原子层沉积系统（ALD）的原理
原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层沉积的关键。气相物质在基体材料的表面吸附特征可以看出，任何气相物质在材料表面都可以进行物理吸附，但是要实现在材料表面的化学吸附必须具有一定的活化能，因此能否实现原子层沉积，选择合适的反应前驱体物质是很重要的。 原子层沉积的表面反应具有自限制性（self-limiting），实际上这种自限制性特征正是原子层沉积技术的基础。不断重复这种自限制反应就形成所需要的薄膜。 原子层沉积的自限制特征 ：根据沉积前驱体和基体材料的不同，原子层沉积有两种不同的自限制机制，即化学吸附自限制（CS）和顺次反应自限制（RS）过程。 化学吸附自限制沉积过......阅读全文
原子层沉积系统（ALD）的原理
原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层
原子层沉积系统（ALD）的介绍
是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。
原子层沉积系统（ALD）的应用
原子层沉积技术由于其沉积参数的高度可控型（厚度、成份和结构） 原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD），最初称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），也称为原子层化学气相沉积（Atomic Layer Chemical Vapor Depo
对于原子层沉积系统（ALD）的研究
原子层沉积（ALD）的自限制性和互补性致使该技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力，所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀，因而引起了人们广泛的关注。原子尺度上的ALD过程仿真对深入了解沉积机理，改进和优化薄膜生长工艺，提高薄膜质量，改善薄膜性质具有重要意义。在深入了解ALD的工艺特点及工艺过程后
原子层沉积系统（ALD）－跟热蒸镀沉积有什么区别？
原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层
PICOSUN－原子层沉积系统共享
仪器名称：PICOSUN 原子层沉积系统仪器编号：16041497产地：中国生产厂家：PICOSUN型号：R200 Advanced出厂日期：201709购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼109固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹
原子层沉积
原子层沉积(ALD)是一种真正的"纳米"技术，以精确控制的方式沉积几个纳米的超薄薄膜。 原子层沉积的两个限定性特征--自约束的原子逐层生长和高度保形镀膜--给半导体工程，微机电系统和其他纳米技术应用提供了许多好处。 原子层沉积的优点 因为原子层沉积工艺在每个周期内精确地沉积一个原子层，所以能
PICOSUN－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：PICOSUN 原子层沉积系统仪器编号：16041497产地：中国生产厂家：PICOSUN型号：R200 Advanced出厂日期：201709购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼109固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹
BENEQ－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：BENEQ 原子层沉积系统仪器编号：09016504产地：芬兰生产厂家：BENEQ型号：TFS200-106出厂日期：200810购置日期：200910所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹秉军（010
ald－工艺－怎么保证－单个原子沉积
原子层沉积（Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。单原子层沉积（atomic layer
原子层沉积的研究
原子层沉积（ALD）的自限制性和互补性致使该技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力，所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀，因而引起了人们广泛的关注。原子尺度上的ALD过程仿真对深入了解沉积机理，改进和优化薄膜生长工艺，提高薄膜质量，改善薄膜性质具有重要意义。在深入了解ALD的工艺特点及工艺过程后，针
Picosun－Oy真空互联原子层沉积系统共享应用
仪器名称：真空互联-原子层沉积系统仪器编号：21029113产地：芬兰生产厂家：Picosun Oy型号：R-200 Advanced出厂日期：购置日期：2021-11-25所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：01062784044固定
清华大学仪器共享平台Ultratech－原子层沉积系统
仪器名称：原子层沉积系统仪器编号：17016605产地：美国生产厂家：Ultratech型号：Savannah S100出厂日期：购置日期：2017-06-25所属单位：电子系>纳米光电子综合测试平台放置地点：罗姆楼B1-304室固定电话：62796594固定手机：固定email：haosun@ts
芬兰PICOSUN公司将在波士顿举行原子层沉积系统展览
欢迎您参加2011年6月27-29在波士顿举行的芬兰PICOSUN公司的原子层沉积系统展览。具体内容如下： Thanks to our excellent ALD systems, we are happy report profitable 100% growth during th
原子层沉积技术可用于合金提升态密度有效质量
中国科学院院士、西安交通大学材料学院材料强度组孙军教授，材料强度组丁向东教授、武海军教授与深圳大学合作，在探究相界面工程作用于ZrNiSn基半哈斯勒热电材料取得进展。该工作鉴于现有研究中相界面引发的载流子迁移率降低问题，以及单一能量势垒无法在全温度范围内提升态密度有效质量的局限性，团队创新性地将原子
牛津仪器与艾恩德霍芬大学开发出二维材料低温生长设备
牛津仪器公司的原子层沉积技术（ALD）和2D材料专家与艾恩德霍芬理工大学合作开发了用于纳米器件的二维过渡金属硫化物（2D TMDS）原子层沉积（ALD） 系统——FlexAL-2D ALD系统。 FlexAL-2D ALD系统可在与CMOS兼容的温度下生长2D材料，并可在大面积（200mm晶圆
微电子所采用ALD技术显著提升发光器件效率
日前，中国科学院微电子研究所将先进的原子层沉积技术应用于高光效半导体发光器件的研究取得显著进展。 上世纪80年代，原子层沉积(Atomic Layer Deposition，ALD)最初由芬兰科学家提出并应用于平板显示器件中Al2O3绝缘膜的沉积。2007年英特尔公司将原子层沉积技术引
山西煤化所应邀撰写金属氧化物界面调控综述论文
近日，中国科学院山西煤炭化学研究所覃勇团队应美国化学会期刊ACS Catalysis 邀请，撰写的综述性论文“Interface Tailoring of Heterogeneous Catalysts by Atomic Layer Deposition”已在线发表（Bin Zhang, Yo
薄膜沉积设备工艺升级－差异化布局加速国产化进程
本篇报告通过对逻辑、存储芯片的微观结构拆分展示了薄膜结构的种类多样性、工艺复杂性以及多款设备相互补充等特性，并从制程推进、多层趋势、工艺迭代等维度论述了薄膜沉积设备行业的成长性。薄膜沉积设备与光刻、刻蚀并列作为IC 前道制造三大主设备之一，全球市场空间超过200 亿美元，当前国产化率不足5%
原子层沉积技术开发者获2018年“千年技术奖”
芬兰技术学会２２日宣布，将２０１８年“千年技术奖”授予芬兰物理学家图奥莫·松托拉，以表彰他研发了在信息技术领域发挥重要作用的原子层沉积技术。 原子层沉积技术可以将物质以单原子膜形式一层一层镀在基底表面，在许多高科技领域发挥着重要作用。目前，所有的计算机和智能手机都使用以原子层沉积技术制成的
1185万!－南京大学采购非靶向筛选质谱仪和原子层沉积设备
原子层沉积（ALD）设备项目所在采购意向：南京大学企业信息2023年7至9月政府采购意向采购单位：南京大学企业信息采购项目名称：原子层沉积（ALD）设备预算金额：700.000000万元(人民币)采购品目：A02052402 真空应用设备采购需求概况 ：南京大学企业信息拟采购原子层沉积（ALD）设备
山西煤化所原子层沉积设计新型纳米催化剂研究获进展
氢能作为一种环境友好的清洁能源被认为是可替代化石燃料的重要能源。光催化分解水制氢是一种非常有前景的绿色制氢途径。影响光催化制氢效率的一个主要因素是电子和空穴的分离效率低。在半导体材料表面负载产氢或/和产氧助剂(例如，Pt，Pd，CoOx，NiO)可有效提高电子和空穴的分离效率，尤其是含双助剂的光
牛津仪器“新型纳米技术先进工艺研讨会”在沪举办
分析测试百科网讯 2016年3月14日，牛津仪器“新型纳米技术先进工艺研讨会”在上海浦东假日酒店举办，本次研讨会邀请了业内专家学者就纳米制造、新工艺技术等方面展开了一系列的学术交流，让在场的参会人员受益匪浅，更深入了解了牛津仪器在纳米技术方面的新产品、新进展和新应用。分析测试百科网受邀参加了
科学家利用ALD技术合成多种新型纳米材料
在中国科学院、国家自然科学基金委、中科院山西煤炭化学研究所及所内外合作者的大力支持下，煤转化国家重点实验室覃勇课题组（903组）利用ALD（原子层沉积）技术合成了多种新型纳米材料，并将其应用于环境、催化、国防等领域，取得了系列进展，相关成果发表在ACS Nano、Nano Research、A
响应设备更新政策－|－半导体制造工艺、结构与表征解决方案
半导体制造工艺电动汽车等高新技术领域对高效动力转换的需求与日俱增，碳化硅与氮化镓材料扮演关键性角色,有效降低能耗并提升动力转换效率。牛津通过原子层沉积(ALD)与原子层刻蚀(ALE)技术优化了器件工艺。ALD工艺出色的 AlN/Al2O3/SiO2 钝化薄膜有效降低器件中的阈值电压漂移。而ALE低损
植物冠层分析系统的测试原理与方法
植物冠层图象分析仪采用了冠层孔隙率与冠层结构相关的原理。它是根据光线穿过介质减弱的比尔定律，在对植物冠层定义了一系列假设前提的条件下，采用半理论半经验的公式，通过冠层孔隙率的测定，计算出冠层结构参数。这是目前世界上各种冠层仪一致采用的原理。在上述原理下，植物冠层图象分析仪采用的是对冠层下天穹半球
智能集菌仪适用范围
智能集菌仪适用范围适用范围:1. 制药行业：纯化水、注射用水、无菌制剂（大输液、小针剂、粉剂、生物制品、血液制品、眼用制剂、保养液等）的无菌检查和微生物限度检查；2. 医疗器械行业：纯化水、注射用水、注射器、输液器、输血器、静脉导管等的无菌检查和微生物限度检查；3. 食品、饮料行业；4. 环保行业等
中国科大等实现原子层面上精细合成负载型双金属催化剂
近日，中国科学技术大学化学物理系教授路军岭课题组在原子层面上精细设计与合成负载型双金属催化剂领域取得新进展。路军岭通过与美国阿贡国家实验室的J.W. Elam博士合作，成功探索到了一种普适的利用原子层沉积(ALD)技术精细合成负载型双金属催化剂方法。该研究成果在线发表在2月10日出版的Nat
新技术提升光催化完全分解水制氢效率
中科院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室李灿院士、李政博士后和李仁贵研究员等，在纳米颗粒光催化完全分解水制氢的逆反应（氢气和氧气复合生成水的反应）研究方面取得新进展。团队确认了光催化完全分解水逆反应发生于低配位活性位点，并利用原子层沉积技术精准定点修饰抑制逆反应，从而显著提升了光催化完全分
清华大学深圳国际研究生院330.00万元采购原子层沉积
项目概况 高通量原子层沉积仪的潜在投标人应在（本公告附件中）获取招标文件，并于2023年12月8日9：30（北京时间）前网上递交投标文件。 一、项目基本情况 （一）项目编号：SZDL2023002328（CLF0123SZ21ZC72） （二）项目名称：高通量原子层沉积仪 （三）预算金