PECVD等离子化学气象沉积原理
pecvd等离子体增强化学气相沉积技术原理是利用低温等离子体作能量源,样品置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体,气体经一系列化学反应和等离子体反应,在样品表面形成固态薄膜.......阅读全文
PECVD工作原理
PECVD--等离子体化学气相沉积法 为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD). 实验机理： 辉光放电等离子体中：电子密度高(109~1012/cm3) 电子气温度比普通气体分子温度高出10-100倍 虽环
PECVD等离子化学气象沉积原理
pecvd等离子体增强化学气相沉积技术原理是利用低温等离子体作能量源,样品置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体,气体经一系列化学反应和等离子体反应,在样品表面形成固态薄膜.
沈阳科仪首台国产12吋PECVD样机出厂测试
10月21日，“国家02重大科技专项首台国产12吋PECVD样机出厂仪式”在中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司子公司——沈阳拓荆科技有限公司举行，沈阳市人大常委会主任赵长义、副市长王玲、杨亚洲，国家02重大专项专家组责任专家张卫，中芯国际资深经理康劲，以及辽宁省科技厅、发改委、外专局、沈阳市
沈阳科仪首台国产12吋PECVD样机出厂测试
10月21日，“国家02重大科技专项首台国产12吋PECVD样机出厂仪式”在中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司子公司——沈阳拓荆科技有限公司举行，沈阳市人大常委会主任赵长义、副市长王玲、杨亚洲，国家02重大专项专家组责任专家张卫，中芯国际资深经理康劲，以及辽宁省科技厅、发改委、外专局、沈阳市
低温PECVD法形成纳米级介质膜微观结构研究
采用俄歇电子能谱 ( AES)和傅里叶红外光谱 ( FTIR)分析低温 PECVD法形成纳米级 Si Ox Ny 介质膜的微观组分结构及其与制膜工艺间关系 ,通过椭圆偏振技术测试该薄膜的物理光学性能。研究结果表明 :该介质膜中氮、氧等元素均匀分布 ,界面处元素含量变化激烈 ;高、低反应气压变化对膜内
我国发现表面绝缘衬底PECVD法制备无需转移单层石墨烯
大面积、高质量石墨烯在传感器和透明导电应用方面有着重大需求，而化学气相沉积法是一种被广泛应用在金属催化剂上生长石墨烯薄膜的方法。然而，由于石墨烯和金属之间有着不同的热膨胀系数（Cu：2.6×10-5/ ℃， graphene：-2.0×10-6/ ℃），生长过程中难免会产生皱纹和裂缝，降低单层石
薄膜沉积设备工艺升级－差异化布局加速国产化进程
本篇报告通过对逻辑、存储芯片的微观结构拆分展示了薄膜结构的种类多样性、工艺复杂性以及多款设备相互补充等特性，并从制程推进、多层趋势、工艺迭代等维度论述了薄膜沉积设备行业的成长性。薄膜沉积设备与光刻、刻蚀并列作为IC 前道制造三大主设备之一，全球市场空间超过200 亿美元，当前国产化率不足5%
沈阳市人大副主任率团视察沈阳科仪公司
12月6日，沈阳市人大副主任徐璐率省、市人大代表视察团，在沈阳市副市长王玲、市政府副秘书长陈小平、浑南新区管委会副主任林海波、沈阳市科技局局长宋锡坤等领导的陪同下，一行40余人参观视察中科院沈阳科学仪器研制中心有限公司。 来访领导了解了公司概况和产品情况，并参观了罗茨干泵、光
影响非晶硅电池性能的因素介绍
影响非晶硅电池转换效率和稳定性的主要因素有：透明导电膜、窗口层性质（包括窗口层光学带隙宽度、窗口层导电率及掺杂浓度、窗口层激活能、窗口层的光透过率）、各层之间界面状态（界面缺陷态密度）及能隙匹配、各层厚度（尤其i层厚度）以及太阳能电池结构等。非晶硅薄膜电池的结构一般采取叠层式或进行集成或构造异质结等
铂悦仪器中标宁波材料所等离子汽相沉积设备
铂悦仪器中标中科院宁波材料所PECVD单腔体及多腔体等离子汽相沉积设备两套 宁波材料所位于宁波市高教园区北区，是中国科学院在浙江省建立的首家国立研究机构，建立新所旨在实施新时期中科院办院方针、加强国家创新体系中各单元协作、推进知识创新工程第三阶段工作，及全面落实科学发展观、加速区域创新体系建设、大
化学气相沉积系统共享
仪器名称：化学气相沉积系统仪器编号：13003987产地：美国生产厂家：TRION型号：PHANTOMIII出厂日期：201205购置日期：201303所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
多晶硅钝化接触n型晶硅太阳电池研究中获进展
多晶硅钝化接触技术（通常称TOPCon，也称为POLO、PERPoly、monoPolyTM、iTOPConTM、PERTOPTM）被广泛认为是最有希望的继PERC电池之后的下一代高效晶硅电池技术之一，是晶硅太阳电池技术领域的研究重点。中国科学院宁波材料技术与工程研究所太阳能及光电子器件研究团队
光纤光谱仪在显微光谱分析中的应用
显微光谱分析又称微区光谱分析，是通过光学显微镜等辅助光学设备，采集微小区域的光信号进行样品光谱分析的一种方法。 显微光谱分析是对比普通光谱分析而言。通常普通光谱分析是指普通光纤光谱仪通过光纤将光信号导入光谱之中。但是由于光纤收集的是发散光(一般光谱光纤数值孔径为0.22)，因此普通光纤
光纤光谱仪在显微光谱分析中的应用
显微光谱分析又称微区光谱分析，是通过光学显微镜等辅助光学设备，采集微小区域的光信号进行样品光谱分析的一种方法。 显微光谱分析是对比普通光谱分析而言。通常普通光谱分析是指普通光纤光谱仪通过光纤将光信号导入光谱之中。但是由于光纤收集的是发散光(一般光谱光纤数值孔径为0.22)，因此普通光纤光谱仪仅
光纤光谱仪在显微光谱分析中的应用
显微光谱分析又称微区光谱分析，是通过光学显微镜等辅助光学设备，采集微小区域的光信号进行样品光谱分析的一种方法。 显微光谱分析是对比普通光谱分析而言。通常普通光谱分析是指普通光纤光谱仪通过光纤将光信号导入光谱之中。但是由于光纤收集的是发散光(一般光谱光纤数值孔径为0.22)，因此普通光纤光谱仪仅能采集
光纤光谱仪在显微光谱分析中的应用
显微光谱分析是对比普通光谱分析而言。通常普通光谱分析是指普通光纤光谱仪通过光纤将光信号导入光谱之中。但是由于光纤收集的是发散光(一般光谱光纤数值孔径为0.22)，因此普通光纤光谱仪仅能采集较大空间的光信号。测试信号并不理想。 后来，人们通过光学显微镜配合光纤光谱仪进行样品空间分辨分析使得样品的
光纤光谱仪在显微光谱分析中的应用
显微光谱分析又称微区光谱分析，是通过光学显微镜等辅助光学设备，采集微小区域的光信号进行样品光谱分析的一种方法。 显微光谱分析是对比普通光谱分析而言。通常普通光谱分析是指普通光纤光谱仪通过光纤将光信号导入光谱之中。但是由于光纤收集的是发散光(一般光谱光纤数值孔径为0.22)，因此普通光纤光
氦质谱检漏仪半导体设备及材料检漏应用
真空设备在半导体行业中的应用愈来愈广泛，例如真空镀膜设备（蒸发，溅射），干法雷设备（ICP,RIE,PECVD）,热处理设备（合金炉，退火炉）， 掺杂设备（离子注入机等）这些真空设备作为半导体技术发展不可或缺的条件必将起到越来越重要的作用。 半导体设备及材料需要检漏原因：1、半导体设备
影响非晶硅电池转换效率和稳定性的主要因素介绍
由于非晶硅结构是一种无规网络结构，具有长程无序性，所以对载流子有极强的散射作用，导致载流子不能被有效地收集。为了提高非晶硅太阳能电池转换效率和稳定性，一般不采取单晶硅太阳能电池的p－n结构。这是因为轻掺杂的非晶硅费米能级移动较小，如果两边都采取轻掺杂或一边是轻掺杂另一边用重掺杂材料，则能带弯曲较小，
TRION化学气相沉积系统共享应用
仪器名称：化学气相沉积系统仪器编号：13003987产地：美国生产厂家：TRION型号：PHANTOMIII出厂日期：201205购置日期：201303所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
清华大学仪器共享平台TRION－化学气相沉积系统
仪器名称：化学气相沉积系统仪器编号：13003987产地：美国生产厂家：TRION型号：PHANTOMIII出厂日期：201205购置日期：201303所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
化学气相沉积法需要哪些实验仪器和药品
1,首先你需要一台化学气相沉积机台，常见的有牛津的PECVD几台。2,药品的话主要是一切特殊气体，如硅烷，氮气，氨气，氧气，笑气，氟化碳气体等。3,试验步骤建议使用田口的DOE实验法，这样你可以省去一些不必要的试验。
印度知名研究机构订购牛津多台设备
牛津仪器等离子技术部是刻蚀、沉积和生长设备的领导者，近期获得位于印度班加罗尔的印度科学院（IISc）纳米电子研究中心（CEN）采购三台等离子刻蚀与沉积设备的订单。这三台System100等离子刻蚀与沉积设备将安装在该纳米电子研究中心（CEN）先进的纳米电子设备无尘室内，其中两台是PlasmaPr
氦质谱检漏仪半导体设备及材料检漏应用
真空设备在半导体行业中的应用愈来愈广泛，例如真空镀膜设备（蒸发，溅射），干法雷设备，热处理设备（合金炉，退火炉），掺杂设备（离子注入机等）这些真空设备作为半导体技术发展不可或缺的条件必将起到越来越重要的作用。 真空设备在半导体行业中的应用愈来愈广泛，例如真空镀膜设备（蒸发，溅射），干法雷设备（
什么是气相沉积法
化学气相沉积法，包括低压化学气相沉积（LPCVD）和等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺。 化学气相沉积主要是以末种化合物,为反应气体,在一定的保护气氛下反应生成单质原子并沉积在加热的衬底上，衬底材料一般选用次单质或其稳定化合物等。
Protoflex公司总裁莅临铂悦仪器拜访考察
Protoflex公司总裁Pawan Bhat Ph.D.莅临铂悦仪器拜访考察，为我们的销售团队展开为期3天的技术培训，并且针对长期合作及市场开拓进行深刻探讨，详细介绍了QE、IV、PECVD、PVD设备，为太阳能、LED、半导体、微电子、能源、显示和照明等行业提供
纳米压痕仪仪器介绍
纳米压痕仪主要用于测量纳米尺度的硬度与弹性模量，可以用于研究或测试薄膜等纳米材料的接触刚度、蠕变、弹性功、塑性功、断裂韧性、应力-应变曲线、疲劳、存储模量及损耗模量等特性。可适用于有机或无机、软质或硬质材料的检测分析，包括PVD、CVD、PECVD薄膜，感光薄膜，彩绘釉漆，光学薄膜，微电子镀膜，保护
纳米压痕仪的介绍
纳米压痕仪主要用于测量纳米尺度的硬度与弹性模量，可以用于研究或测试薄膜等纳米材料的接触刚度、蠕变、弹性功、塑性功、断裂韧性、应力-应变曲线、疲劳、存储模量及损耗模量等特性。可适用于有机或无机、软质或硬质材料的检测分析，包括PVD、CVD、PECVD薄膜，感光薄膜，彩绘釉漆，光学薄膜，微电子镀膜，
HIT电池的工艺流程
HIT电池工艺流程HIT电池的一大优势在于工艺步骤相对简单，总共分为四个步骤：制绒清洗、非晶硅薄膜沉积、TCO制备、电极制备。制备的核心工艺是非晶硅薄膜的沉积，其对工艺清洁度要求极高，量产过程中可靠性和可重复性是一大挑战，目前通常用PECVD法制备。HIT电池的制备工艺步骤简单，且工艺温度低，可避免
HIT电池的工艺流程
HIT电池工艺流程HIT电池的一大优势在于工艺步骤相对简单，总共分为四个步骤：制绒清洗、非晶硅薄膜沉积、TCO制备、电极制备。制备的核心工艺是非晶硅薄膜的沉积，其对工艺清洁度要求极高，量产过程中可靠性和可重复性是一大挑战，目前通常用PECVD法制备。HIT电池的制备工艺步骤简单，且工艺温度低，可避免