激发X射线荧光分析法的概念
当α 、β、γ或X射线作用于样品时，由于库仑散射，轨道电子吸收其部分动能，使原子处于激发状态。由激发态返回基态时发射特征X射线，根据此特征X射线的能量和强度来分析元素的种类和含量。其灵敏度很高，用途很广。......阅读全文
激发X射线荧光分析法的概念
当α 、β、γ或X射线作用于样品时，由于库仑散射，轨道电子吸收其部分动能，使原子处于激发状态。由激发态返回基态时发射特征X射线，根据此特征X射线的能量和强度来分析元素的种类和含量。其灵敏度很高，用途很广。
质子激发X射线荧光分析的X－射线谱
在质子X 射线荧光分析中所测得的X 射线谱是由连续本底谱和特征X 射线谱合成的叠加谱。样品中一般含有多种元素，各元素都发射一组特征X 射线谱，能量相同或相近的谱峰叠加在一起，直观辨认谱峰相当困难，需要通过复杂的数学处理来分解X 射线谱。解谱包括本底的扣除、谱的平滑处理、找峰和定峰位、求峰的半高宽
X射线荧光分析法
原子发射与原子吸收光谱法是利用原子的价电子激发产生的特征光谱及其强度进行分析。 X- 射线荧光分析法则是利用原子内层电子的跃迁来进行分析。 X 射线是伦琴于 1895 年发现的一种电磁辐射，其波长为 0.01 ～ 10nm。在真空管内用电加热灯丝（钨丝阴极）产生大量热电子，热电子被高压（万伏）加速撞
质子激发X射线荧光分析的简介
利用原子受质子激发后产生的特征 X射线的能量和强度来进行物质定性和定量分析的方法。简称质子 X射线荧光分析，英文缩写为PIXE。质子X 射线荧光分析是20 世纪70 年代发展起来的一种多元素微量分析技术，其分析灵敏度可达10-16 克，相对灵敏度可达10-6～10-7 克/克。原则上可分析原子序
X射线荧光分析法简介
X射线荧光分析法（X-ray fluorescence analysis），是对固体或液体试样进行化学分析的一种非破坏性物理分析法。试样在强X射线束照射下产生的荧光X射线被已知高点阵间距的晶体衍射而取得荧光X射线光谱。这种谱线的波长是试样中元素定性分析的依据；谱线的强度是定量分析的依据。
X射线荧光分析法的应用
X射线荧光分析法用于物质成分分析，检出限一般可达3-10～10-6克/克(g/g)，对许多元素可测到10-7～10-9g/g，用质子激发时 ，检出可达10-12g/g；强度测量的再现性好；便于进行无损分析；分析速度快；应用范围广，分析范围包括原子序数Z≥3的所有元素。除用于物质成分分析外，还可用
X射线荧光分析法的简介
中文名称X射线荧光分析法英文名称X-ray fluorescence analysis定 义对固体或液体试样进行化学分析的一种非破坏性物理分析法。试样在强X射线束照射下产生的荧光X射线被已知高点阵间距的晶体衍射而取得荧光X射线光谱。这种谱线的波长是试样中元素定性分析的依据；谱线的强度是定量分析的依
质子激发X射线荧光分析的实验装置
质子X 射线荧光分析的主要实验装置包括： ①加速器，一般用质子静电加速器，选用能量为1～3 兆电子伏的质子，在此能量范围内，质子激发X射线的产额高，灵敏度高；质子的能量再高时，将会引起许多核反应，使本底增大；能量再低时，质子的穿透能力下降，只能用于表面分析。②靶室（或称散射室），是分析样品放置
简述质子激发X射线荧光分析的原理
基本原理是用高速质子照射样品，质子与样品中的原子发生库仑散射。原子内层电子按一定几率被撞出内壳层，留下空穴，较外层电子向这个空穴跃迁时发射出特征X 射线。用探测仪器探测和记录这些特征X 射线谱，根据特征X 射线的能量可定性地判断样品中所含元素的种类，根据谱线的强度可计算出所测元素的含量。
X射线荧光光谱的概念
X射线荧光光谱(XRF)：X射线荧光光谱按 分 离 特 征 谱 线 的 方 法 分 为 波 长 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）两种。WD－XRF与ED－XRF的区别在于前者是用分光晶体将荧光光束进行色散，而后者则是借助高分辨率敏感半导体检测器与多道分析器将所得信号按
X射线荧光分析法的未来展望
X射线荧光分析法同其他分析技术一样，不是完美无缺的。在物质成分分析中，它对一些最轻元素（Z≤8）的测定还不完全成熟，只能是属于初期应用的阶段。常规分析中某些元素的测定灵敏度不如原子发射光谱法高（采用同步辐射和质子激发的X射线荧光分析除外），根据各个工业部门生产自动化的要求（例如选矿流程中的自动控
X射线荧光分析法的应用特点
X射线荧光分析法用于物质成分分析，检出限一般可达3-10～10-6克/克(g/g)，对许多元素可测到10-7～10-9g/g，用质子激发时 ，检出可达10-12g/g；强度测量的再现性好；便于进行无损分析；分析速度快；应用范围广，分析范围包括原子序数Z≥3的所有元素。除用于物质成分分析外，还可用于原
质子激发X射线荧光分析的非真空分析技术
质子X 射线荧光分析一般在真空中照射样品（称作真空分析或内束技术），但也发展了一种非真空分析技术（或称外束技术），即将质子束从真空室中引出，在空气（或氦气）中轰击样品。真空分析可能引起厚样品积累正电荷（质子电荷）而吸引周围电子，造成本底增高。非真空分析由于样品周围空气电离而有导电性，可消除电荷积
X射线管激发X荧光光谱连续本底扣除方法研究
X射线管是目前X射线荧光光谱分析中最常采用的激发源,它所产生的原级谱成为了X荧光光谱中本底成分的主要来源,在对这种光谱进行进一步的分析处理之前需要对其本底进行扣除,对本底估计的准确性直接影响后续处理步骤的效果。对射线管激发X荧光光谱的成分进行了分析,针对其本底特点构造了一种本底强度的估计方法,并根据
X射线荧光光谱分析法
利用原级 X射线光子或其他微观粒子激发待测物质中的原子,使之产生荧光（次级X射线）而进行物质成分分析和化学态研究的方法。在成分分析方面,X射线荧光光谱分析法是现代常规分析中的一种重要方法。 简史 20世纪20年代瑞典的G.C.de赫维西和R.格洛克尔曾先后试图应用此法从事定量分析，但由于当时记录
X射线荧光分析法的基本信息介绍
X射线荧光分析法（X-ray fluorescence analysis），是对固体或液体试样进行化学分析的一种非破坏性物理分析法。试样在强X射线束照射下产生的荧光X射线被已知高点阵间距的晶体衍射而取得荧光X射线光谱。这种谱线的波长是试样中元素定性分析的依据；谱线的强度是定量分析的依据。
X射线荧光分析法的特点与适应范围
（1）适应范围广 除了H，He，Li，Be外，可对周期表中从5B到92U作元素的常量、微量的定性和定量分析。 （2）操作快速方便 在短时间内可同时完成多种元素的分析。 （3）不受试样形状和大小的限制，不破坏试样，分析的试样应该均匀。 （4）灵敏度偏低 一般只能分析含量大于0.01%的
X射线荧光分析法的特点与适应范围
(1)适应范围广 除了H，He，Li，Be外，可对周期表中从5B到92U作元素的常量、微量的定性和定量分析。 (2)操作快速方便 在短时间内可同时完成多种元素的分析。 (3)不受试样形状和大小的限制，不破坏试样，分析的试样应该均匀。 (4)灵敏度偏低 一般只能分析含量大于0.01%的
X射线荧光光谱仪的吸收与激发效应
对一给定元素的某一吸收限的短波侧，质量衰减系数pm迅速地随着波长λ的增加而变大，根据式μm=Kλm及勒鲁的研究结果，对于若干主要谱系，在0.18-10A的波段，λ的幂值m变化在2.1~2.8之间。因此越是接近吸收限短波侧的谱线，所受的吸收或衰减就越大。而且，对一谱系，由于km随的变化是连续的，故
X射线荧光光谱分析法的简介
X射线荧光光谱分析法，利用原级X射线光子或其他微观粒子激发待测物质中的原子，使之产生荧光（次级X射线）而进行物质成分分析和化学态研究的方法。 [1] 在成分分析方面，X射线荧光光谱分析法是现代常规分析中的一种重要方法。
X射线荧光光谱分析法的特点
(1）分析速度快。 (2）X射线荧光光谱跟样品的化学结合状态及物理状态无关。 (3）非破坏分析。 (4）X射线荧光分析是一种物理分析方法，所以对化学性质上属于同一族的元素也能进行分析。 (5）分析精密度高。 (6) X射线光谱比发射光谱简单,故易于解析。 (7）制样简单。 (8）X射线
x射线测厚仪概念
X射线测厚仪工作原理、结构特性: X射线测厚仪利用X射线穿透被测材料时，X射线的强度的变化与材料的厚度相关的特性，从而测定材料的厚度，是一种非接触式的动态计量仪器。它以PLC和工业计算机为核心，采集计算数据并输出目标偏差值给轧机厚度控制系统，已达到要求的轧制厚度. 适用范围：生产铝板、铜板
X射线荧光光谱仪的吸收与激发(增强)效应
① 原级入射线进人样品时所受的吸收效应； ② 荧光谱线出射时受样品的吸收或分析元素受样品中其它元素的激发效应； ③ 第三级的激发效应。 以上各级吸收和激发效应，都随着样品基体化学组成的差异而发生变化。
X射线荧光（XRF）：理解特征X射线
什么是XRF？ X射线荧光定义：由高能X射线或伽马射线轰击激发材料所发出次级（或荧光）X射线。这种现象广泛应用于元素分析。 XRF如何工作？ 当高能光子（X射线或伽马射线）被原子吸收，内层电子被激发出来，变成“光电子”，形成空穴，原子处于激发态。外层电子向内层跃迁，发射出能量等于两级能
X射线分析法的简介
中文名称X射线分析法英文名称X-ray analysis定 义测量试样在各种条件下所发射的特征X射线，或者是测定试样的X射线衍射图形，包括X射线衍射分析法、发射X射线谱法和吸收X射线谱法三类。应用学科机械工程（一级学科），分析仪器（二级学科），能谱和射线分析仪器-能谱和射线分析仪器分析原理（三级学
利用X射线荧光分析法分析质量和干扰源
如今，化学和医药产品的质量稳定有着非常重要的意义。一些干扰性的影响因素，例如生产设备中出现有害沉积物，不仅会影响产品质量，还会损坏生产设备的零部件。而在现代化分析技术的帮助下，用户在几分钟内即可完成故障的分析诊断。 在流程工艺设备中总是不断出现由有害沉积物在生产设备中的沉积而带来的故障和干
关于环境分析方法——X射线荧光分析法的介绍
X射线荧光分析的基本原理是以高能X射线（一次X射线）轰击样品，将待测元素原子内壳层的电子逐出，使原子处于受激状态，10-12～10-15秒后，原子内的原子重新配位，内层电子的空位由较外层的电子补充，同时放射出特征X射线（二次X射线）。特征X射线波长λ和原子序数Z有一定关系：λ ∝1/Z2。测定这
电子激发X荧光分析的介绍
电子激发X荧光分析的轫致辐射本底比PIXE高二个量级以上，因此分析灵敏度低得多。但是，用聚焦的电子束激发样品表面1微米的区域,使产生元素的特征X 射线，可以观察样品表面组成的局部变化。用这种方法能测定合金、矿物、陶瓷等样品中的夹杂物和析出物，决定合金元素的局部富集区等。
荧光分析法的概念
荧光分析法是一种利用某些物质的荧光光谱特性来进行定性、定量的分析方法。一般所说的荧光分析法，是指以紫外或可见光作为激发光源，所发射的荧先波长较激发光波长要长的分子荧充分析法。
荧光分析法的概念
荧光分析法是指利用某些物质被紫外光照射后处于激发态，激发态分子经历一个碰撞及发射的去激发过程所发生的能反映出该物质特性的荧光，可以进行定性或定量分析的方法。由于有些物质本身不发射荧光（或荧光很弱），这就需要把不发射荧光的物质转化成能发射荧光的物质。例如用某些试剂（如荧光染料），使其与不发射荧光的物质