杉醇作为公认的一线肿瘤化疗
微电子所采用ALD技术显著提升发光器件效率
日前，中国科学院微电子研究所将先进的原子层沉积技术应用于高光效半导体发光器件的研究取得显著进展。 上世纪80年代，原子层沉积(Atomic Layer Deposition，ALD)最初由芬兰科学家提出并应用于平板显示器件中Al2O3绝缘膜的沉积。2007年英特尔公司将原子层沉积技术引
芬兰PICOSUN公司将在波士顿举行原子层沉积系统展览
欢迎您参加2011年6月27-29在波士顿举行的芬兰PICOSUN公司的原子层沉积系统展览。具体内容如下： Thanks to our excellent ALD systems, we are happy report profitable 100% growth during th
新式大块共聚物太阳能电池问世
据物理学家组织网5月29日报道，美国莱斯大学的化学工程师拉斐尔·维尔杜兹寇和宾夕法尼亚州立大学的化学工程师安立奎·戈麦斯领导的研究团队，研制出了一款基于大块共聚物(能自我组装的有机材料可以自主形成不同的层)的太阳能电池，尽管新电池的光电转化效率仅为3%，但仍然高于其他用聚合物作为活性材料的
牛津仪器与艾恩德霍芬大学开发出二维材料低温生长设备
牛津仪器公司的原子层沉积技术（ALD）和2D材料专家与艾恩德霍芬理工大学合作开发了用于纳米器件的二维过渡金属硫化物（2D TMDS）原子层沉积（ALD） 系统——FlexAL-2D ALD系统。 FlexAL-2D ALD系统可在与CMOS兼容的温度下生长2D材料，并可在大面积（200mm晶圆