AJA真空互联磁控溅射镀膜机共享应用
仪器名称：真空互联-磁控溅射镀膜机仪器编号：20004165产地：美国生产厂家：AJA型号：ATC-2200-UHV SPUTTER SYSTEM出厂日期：购置日期：2020-06-05项目名称计价单位费用类别价格备注材料溅射元/小时自主上机机时费460.0Au等贵金属加收100元/10nm所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：010-62784044固定手机：13051135063固定email：zygao@mail.tsinghua.edu.cn联系人：分类标签：微纳 半导体 薄膜技术指标：• 主腔背地真空：9×10–9Torr• 样品台尺寸：4英寸和2英寸，带RF/DC偏压电源• 样品不均匀性：优于1.5%• 靶座数量及尺寸：8个2英寸，1个3英寸• 样品台最高温度：860°C• 溅射电源数......阅读全文
AJA－真空互联磁控溅射镀膜机共享应用
仪器名称：真空互联-磁控溅射镀膜机仪器编号：20004165产地：美国生产厂家：AJA型号：ATC-2200-UHV SPUTTER SYSTEM出厂日期：购置日期：2020-06-05项目名称计价单位费用类别价格备注材料溅射元/小时自主上机机时费460.0Au等贵金属加收100元/10nm所属单位
磁控溅射镀膜机共享应用
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
磁控溅射镀膜机共享
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
清华大学仪器共享平台磁控溅射镀膜机
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
全自动磁控溅射系统共享应用
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zh
Picosun－Oy真空互联原子层沉积系统共享应用
仪器名称：真空互联-原子层沉积系统仪器编号：21029113产地：芬兰生产厂家：Picosun Oy型号：R-200 Advanced出厂日期：购置日期：2021-11-25所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：01062784044固定
EpiQuest真空互联分子束外延系统(半导体）共享应用
仪器名称：真空互联-分子束外延系统(半导体）仪器编号：21028773产地：日本生产厂家：EpiQuest Inc型号：RC2100Se出厂日期：购置日期：2021-11-18所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：010-62784044
多靶位磁控溅射系统共享应用
仪器名称：多靶位磁控溅射系统仪器编号：21012328产地：美国生产厂家：科特·莱斯科公司型号：PVD75出厂日期：购置日期：2021-07-12所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：62781090固定手机：13661079620固定email：
清华大学仪器共享平台牛津真空－热蒸发镀膜机
仪器名称：热蒸发镀膜机仪器编号：20008121产地：英国生产厂家：牛津真空科学（载德半导体技术有限公司）型号：VS4C出厂日期：购置日期：2020-08-03所属单位：电子系>纳米光电子综合测试平台放置地点：罗姆楼B1-304室固定电话：62796594固定手机：固定email：haosun@ts
EpiQuest真空互联分子束外延系统(金属）共享
仪器名称：真空互联-分子束外延系统(金属）仪器编号：21028618产地：日本生产厂家：EpiQuest Inc型号：RC2100Me出厂日期：购置日期：2021-11-18所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：010-62784044固
真空镀膜机的结构原理
一、电控柜的操作 1. 开水泵、气源 2. 开总电源 3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。 4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。 5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关
超高真空多靶磁控溅射镀膜仪
超高真空多靶磁控溅射镀膜仪是一种用于物理学领域的物理性能测试仪器，于2010年2月21日启用。 技术指标 双室磁控溅射系统，极限压力：主溅射室，6.67*10-6Pa，2、永磁靶5套，三个直流电源，两个射频电源，靶材直径60mm；3、6个样品工位，尺寸直径30mm，基片加热最高600度，退火
金盛微全自动磁控溅射系统共享
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zh
薄膜溅射沉积系统共享应用
仪器名称：薄膜溅射沉积系统仪器编号：16041495产地：中国生产厂家：AJA型号：ATC 2200-V出厂日期：201605购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼108固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278109
电镜附件的原理及其应用——离子溅射仪/真空镀膜机
在利用扫描电镜分析非导电样品时，因为样品的不导电性，会在样品表面累积电离子，因此在成像过程中会产生大量的放电现象，严重影响图像质量。因此在观察非导体时一般都要事先用真空镀膜机或离子溅射仪在试样表面上蒸涂（沉积）一层重金属导电膜（我们一般是在试样表面蒸涂一层金膜），这样既可以消除试样荷电现象，又可以增
真空镀膜机清洗的工艺要求
真空工艺进行前应清洗真空材料，从工件或系统材料表面清除污染物；真空零部件的表面清洗处理也是非常有必要的，因为由污染物所造成的气体、蒸气源不仅会使真空系统不能获得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同时也会影响真空部件连接处的强度和密封性能。 污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”，根据
磁控溅射技术应用的现状
磁控溅射技术不仅是科学研究和精密电子制造中常用的薄膜制备工艺技术，经过多年的不断完善和发展，该技术也已经成为重要的工业化大面积真空镀膜技术之一，广泛应用于玻璃、汽车、医疗卫生、电子工业等工业和民生领域。例如，采用磁控溅射工艺生产镀膜玻璃，其膜层可以由多层金属或金属氧化物祖成，允许任意调节能量通过
真空设备产品分类及特点
真空设备产品可分为五大类：(1)、真空获得设备--产生、改善或维持真空的装置。包括各种获得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空机组。A、机械真空泵：旋片泵、往复泵、滑阀泵、罗茨泵、分子泵和液环泵等。B、蒸汽流真空泵：水蒸气喷射泵、油增压泵和油扩散泵等。C、气体捕集真空泵：钛溅射离子泵、低温泵、分子筛吸
不同类型镀膜机的适用范围介绍
1、磁控溅射镀膜设备：应用于信息存储领域，如磁信息存储、磁光信息存储等 2、磁控溅射镀膜机：应用于防护涂层，如飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等 3、磁控溅射镀Al膜生产线：应用于太阳能利用领域，如太阳能集热管、太阳能电池等 4、光学镀膜设备：应用于光学薄膜领域，如增透膜、高反膜、截止滤
真空镀膜机原理和各部件分析
一、真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样，目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔体由不锈钢" target=_blank>不锈钢材料制作，要求不生锈、坚实等，真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。 二、辅助抽气系统：排气系统为镀膜机真空系
多功能真空镀膜机的技术指标
技术指标 电子枪蒸发源：一把成都金雅客公司电子枪，6孔坩埚，每孔40cc容量，电子枪位于真空室下部；电子枪冷却水流量监测，互锁保护，自带自动预熔功能、实现膜厚仪自动控制电子枪镀膜，操作更方便。 电阻蒸发：2组蒸发电极，兼容蒸发舟、螺旋蒸发丝，带有自动档板。1台以色列产TDK蒸发电源功率：1.4
3.2米箱式真空镀膜机通过出厂验收
日前，中国科学院南京天文光学技术研究所（以下简称南京天光所）委托研制的3.2米箱式真空镀膜机通过出厂验收。 近年来，南京天光所镀膜团队开展了提高膜系光谱反射率、膜系环境适应性和膜系用途多样性等方面的研究，掌握多项关键技术，如：紫外增强型宽谱段高反射膜系制备，碳化硅材料基底表面改性层制备，极寒环境
物理气相沉积的详述
(一)真空蒸镀原理(1) 真空蒸镀是在真空条件下，将镀料加热并蒸发，使大量的原子、分子气化并离开液体镀料或离开固体镀料表面(升华)。(2)气态的原子、分子在真空中经过很少的碰撞迁移到基体。(3)镀料原子、分子沉积在基体表面形成薄膜。(二)蒸发源将镀料加热到蒸发温度并使之气化，这种加热装置称为蒸发源。
清华大学仪器共享平台金盛微纳－全自动磁控溅射系统
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zh
多功能真空镀膜机的主要功能简介
多功能真空镀膜机是一种用于物理学、材料科学、电子与通信技术领域的工艺试验仪器，于2019年11月22日启用。 主要功能 系统可镀镀制各种介质膜、光学膜、透明导电膜、铁电薄膜等如：各种金属钛、铂、金等、常见氧化物、Si, Al2O3, TiO2, SiO2,氧化铪等，以及半导体激光器常见膜系，
真空镀膜机为何要安装天寒水汽捕集器
1.在真空系统中，水蒸气是影响抽真空装置抽气速度最大的障碍，天寒-135℃水汽捕集器可以快速有效捕捉系统残余空气中%65到95%的水蒸气，减少抽水蒸气所耗费的时间，效率高达80%。若在现有的抽真空系统中加装天寒-135℃水汽捕集器，可以增加生产能力30%到100%，还能改善镀膜品质。2.在真空系统中
各种真空设备及如何选用真空泵
真空设备产品可分为五大类： (1)、真空获得设备--产生、改善或维持真空的装置。包括各种获得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空机组。A、机械真空泵：旋片泵、往复泵、滑阀泵、罗茨泵、分子泵和液环泵等。B、蒸汽流真空泵：水蒸汽喷射泵、油增压泵和油扩散泵等。C、气体捕集真空泵：钛溅射离子泵、低温泵、
各种真空设备及如何选用真空泵
真空设备产品可分为五大类： (1)、真空获得设备--产生、改善或维持真空的装置。包括各种获得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空机组。A、机械真空泵：旋片泵、往复泵、滑阀泵、罗茨泵、分子泵和液环泵等。B、蒸汽流真空泵：水蒸汽喷射泵、油增压泵和油扩散泵等。C、气体捕集真空泵：钛溅射离子泵、低温泵、
清华大学仪器共享平台科特·莱斯科－多靶位磁控溅射系统
仪器名称：多靶位磁控溅射系统仪器编号：21012328产地：美国生产厂家：科特·莱斯科公司型号：PVD75出厂日期：购置日期：2021-07-12所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：62781090固定手机：13661079620固定email：
南京天光所3.2米箱式真空镀膜机通过出厂验收
中国科学院南京天文光学技术研究所委托研制的3.2米箱式真空镀膜机通过出厂验收。 近年来，南京天光所镀膜团队开展了提高膜系光谱反射率、膜系环境适应性和膜系用途多样性等方面的研究，掌握多项关键技术，例如，紫外增强型宽谱段高反射膜系制备、碳化硅材料基底表面改性层制备、极寒环境大口径镜面防霜膜系制备、