漫谈半导体工艺节点(三)

Brand指出,环形栅极场效应管并没有想象中那么不稳定,它其实非常实用,你甚至可以把它当做FinFET的改良版。实际上它只是在沟道上增加了几个面。Brand不确定环形栅极场效应管是否能在7nm实现,或者在5nm实现,这一切都取决于业界的进展。更决定于公司在降低栅极长度上是否足够激进。 环形栅极场效应管需要复杂的纳米线架构,但这个在精度控制上面并没有验证。这中间还会面临很多挑战,其中一个就是接触电阻。 至于花费方面,从Intel的22nm开始,和传统的Planar相比,在工艺流程中使用FinFET需要额外付5%的费用,因此在工艺制程中你可以轻易引进一些“破坏性”的新技术。如果是用环形栅极场效应管做水平图层,很多步骤都是和以前相同。当然,也会添加一些类似epi(外延)、selective removal(选择性刻蚀or选择性去除) 和 ALD等工序。 如果几十年后,业界用平面晶体管设计和生产芯片,这又是另一个课......阅读全文

漫谈半导体工艺节点(三)

  Brand指出,环形栅极场效应管并没有想象中那么不稳定,它其实非常实用,你甚至可以把它当做FinFET的改良版。实际上它只是在沟道上增加了几个面。Brand不确定环形栅极场效应管是否能在7nm实现,或者在5nm实现,这一切都取决于业界的进展。更决定于公司在降低栅极长度上是否足够激进。  

漫谈半导体工艺节点(一)

  近来,GlobalFoundries宣布将会推进7nm FinFET工艺,引发了行业对工艺节点、光刻等技术的探讨。本文是来自SemiEngineering 2014年的一篇报道,带领大家了解7nm工艺及以后的半导体业界的发展方向。(由于推测是2014年的,事实上可能有点过时,希望

漫谈半导体工艺节点(二)

  可能的选择  短期内,芯片制造商们明确地会在FinFet和二维的FD-SOI技术上将节点推进到10nm。到了7nm之后,沟道上的的“门”就会上去控制,这就亟待一种全新的晶体管架构。  7nm上的一个领先竞争者就是高电子迁移率的FinFet,也就是在沟道上使用III-V 材料的FinFet

三星开发半导体石墨烯新工艺

  三星电子近日宣布,三星先进技术研究所(SAIT)与韩国成均馆大学合作开发出一种新合成方法,可大面积制备应用于半导体的晶圆级单晶石墨烯。应用该方法制备的半导体单晶,具有优异的电性能和机械性能。该研究负责人说,“我们预计这一发现将加速石墨烯的商业化,并可能开创消费电子技术的新时代。”   石墨烯具

三代测序数据漫谈

三代明星:PacBio及其序列数据再来看看江湖呼声渐涨的三代测序技术。目前三代测序市场上,表现最为抢眼的莫过于以PacBio公司的SMRT和Oxford Nanopore Technologies为代表的纳米孔单分子测序技术。与前两代相比,三代测序最为核心的特点就是单分子测序,测序过程无需进

韩国三星首次研发5纳米半导体工艺

  韩国《中央日报》发布消息称,三星电子已成功研发出5纳米(nm)半导体工艺,并于4月中正式量产首个利用极紫外光刻(EUV)的7纳米芯片。对于新一代半导体的精密工艺问题,三星电子与各企业间的技术较量也日趋激烈。  三星电子宣布成功开发的5纳米精密工艺采用了比现有的ArF更优越的EUV技术。与ArF工

漫谈酶标仪

名:酶标仪字:一台变相光电比色计或分光光度计号:数据收割机一.简介原理        酶标仪实际上就是一台变相光电比色计或分光光度计,其基本工作原理与主要结构和光电比色计基本相同。光源灯发出的光波经过滤光片或单色器变成一束单色光,进入塑料微孔极中的待测标本.该单色光一部分被标本吸收,另一部分则透过标

半导体工艺废气如何处理

半导体废气处理废气介绍:由于半导体工艺对操作室清洁度要求极高,通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气,因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类:酸性废气、碱性废气、有机废气和有毒废气。废气危害:半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的

先进的半导体工艺:FinFET简介

  FinFET简介  FinFET称为鳍式场效晶体管(FinField-EffectTransistor;FinFET)是一种新的互补式金氧半导体(CMOS)晶体管。闸长已可小于25奈米。该项技术的发明人是加州大学伯克利分校的胡正明教授。Fin是鱼鳍的意思,FinFET命名根据晶体管的形状

找到CAN总线(故障)节点的三种办法

CAN总线的出现为分布式控制系统实现各节点之间实时、可靠的数据通信提供了强有力的技术支持,同时,也为工程师们故障排查增加了难度,所以本文主要给大家介绍了找到CAN总线(故障)节点的三种办法。  将所有节点都拔掉,依次往上接当CAN总线出现故障后将所有节点都拔掉,之后一个一个节点往上接,接到系

半导体集成电路的制造工艺

  集成电路在大约5mm×5mm大小的硅片上,已集成了一台微型计算机的核心部分,包含有一万多个元件。集成电路典型制造过程见图1。从图1,可以看到,已在硅片上同时制造完成了一个N+PN晶体管,一个由 P型扩散区构成的电阻和一个由N+P结电容构成的电容器,并用金属铝条将它们连在一起。实际上,在一个常用的

半导体集成电路的工艺保障

  1)原材料控制。包括对掩膜版、化学试剂、光刻胶、特别对硅材料等原材料的控制。控制不光采用传统的单一检验方式,还可对关键原材料采用统计过程控制(statisticalprocesscontrol,SPC)技术,确保原材料的质量水平高,质量一致性好。  2)加工设备的控制。除采用先进的设备进行工艺加

漫谈北大发展与2011年院士增选(三)

  四、   再说说几个该打屁股的。   物理学院——李重生、欧阳颀、孟杰、叶沿林、俞大鹏教授候选中国科学院院士。   物理学院真的该反省了——十年了,整整十年,物理学院没有当选一位院士。这十年,物理学院不是没有努力过,从张树霖、乔国俊,到李重生,到龚旗煌、欧阳颀、俞大鹏、孟杰、叶沿林,各个年

节点光端机概述

  节点式光端机又称总线型光端机,其准确的定义是采用单/双纤链路式组网形式的图像传输系统,也被称为链路式光端机。采用的技术是电信中常用的时分复用技术(TDM)和分插复用技术(ADM),具有节省光纤资源,延长传输距离等优点。由于采用ADM技术的链路式光端机在传输容量上受到较大限制,一般将TDM与ADM

14张图看懂半导体工艺演进对DRAM、逻辑器件、NAND三大尖端...

14张图看懂半导体工艺演进对DRAM、逻辑器件、NAND三大尖端产品的影响近期笔者在清洗业务研讨会上发表了演讲。我不是一名清洗工艺专家,在演讲中介绍更多的是制造工艺的发展趋势及其对清洗的影响。我将在这篇文章中分享并进一步讨论那次演讲的内容,主要围绕DRAM、逻辑器件和NAND这三大尖端产品。DRAM

IRISHFSS整合流程-实现先进工艺节点下的无源建模

简介在先进工艺节点中,无源器件和互连结构的电磁仿真对IC设计人员来说是一个巨大的挑战。而要解决这些挑战,以下几个技术是最常被探讨的:一个整合的设计环境,使电磁仿真工具能够无缝接入现有的设计平台中;在设计阶段中实现快速无源器件建模和合成;在签核sign-off 阶段实现精确验证,同时能把封装的影响

细胞计数方法漫谈

“12345,上山打老虎”这是毛博小时候经常唱的一首童谣,也教会了我怎么数数字。这项技能很重要,多年以后毛博远渡重洋,在米国实验室打工的时候还要经常用到这项技能,那就是细胞计数吧。其实,细胞计数最关键的不是计数,而是计数活细胞。因为在那一大堆细胞里面,肯定有死有活的,只有活的才对我们的实验有意义,是

基因检测历史漫谈

基因检测历史漫谈 

漫谈离子源

样品的离子化是进行质谱分析的重要步骤,如何高效地进行离子化对质谱仪的灵敏度、分辨率等有着重要的影响。 离子源是对样品进行电离的场所,离子源的主要功能是把中性的原子(或分子)电离成离子,并形成具有一定能量的离子束。不同的质谱仪根据分析用途的不同配备有不同的离子源,这些离子源由于电离方式不同,具有不同的

半导体工艺废气如何处理有效果

半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分,在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs,同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物。半导体有机废气处理办法采用RTO设备处理RTO蓄热式氧化炉是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水,净

外节点的概念

中文名称外节点英文名称external node定  义系统树一个分支的末端。代表一种被研究的生物或DNA序列。应用学科遗传学(一级学科),进化遗传学(二级学科)

内部节点的概念

内部节点指系统树中表示研究对象祖先的机体或DNA的分支点。

节点光端机的优势

  全程数字非压缩视频传输,视频质量高,达到广播级,与数字非压缩点对点传输图像完全一致。  完全实时传输,没有压缩图像传输的延时问题。  适用范围广,适应性强。对集中图像、分散图像的传输都能很好的适应。  可扩展性好,图像路数增加非常方便。  节省光纤资源,比点对点传输系统大大节省了光纤芯数且方便管

半导体所片上光互连网络节点用光学路由器研究获进展

  随着通过提高主频来提升微处理器性能的方式遭遇“功耗之墙”的限制,多核并行处理的架构逐渐成为高性能微处理器性能继续提升的重要手段之一。对多核处理器而言,其整体性能不仅与它集成的处理核心的性能及数目有关,也极大地受制于各处理核心之间的通信效率。现有的多核处理器采用由金属连线构建的片上

「官网」2025深圳13届国际半导体蚀刻工艺展「半导体展会」

「官网」2025深圳13届国际半导体技术展「半导体展会」展会时间:2025年4月9日-11日论坛时间:2024年4月9日-11日举办地点:深圳福田会展中心 (深圳市福田中心区福华三路)展会规模: 面积10万平米,展商1800余家,展位3600多个,观众近10万人次展会报名:136 (李先生)中间四位

「官网」2025深圳13届国际半导体光刻工艺展「半导体展会」

「官网」2025深圳13届国际半导体技术展「半导体展会」展会时间:2025年4月9日-11日论坛时间:2024年4月9日-11日举办地点:深圳福田会展中心 (深圳市福田中心区福华三路)展会规模: 面积10万平米,展商1800余家,展位3600多个,观众近10万人次展会报名:136 (李先生)中间四位

美国水环境治理漫谈

  当下,中美关系与中美发展对比似乎已成为较为敏感的议题。但在政治的纷扰之外,两个大国之间的互相注视、互相影响与互相交流从未停止。在全球结成命运共同体的环境领域,这种在经验和方法层面的学习借鉴更是必行之事。在中国水污染治理已进入“深水区”的当下,重新审视和观察发达国家治水、治污、改善和管理水环境的历

漫谈超纯水机

   我们每天都在做实验,接触到的最多的试剂莫过于水,它通常贯穿我们的整个实验过程。也许正是因为水的普遍和易得,往往让我们忽略了它对实验结果产生的影响。正确选择纯水仪器可以帮助科研工作者避免许多不必要的麻烦。在挑选一款合适的纯水器之前,我们应该首先了解我们的实验需要什么样的水。  一、水的基本知识 

美国水环境治理漫谈

  当下,中美关系与中美发展对比似乎已成为较为敏感的议题。但在政治的纷扰之外,两个大国之间的互相注视、互相影响与互相交流从未停止。在全球结成命运共同体的环境领域,这种在经验和方法层面的学习借鉴更是必行之事。在中国水污染治理已进入“深水区”的当下,重新审视和观察发达国家治水、治污、改善和管理水环境的历

三星电子与成均馆大学共同开发半导体石墨烯新工艺

  三星电子近日宣布,三星先进技术研究所(SAIT)与韩国成均馆大学合作开发出一种新合成方法,可大面积制备应用于半导体的晶圆级单晶石墨烯。应用该方法制备的半导体单晶,具有优异的电性能和机械性能。该研究负责人说,“我们预计这一发现将加速石墨烯的商业化,并可能开创消费电子技术的新时代。”   石墨烯具