SECRALII超导离子源为重离子加速器稳定供束超过1000小时
2018年12月11日至2019年1月24日，中国科学院近代物理研究所新投入运行的全超导ECR离子源SECRAL-II（图1）为兰州重离子加速器HIRFL-CSR上核物理实验提供了高流强高电荷态86Kr25+离子束，SECRAL-II本次供束不间断连续稳定运行时间超过1000小时（图2），展示了优异的稳定性和可靠性，创造了同类高电荷态离子源单次不间断连续运行的世界纪录。 SECRAL-II全超导离子源由中科院重大科技基础设施维修改造项目支持建设，于2017年度完成验收。离子源采用原创的螺线管内置的反向冷体结构，大幅降低超导线圈之间的作用力，使冷体更为紧凑、可靠。SECRAL-II磁体采用先进低温制冷机自循环冷凝技术，实现4.2K温区6W以上制冷能力，保证超导离子源在高微波功率下的连续、稳定运行。SECRAL-II在28GHz工作条件下离线调试创造了多项强流高电荷态离子束流强度的世界纪录，如：1emA Ar14+、>4......阅读全文
SECRALII超导离子源为重离子加速器稳定供束超过1000小时
2018年12月11日至2019年1月24日，中国科学院近代物理研究所新投入运行的全超导ECR离子源SECRAL-II（图1）为兰州重离子加速器HIRFL-CSR上核物理实验提供了高流强高电荷态86Kr25+离子束，SECRAL-II本次供束不间断连续稳定运行时间超过1000小时（图2），展示了
兰州重离子加速器首次实现离子源脉冲束注入运行
1月17日至22日，中国科学院近代物理研究所加速器运行团队，利用超导离子源SECRAL首次为兰州重离子加速器（HIRFL）提供了约120电子微安的40Ar12+脉冲束（图1），并成功注入HIRFL储存环CSR（图2），实现了束流的加速和累积（图3），累计运行超过48小时。 Afterglow工
兰州重离子冷却储存环成功加速83号元素铋
2月25日，中科院近代物理研究所科技人员在兰州重离子研究装置（HIRFL）冷却储存环（CSR）主环上成功实现了83号元素铋离子（209Bi36+）束流的冷却累积并加速到每核子能量170MeV，铋离子是继C，Ar，Ni，Kr和Xe等之后，HIRFL-CSR新加速的最重的离子。重离子209Bi36+
近物所重离子深层治疗终端实现主动点扫描技术
近日，中国科学院近代物理研究所科研人员利用兰州重离子研究装置（HIRFL）提供的高能碳离子束，在该装置的深部肿瘤重离子治疗终端对实现适形调强重离子治疗的主动式点扫描束流配送技术进行了测试，取得了重要进展。 测试中，利用兰州重离子加速器冷却储存环（HIRFL-CSR）提供的80-
近代物理所成功加速高熔点钽离子
近期，中国科学院近代物理研究所在HIRFL加速器上首次成功加速能量为12.5MeV/u的181Ta31+束流，为国内外30多家用户的单粒子效应及辐照实验提供了累计超过200小时的束流，填补了国内单粒子效应实验工程关键考核点空白。 本次成功加速Ta离子，是对兰州重离子加速器数个工作状态极限的挑战
加速离子束的装置
从离子源获得的离子束的能量一般从几百电子伏到几万电子伏。因为用高引出电压方式获得较高能量的离子束受到击穿的限制，所以必须使离子在电场和磁场中加速,这类装置叫做加速器(见粒子加速器) 使用各种加速器可以使离子获得很高的能量（如几百吉电子伏），也可以使离子减速，以获得能量较低的（如几十电子伏）但流强
离子束切割抛光仪
离子束切割抛光仪是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器，于2018年5月23日启用。 技术指标 抛光角度: +10° 到 -10° ，每个离子枪可独立调节 离子束能量: 100 V 到 8.0 kV 离子束流密度: 10 mA/cm2 峰值 抛光速度: 300 μm/h（8.0 kV条件下对于
兰州重离子加速器深部肿瘤临床治疗关键技术获突破
记者10月19日从中国科学院近代物理研究所了解到，经过科研人员的努力，兰州重离子加速器冷却储存环主环成功实现变能量慢引出。据介绍，这解决了深部肿瘤治疗临床试验的关键技术难题。 据介绍，经过近10天的紧张调试，兰州重离子加速器冷却储存环(HIRFL-CSR)主环于10月15日成功实现了变能量慢
聚焦离子束的工作原理
液态金属离子源离子源是聚焦离子束系统的心脏，真正的聚焦离子束始于液态金属离子源的出现，液态金属离子源产生的离子具有高亮度、极小的源尺寸等一系列优点，使之成为目前所有聚焦离子束系统的离子源。液态金属离子源是利用液态金属在强电场作用下产生场致离子发射所形成的离子源[1、2]。液态金属离子源的基本结构如图
聚焦离子束的工作原理
液态金属离子源离子源是聚焦离子束系统的心脏，真正的聚焦离子束始于液态金属离子源的出现，液态金属离子源产生的离子具有高亮度、极小的源尺寸等一系列优点，使之成为目前所有聚焦离子束系统的离子源。液态金属离子源是利用液态金属在强电场作用下产生场致离子发射所形成的离子源[1、2]。液态金属离子源的基本结
Zeiss－FIB聚焦离子束－共享
仪器名称：聚焦离子束 Zeiss FIB仪器编号：16005806产地：德国生产厂家：蔡司型号：Auriga出厂日期：201506购置日期：201603所属单位：材料学院>材料中心 >电镜中心放置地点：主楼东配楼11-112固定电话：固定手机：固定email：联系人：王永力（010-62773015
【分享】FIB－聚焦离子束分析
FIB介绍聚焦离子束技术（Focused Ion beam，FIB）是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的离子束轰击材料表面，实现材料的剥离、沉积、注入、切割和改性。随着纳米科技的发展，纳米尺度制造业发展迅速，而纳米加工就是纳米制造业的核心部分，纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚
聚焦离子束的工作原理
液态金属离子源离子源是聚焦离子束系统的心脏，真正的聚焦离子束始于液态金属离子源的出现，液态金属离子源产生的离子具有高亮度、极小的源尺寸等一系列优点，使之成为目前所有聚焦离子束系统的离子源。液态金属离子源是利用液态金属在强电场作用下产生场致离子发射所形成的离子源[1、2]。液态金属离子源的基本结构如图
聚焦离子束系统知多少？
纳米科技是当今国际上的一个热点。纳米测量学在纳米科技中起着信息采集和分析的不可替代的重要作用，纳米加工是纳米尺度制造业的核心，发展纳米测量学和纳米加工的一个重要方法就是电子束，离子束技术。近年来发展起来的聚焦离子束纳米加工系统用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工，结合扫描电子显微镜实时观察，开辟了从
聚焦离子束（FIB）技术介绍
1.引言 随着纳米科技的发展，纳米尺度制造业发展迅速，而纳米加工就是纳米制造业的核心部分，纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚焦离子束（FIB）技术利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工，配合扫描电镜（SEM）等高倍数电子显微镜实时观察，成为了纳米级分析、制造的主要方法。目
离子源的应用离子束
离子源是用以获得离子束的装置。我们知道，在各类离子源中，用得最多的是等离子体离子源，即用电场将离子从一团等离子体中引出来。这类离子源的主要参数由等离子体的密度、温度和引出系统的质量决定。属于这类离子源的有:潘宁放电型离子源射频离子源、微波离子源、双等离子体源、富立曼离子源等。另一类使用较多的离子
TEM制样聚焦离子束法
聚焦离子束法适用于半导体器件的线路修复和精确切割。聚焦离子束系统（FIB），利用源自液态金属镓的离子束来制备样品。通过调整束流强度，FIB可以对样品的指定区域进行快速和极精细的加工。其汇聚扫描方式可以是矩形、线形或点状。FIB可以制备供扫描透射电镜观测用的各种材料的薄膜样品。
Zeiss－FIB聚焦离子束共享应用
仪器名称：聚焦离子束 Zeiss FIB仪器编号：16005806产地：德国生产厂家：蔡司型号：Auriga出厂日期：201506购置日期：201603所属单位：材料学院>材料中心 >电镜中心放置地点：主楼东配楼11-112固定电话：固定手机：固定email：联系人：王永力（010-62773015
聚焦离子束技术（FIB）技术应用
聚焦离子束技术（Focused Ion beam，FIB）是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的离子束轰击材料表面，实现材料的剥离、沉积、注入、切割和改性。随着纳米科技的发展，纳米尺度制造业发展迅速，而纳米加工就是纳米制造业的核心部分，纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚焦离
近物所重离子辐射对雄性小鼠生殖功能影响机制研究获进展
中科院近代物理研究所辐射医学研究室科研人员以小鼠为实验模型，利用兰州重离子研究装置(HIRFL-CSR)提供的碳离子束，开展了重离子辐射影响雄性小鼠生殖功能的蛋白质组学研究并取得新进展。 研究人员发现，碳离子辐射后小鼠的精子活力减弱，精子微管结构和能量供应与重离子辐射相关。为了更准确地分析
液质联用的离子束接口介绍
离子束接口（ particle-beam interface,PB ） 是从单分散 气溶胶界面（monodisperse aerosol generating interface for chromatography, MAGIC）发展来的。该接口将液相色谱的流动相在 常压下借助气动雾化产生气溶
聚焦离子束（FIB）直写技术研究
现代半导体制造业迅速发展，对产品的质量要求越来越高，对相关的微分析技术的要求也越来越高。除了IC 制造以外，纳米结构在新元件上应用越来越多，特别是纳米光子和纳米光学。聚焦离子束（Focused Ion Beam，FIB）系统是在常规离子束和聚焦电子束系统研究的基础上发展起来的，除具有扫描电子显微镜具
聚焦离子束加工中的主要缺陷
聚焦离子束(FIB)是一种微纳米加工技术，其基本原理与扫描电子显微镜(SEM)类似，采用离子源发射的离子束经过加速聚焦后作为入射束，高能量的离子与固体表面原子碰撞的过程中可以将固体原子溅射剥离，因此，FIB更多的是被用作直接加工微纳米结构的工具。结合气体注入系统(GIS)，FIB可以辅助进行化学气相
夏佳文院士：扎根西北－“加速”世界
1964年7月17日出生于重庆涪陵。中国工程院院士，中国科学院近代物理研究所副所长。我国重离子加速器的学术带头人，HIRFL-CSR工程总工程师，加速器物理及技术总负责人。现为中国核学会副秘书长、中国辐射物理学会副理事长、中国粒子加速器学会常务理事。入选1998年度中国科学院“百人计划”，200
聚焦离子束在ITO表面缺陷的应用
1. 引言失效样品为手机显示屏，具体失效位置在前端IC位置，失效现象是ITO出现出现腐蚀导致显示异常，如下图所示，需具体分析失效的原因。 图1.ITO表面缺陷SEM观察图 2. 试验与结果 图2.失效位置截面观察图图3.正常位置截面观察图图4.失效位置EDS测试谱图图图5.正常位置EDS测试谱图图
聚焦离子束法制备冷冻含水超薄切片
低温电子断层成像三维重构（cryo-ET）技术是发展结构生物学和细胞生物学重要的研究手段。该技术可以得到更真实的接近天然状态的细胞内部高分辨率的三维结构以及蛋白质大分子定位及相互作用的信息，是蛋白质组学研究的重要辅助手段被成为“可视化蛋白质组学”（Visual Approach to Prote
牛津仪器发布新版离子束蚀刻白皮书
作为世界领先的离子束技术和系统制造商，牛津仪器等离子部的应用和技术团队会定期发布技术白皮书，现在最新版的离子束蚀刻白皮书已经面世。 本期白皮书由公司的离子束应用技术资深专家Sebastien Pochon博士和Dave Pearson博士执笔，全面介绍了离子束蚀刻技术并阐述了其在蚀刻工
离子束的离子源的主要参数
①离子掺杂与离子束改性。从20世纪60年代开始，人们将一定能量的硼、磷或其他元素的离子注入到半导体材料中，形成掺杂。掺杂的深度可用改变离子的能量来控制；掺杂的浓度可通过积分离子流强度来控制。离子注入方法的重复性、可靠性比扩散法好。离子注入掺杂在半导体大规模集成电路的生产中已成为重要环节，用离子注入法
XPS能谱仪氩离子束溅射技术介绍
为了清洁被污染的固体表面,在X射线光电子能谱分析中,常常利用离子枪发出的离子束对样品表面进行溅射剥离,以清洁表面。利用离子束定量地剥离一定厚度的表面层,然后再用XPS分析表面成分,这样就可以获得元素成分沿深度方向的分布图,这是离子束最重要的应用。作为深度分析的离子枪,一般采用0.5～5 KeV的Ar
简介离子源离子束的主要参数
①离子束流强 即能够获得的有用离子束的等效电流强度，用电流单位A或mA表示。 ②有用离子百分比 即有用离子束占总离子束的百分比。一般来说，离子源给出的总离子束包括单电荷离子、多电荷离子、各种分子离子和杂质元素离子等的离子束。 ③能散度 由于离子的热运动和引出地点的不同，使得离子源给出的