原子层沉积系统(ALD)的介绍

是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。......阅读全文

原子层沉积系统(ALD)的介绍

  是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。

原子层沉积系统(ALD)的原理

  原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法(技术)。当前驱体达到沉积基体表面,它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层

原子层沉积系统(ALD)的应用

  原子层沉积技术由于其沉积参数的高度可控型(厚度、成份和结构)  原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD),最初称为原子层外延(Atomic Layer Epitaxy,ALE),也称为原子层化学气相沉积(Atomic Layer Chemical Vapor Depo

对于原子层沉积系统(ALD)的研究

  原子层沉积(ALD)的自限制性和互补性致使该技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力,所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀,因而引起了人们广泛的关注。原子尺度上的ALD过程仿真对深入了解沉积机理,改进和优化薄膜生长工艺,提高薄膜质量,改善薄膜性质具有重要意义。在深入了解ALD的工艺特点及工艺过程后

原子层沉积系统(ALD)-跟热蒸镀沉积有什么区别?

  原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法(技术)。当前驱体达到沉积基体表面,它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层

原子层沉积

原子层沉积(ALD)是一种真正的"纳米"技术,以精确控制的方式沉积几个纳米的超薄薄膜。 原子层沉积的两个限定性特征--自约束的原子逐层生长和高度保形镀膜--给半导体工程,微机电系统和其他纳米技术应用提供了许多好处。 原子层沉积的优点 因为原子层沉积工艺在每个周期内精确地沉积一个原子层,所以能

ald-工艺-怎么保证-单个原子沉积

原子层沉积(Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。单原子层沉积(atomic layer

原子层沉积的研究

原子层沉积(ALD)的自限制性和互补性致使该技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力,所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀,因而引起了人们广泛的关注。原子尺度上的ALD过程仿真对深入了解沉积机理,改进和优化薄膜生长工艺,提高薄膜质量,改善薄膜性质具有重要意义。在深入了解ALD的工艺特点及工艺过程后,针

芬兰PICOSUN公司将在波士顿举行原子层沉积系统展览

  欢迎您参加2011年6月27-29在波士顿举行的芬兰PICOSUN公司的原子层沉积系统展览。具体内容如下:   Thanks to our excellent ALD systems, we are happy report profitable 100% growth during th

牛津仪器与艾恩德霍芬大学开发出二维材料低温生长设备

  牛津仪器公司的原子层沉积技术(ALD)和2D材料专家与艾恩德霍芬理工大学合作开发了用于纳米器件的二维过渡金属硫化物(2D TMDS)原子层沉积(ALD) 系统——FlexAL-2D ALD系统。  FlexAL-2D ALD系统可在与CMOS兼容的温度下生长2D材料,并可在大面积(200mm晶圆

牛津仪器“新型纳米技术先进工艺研讨会”在沪举办

  分析测试百科网讯 2016年3月14日,牛津仪器“新型纳米技术先进工艺研讨会”在上海浦东假日酒店举办,本次研讨会邀请了业内专家学者就纳米制造、新工艺技术等方面展开了一系列的学术交流,让在场的参会人员受益匪浅,更深入了解了牛津仪器在纳米技术方面的新产品、新进展和新应用。分析测试百科网受邀参加了

微电子所采用ALD技术显著提升发光器件效率

  日前,中国科学院微电子研究所将先进的原子层沉积技术应用于高光效半导体发光器件的研究取得显著进展。   上世纪80年代,原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)最初由芬兰科学家提出并应用于平板显示器件中Al2O3绝缘膜的沉积。2007年英特尔公司将原子层沉积技术引

山西煤化所应邀撰写金属氧化物界面调控综述论文

  近日,中国科学院山西煤炭化学研究所覃勇团队应美国化学会期刊ACS Catalysis 邀请,撰写的综述性论文“Interface Tailoring of Heterogeneous Catalysts by Atomic Layer Deposition”已在线发表(Bin Zhang, Yo

中国第一届ALD学术交流会即将在上海隆重举行

尊敬的老师,您好!    我们非常真诚的邀请您及您的科研团队参加将于2010年10月18日-10月19日在上海举行的第一届ALD学术交流会。    这次大会是由芬兰PICOSUN公司和复旦大学主办,南京大学、中国科学院上海技术物理研究所、上海纳米技术及应用国家工程研究中心和我们北京正通远恒科技有限公

原子层沉积技术开发者获2018年“千年技术奖”

   芬兰技术学会22日宣布,将2018年“千年技术奖”授予芬兰物理学家图奥莫·松托拉,以表彰他研发了在信息技术领域发挥重要作用的原子层沉积技术。 原子层沉积技术可以将物质以单原子膜形式一层一层镀在基底表面,在许多高科技领域发挥着重要作用。目前,所有的计算机和智能手机都使用以原子层沉积技术制成的

1185万!-南京大学采购非靶向筛选质谱仪和原子层沉积设备

原子层沉积(ALD)设备项目所在采购意向:南京大学企业信息2023年7至9月政府采购意向采购单位:南京大学企业信息采购项目名称:原子层沉积(ALD)设备预算金额:700.000000万元(人民币)采购品目:A02052402 真空应用设备采购需求概况 :南京大学企业信息拟采购原子层沉积(ALD)设备

山西煤化所原子层沉积设计新型纳米催化剂研究获进展

  氢能作为一种环境友好的清洁能源被认为是可替代化石燃料的重要能源。光催化分解水制氢是一种非常有前景的绿色制氢途径。影响光催化制氢效率的一个主要因素是电子和空穴的分离效率低。在半导体材料表面负载产氢或/和产氧助剂(例如,Pt,Pd,CoOx,NiO)可有效提高电子和空穴的分离效率,尤其是含双助剂的光

血醛固酮(ALD)测定的介绍

  血浆醛固酮(aldosterone,Ald):是肾上腺皮质球状带分泌的一种重要的盐皮质激素,具有调节钠、钾代谢和细胞外液容量的生理作用。  Ald主要受肾素-血管紧张素系统的调节,体内钠、钾水平,ACTH、肾上腺能和多巴胺能系统以及血容量等因素对醛固酮的分泌都有调节作用。Ald在血循环中30%~

响应设备更新政策-|-半导体制造工艺、结构与表征解决方案

半导体制造工艺电动汽车等高新技术领域对高效动力转换的需求与日俱增,碳化硅与氮化镓材料扮演关键性角色,有效降低能耗并提升动力转换效率。牛津通过原子层沉积(ALD)与原子层刻蚀(ALE)技术优化了器件工艺。ALD工艺出色的 AlN/Al2O3/SiO2 钝化薄膜有效降低器件中的阈值电压漂移。而ALE低损

薄膜沉积设备工艺升级-差异化布局加速国产化进程

    本篇报告通过对逻辑、存储芯片的微观结构拆分展示了薄膜结构的种类多样性、工艺复杂性以及多款设备相互补充等特性,并从制程推进、多层趋势、工艺迭代等维度论述了薄膜沉积设备行业的成长性。薄膜沉积设备与光刻、刻蚀并列作为IC 前道制造三大主设备之一,全球市场空间超过200 亿美元,当前国产化率不足5%

中国科大等实现原子层面上精细合成负载型双金属催化剂

  近日,中国科学技术大学化学物理系教授路军岭课题组在原子层面上精细设计与合成负载型双金属催化剂领域取得新进展。路军岭通过与美国阿贡国家实验室的J.W. Elam博士合作,成功探索到了一种普适的利用原子层沉积(ALD)技术精细合成负载型双金属催化剂方法。该研究成果在线发表在2月10日出版的Nat

新技术提升光催化完全分解水制氢效率

  中科院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室李灿院士、李政博士后和李仁贵研究员等,在纳米颗粒光催化完全分解水制氢的逆反应(氢气和氧气复合生成水的反应)研究方面取得新进展。团队确认了光催化完全分解水逆反应发生于低配位活性位点,并利用原子层沉积技术精准定点修饰抑制逆反应,从而显著提升了光催化完全分

科学家利用ALD技术合成多种新型纳米材料

   在中国科学院、国家自然科学基金委、中科院山西煤炭化学研究所及所内外合作者的大力支持下,煤转化国家重点实验室覃勇课题组(903组)利用ALD(原子层沉积)技术合成了多种新型纳米材料,并将其应用于环境、催化、国防等领域,取得了系列进展,相关成果发表在ACS Nano、Nano Research、A

中科院山西煤化所在气体分离领域取得进展

膜分离技术是适应当代新产业发展最有前途的分离技术之一。与传统的分离净化工艺相比,膜分离技术分离条件温和,选择性更高,逐渐在石油、天然气、化工、医药、轻纺、冶金、电子、食品、环保、海水淡化等领域得到广泛关注和应用。与其他聚合物分离膜相比,自聚微孔聚合物中大量的微孔可为气体提供良好的传输通道

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膜分离技术是适应当代新产业发展最有前途的分离技术之一。与传统的分离净化工艺相比,膜分离技术分离条件温和,选择性更高,逐渐在石油、天然气、化工、医药、轻纺、冶金、电子、食品、环保、海水淡化等领域得到广泛关注和应用。与其他聚合物分离膜相比,自聚微孔聚合物中大量的微孔可为气体提供良好的传输通道

清华大学深圳国际研究生院330.00万元采购原子层沉积

  项目概况  高通量原子层沉积仪的潜在投标人应在(本公告附件中)获取招标文件,并于2023年12月8日9:30(北京时间)前网上递交投标文件。  一、项目基本情况  (一)项目编号:SZDL2023002328(CLF0123SZ21ZC72)  (二)项目名称:高通量原子层沉积仪  (三)预算金

智能集菌仪适用范围

智能集菌仪适用范围适用范围:1. 制药行业:纯化水、注射用水、无菌制剂(大输液、小针剂、粉剂、生物制品、血液制品、眼用制剂、保养液等)的无菌检查和微生物限度检查;2. 医疗器械行业:纯化水、注射用水、注射器、输液器、输血器、静脉导管等的无菌检查和微生物限度检查;3. 食品、饮料行业;4. 环保行业等

关于血清醛固酮(ALD,ALS)的基本介绍

  醛固酮作用是促进肾远曲小管上皮细胞重吸收钠,并促进钾的排出。醛固酮的分泌有类似于皮质醇的昼夜分泌规律,清晨比夜晚低。立位比卧位时增多,其血浆浓度也有相应的变换。

大连化物所发展出抑制光催化分解水制氢逆反应新技术

  近日,中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室、太阳能研究部中科院院士李灿、博士后李政和研究员李仁贵等,在纳米颗粒光催化完全分解水制氢的逆反应(氢气和氧气复合生成水的反应)研究方面取得新进展,确认光催化完全分解水逆反应发生于低配位活性位点,并利用原子层沉积技术精准定点修饰抑制逆反应,从

大连化物所发展出抑制光催化分解水制氢逆反应新技术

  近日,中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室、太阳能研究部中科院院士李灿、博士后李政和研究员李仁贵等,在纳米颗粒光催化完全分解水制氢的逆反应(氢气和氧气复合生成水的反应)研究方面取得新进展,确认光催化完全分解水逆反应发生于低配位活性位点,并利用原子层沉积技术精准定点修饰抑制逆反应,从