双波长激光器造就无需紫外光的光刻技术
【导语】计算机芯片中采用光刻技术创建图片来存储信息，光刻技术中紫外光和图片大小有成正比关系，紫外光波长越短，图片越小，短波紫外光条件非常苛刻而且昂贵。近期，John Fourkas，来自美国马里兰大学化学与生命科学学院的化学与生物化学教授，和他的研究小组已经研发出一种新型台式仪器——RAPID光刻仪(通过光致钝化增强分辨率)，使无需使用紫外线制作微型图片成为可能。 图片说明：RAPID光刻仪——John Fourkas及其研究组研发出的技术可创建比人头发丝小2500倍的图片。 制作微型图片的能力，对于计算机芯片的制造和纳米技术其它许多现行的有潜力的应用来说，是非常必要的。然而，通过常用的称为光刻技术的工艺制造较小的图片，需要使用紫外光，因此从事此项研究就非常困难而且昂贵。 John Fourkas，来自美国马里兰大学化学与生命科学学院的化学与生物化学教授，和他的研究小组已经研发出一种新型台式仪器——RA......阅读全文
极紫外光刻新技术问世
据日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。 在传统光学系统中，例如照相机、望远镜和
“极紫外光刻关键技术研究”通过验收
近日，“极紫外（EUV）光刻关键技术研究”项目验收会在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（以下简称长春光机所）召开，验收会由“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项（02专项）实施管理办公室组织。 会上，评审专家组肯定了项目取得的一系列成果，一致同意项目通过验收，认为该项目的
光刻机的紫外光源
曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。 常见光源分为: 可见光：g线：436nm 紫外光（UV），i线：365nm 深紫外光（DUV）,KrF 准分子激光：248 nm, ArF 准分子激光：193 nm 极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm 对光源系统的要求 a.有适当的波长。
双波长激光器造就无需紫外光的光刻技术
【导语】计算机芯片中采用光刻技术创建图片来存储信息，光刻技术中紫外光和图片大小有成正比关系，紫外光波长越短，图片越小，短波紫外光条件非常苛刻而且昂贵。近期，John Fourkas，来自美国马里兰大学化学与生命科学学院的化学与生物化学教授，和他的研究小组已经研发出一种新型台式仪器——RAPID光
光刻技术与纳米光刻简介
距离理查德·菲利普斯·费曼著名的演讲“There’s plenty of room at the bottom”有将近60年历史。在他的论文中，他曾问到：“我们怎么样写小？”在今天的科学技术研究中，仍有同样的问题。虽然自上世纪60年代以来，科研技术已经大大进步，半导体行业中使用的线宽已经大幅度下
光刻技术与纳米光刻简介
距离理查德·菲利普斯·费曼著名的演讲“There’s plenty of room at the bottom”有将近60年历史。在他的论文中，他曾问到：“我们怎么样写小？”在今天的科学技术研究中，仍有同样的问题。虽然自上世纪60年代以来，科研技术已经大大进步，半导体行业中使用的线宽已经大幅度下
光刻技术与纳米光刻简介
距离理查德·菲利普斯·费曼著名的演讲“There’s plenty of room at the bottom”有将近60年历史。在他的论文中，他曾问到：“我们怎么样写小？”在今天的科学技术研究中，仍有同样的问题。虽然自上世纪60年代以来，科研技术已经大大进步，半导体行业中使用的线宽已经大幅度下
奥普光电对于晶体材料用于紫外光刻回应
有投资者在投资者互动平台提问：请问公司CaF2晶体材料是否可用于紫外光刻？奥普光电（002338.SZ）2月27日在投资者互动平台表示，公司生产的CaF2晶体材料未用于紫外光刻。
光电所深紫外光刻机镀膜技术研究取得新进展
193nm 光刻机是目前半导体产业的核心装备。为实现大的数值孔径，光刻机镜头通常包含大量接近于半球形状的凸球面和凹球面，这些球面导致同一镜面上光线入射角度范围高达0°到60°以上。目前通用的热蒸发行星镀膜技术会引起球面上严重的膜厚不均匀；同时在球面上的不同位置，高低折射率材料如LaF3 和MgF
RACE(rapidamplification－of－cDNA－ends)技术2
具体的实验步骤cDNA第一条链的合成：我们建议进行cDNA合成的对照反应，这样可以对样品的 cDNA的合成进行鉴定。加入各种试剂之后，在气浴中42度保温一个小时。注意： 在水浴或酒精浴中保温回减少反应体积，从而降低第一链的合成效率。将管放于冰上，以终止第一链的合成反应。直接进行第二链的合成。cDNA
RACE(rapidamplification－of－cDNA－ends)技术1
RACE技术的简介cDNA完整序列的获得对基因结构、蛋白质表达、基因功能的研究至关重要。完整的cDNA 序列可以通过文库的筛选和末端克隆技术获得。末端克隆技术是20世纪80年代发展起来的。RACE(rapid-amplification of cDNA ends)是通过PCR进行cDNA末端快速克隆
光电所研制出实用深紫外光刻机
近日，中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机（Mask aligner），光刻分辨力达到500nm。 Mask aligner因使用方便、效率高、成本低，一直是使用面最广、使用数量最多的一种光刻设备。在现有的微纳加工工艺中，光刻所采用的波段是决定
Glucosamine－Rapid－Assay
Glucosamine Rapid AssayMRTHOD:Place sample (containing 0.5 - 10 µg GlcN) in a Pyrex screw capped tube.Add HCl to a final concentration of 2N and a fin
光刻垄断难解，技术难在哪？
经常听说，高端光刻机不仅昂贵而且还都是国外的，那么什么是光刻机呢？上篇我们聊了从原材料到抛光晶片的制成过程，今天我们就来聊聊什么是光刻～第一步骤的晶体生长机晶片的制造，我们上篇已经聊过了。今天我们要聊的是光刻，我们先简单聊一聊硅的氧化（热氧化），刻蚀的话我们后面再讲。硅的氧化其中包含了在分立器件和集
光刻技术首次绘出银纳米结构
德国柏林亥尔姆茨材料和能源研究中心与联邦材料测试与研究机构合作，首次在银材料底层上完成光刻纳米结构，为未来光计算机数据处理、新型电子器件制造开辟了新的途径。这项成果刊登在美国化学学会的《应用材料和界面》杂志上。 要想在材料表面获得精细结构图样，最佳选择是采用电子显微镜扫描技术，利用电子束在其
美开发出热蘸笔纳米光刻技术
据美国物理学家组织网11月7日报道，美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用，据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能在物质表面构造大小为20纳米的结构。借助这一技术，科学家们能廉价地在多种材料表面构造和种植出纳米结构，用以制造电路和化学传感器，或者研究药物如何依附于蛋白质和病
我国纳米光刻技术研究取得突破
日前，中科院光电技术研究所微光刻技术与微光学实验室首次提出基于微结构边际的LSP超分辨光刻技术。该技术利用微纳结构边际作为掩模图形，对表面等离子体进行有效激发，其采用普通I-line、G-line光源获得了特征尺寸小于30纳米的超分辨光刻图形。 据相关负责人介绍，传统的微光刻工艺采用尽可能
电工所科技前沿论坛“微光刻与电子束光刻技术”开讲
从1958年世界第一块平面集成电路到2012年04月24日英特尔在北京天文馆正式发布核心代号为Ivy Bridge的第三代酷睿处理器—英特尔首款22纳米工艺处理器，短短五十多年，微电子技术一直遵循着摩尔定律，发展势头迅猛。 针对微光刻与电子束光刻技术发展图谱，7月6日，中科院微电子所陈
A－simple,－rapid－procedure－for－the－isolation－of－DNA－for－PCR
N.M. DuTeau and J.F. Leslie - Department of Plant Pathology, Throckmorton Hall, Kansas State University, Manhattan, KS 66506-5502The polymerase chain
A－rapid,－quantitative－and－inexpensive－method－for－detecting－apoptosis
ASTRACTWe describe a rapid and quantitative flow cytometric method for determining the apoptotic or anti-apoptotic potential of a gene in various cell
A－simple,－rapid－procedure－for－the－isolation－of－DNA－for－PCR
The polymerase chain reaction (PCR) is a method for amplifying specific segments of DNA defined by the small primers used to start the reaction. Using
巧用沾笔纳米光刻技术获得超材料
沾笔纳米光刻工艺示意图 你或许没有想过将坚硬的金属或半导体与柔软的有机物或生物产品结合起来会是何种情景，不过美国科学家可以告诉你的是，他们获得了自然界从没有见过的混合材料，而这些混合材料在医学和制造业中将具有惊人的应用前景。 美国佛罗里达州立大学综合纳米研究所（INSI）的科学家
研究人员提出新型混合光刻技术
近日，清华大学深圳国际研究生院副教授李星辉课题组在分焦面超像素阵列光刻制造领域取得新突破，为中红外偏振成像系统的核心器件制备提供了新方案。相关研究成果发表于《极端制造》。分焦平面阵列因其具备高集成度、高鲁棒性和高动态适应性等优势，在偏振成像领域受到广泛关注。制造分焦平面阵列的关键，在于制备阵列化的各
rapid－S－cube：专用测硫仪
随着人们对环境的重视，硫的分析变得越来越重要。 德国Elementar公司是CHNS元素分析仪的专业厂商，在此技术之上，已经开发了用于测定总硫含量的专用仪器。 rapid S cube能够分析几乎每一种样品，从土壤到液体，从有机物到无机物，样品重量从微量到大量。除了优异的测量精密
A－rapid－and－highly－sensitive－method－for－somatic－mutation－profiling
AbstractTumor genotyping can provide a useful guide to drive clinical trials, inform treatment options, and predict patient outcomes1. This is due, in
极紫外光源技术项目通过验收
9月23至24日，由中国科学院大连化学物理研究所分子反应动力学国家重点实验室杨学明院士承担的中国科学院关键技术研发团队项目“极紫外光源技术及其在能源基础科学研究中的应用团队”通过验收。 中科院条件保障与财务局组织验收专家组听取了项目总体报告和三个核心成员报告，了解了财务审查情况，现场查看了项
A－rapid,－quantitative－and－inexpensive－method－for－detecting－apoptosis2
Figure 1.Determination of apoptosis in transiently transfected murine [beta] tumor cells. (A) The number of apoptotic [beta]HC 13T tumor cells (% apop
Rapid－Isolation－and－Purification－of－Photosystem－I－ChlorophyllBinding...
The available procedures for isolation and purification of photosystem I (PSI) from Chlamydomonas reinhardtii are time consuming and usually require
新型激光刻蚀技术将普通金属变成超级材料
飞秒激光在金属表面刻蚀出的层次结构，如铂表面在扫描电子显微镜(SEM)下的图片所示 罗切斯特大学光学院的教授郭春雷研制出了一种用激光让材料具有疏水性的技术， 如图所示，水珠从被该技术处理过的样品表面上滑落。 华盛顿2015年1月20日—纽约罗切斯特大学的研究者们通过用飞秒激光脉冲轰击普通
光刻机原理
光刻机原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到晶圆上，最后形成芯片。就好像原本一个空空如也的大脑，通过光刻技术把指令放进去，那这个大脑才可以运作，而电路图和其他电子元件就是芯片设计人员设计的指令。光刻机就是把芯片制作所