扫描电镜X射线能谱法在镀层分析中的应用
以测定人民币壹元和伍角硬币的镀层成分为例子来说明扫描电镜-X射线能谱法在镀层分析中的应用。这种无损、检测速率快的分析方法,必将在电镀工艺研究和开发等方面发挥更大的作用。 ......阅读全文
扫描电镜X射线能谱法在镀层分析中的应用
以测定人民币壹元和伍角硬币的镀层成分为例子来说明扫描电镜-X射线能谱法在镀层分析中的应用。这种无损、检测速率快的分析方法,必将在电镀工艺研究和开发等方面发挥更大的作用。
X－射线能谱
X 射线能谱（ Energy-dispersive X-ray spectroscopy, EDS）是微区成分分析最为常用的一种方法，其物理基础是基于样品的特征 X 射线。当样品原子内层电子被入射电子激发或电离时，会在内层电子处产生一个空缺，原子处于能量较高的激发状态，此时外层电子将向内层跃迁以填补
X射线能谱定性分析
X射线能谱定性分析快速有效，是电子探针和扫描电镜分析必须的组成部分。用X射线能谱仪测量试样特征X射线全谱中各谱峰的能量值，计算机释谱得出试样的元素组成。X射线能谱定性分析要注意背景的判别、峰的位移、峰的重叠、逃逸峰、二倍峰、和峰和其他干扰峰等问题，以免导致错误的分析结果。(1)背景的判别在使用X射线
X射线能谱定量分析
随着探头制造技术水平的提高、电子学技术的发展,以及对脉冲处理技术和重叠峰处理方法的改进,能谱定量分析的精度得到不断提高。目前,对原子序数在11～30之间的常用元素,其分析精度大体上可以达到波长谱仪的水平。由于能谱定量分析的方法简单、操作方便,它既能进行大试样的平均成份分析,也能进行微粒、薄板、镀层、
X射线镀层测厚仪
提供X-ray测厚仪的操作及方法，从而了解PCB板化学镀层（金、镍、锡、银）的厚度情况。2.0 范围：适用于本公司品质部物理实验室X-ray测厚仪。3.0 X-ray测厚仪操作要求及规范3.1测试环境：温度22±3℃，湿度60±15%。3.2开机：打开测试主机、电脑、显示器，打印机电源。3.3进
X射线能谱仪简介
能谱仪是利用X射线能谱分析法来对材料微区成分元素种类与含量分析的仪器，常常配合扫描电子显微镜与透射电子显微镜的使用。
软X射线能谱仪
本文描述了一个用于托卡马克杂质谱线精细测量的高分辨软X射线谱仪。谱仪采用Johann型弯晶衍射结构,以多丝正比室作探测器件。其测量范围为2—8keV(1—6),能量分辨为4.1eV(在6.4keV处)。多丝正比室采用阳极丝逐丝读出法,位置读出精度2mm。谱仪配有自动数据记录系统。
扫描电镜X射线能谱法测定镀金饰品的镀层结构
介绍一种测定镀金饰品镀层结构的方法。该法可测定厚度为几十纳米的镀层成分。
X射线金属镀层测厚仪
XRF2000镀层测厚仪,提供金属镀层厚度的测量，同时可对电镀液进行分析，不单性能优越,而且价钱超值同比其他牌子相同配置的机器，XRF2000为您大大节省成本。只需数秒钟,便能非破坏性地得到准确的测量结果甚至是多层镀层的样品也一样能胜任。全自动XYZ样品台，镭射自动对焦系统，十字线自动调整。超大/开
X射线机重过滤X射线能谱的测量
本文报道了用 NaI(Tl)闪烁谱仪对国产 F34-Ⅰ型 X 射线机的重过滤 X 射线能谱的测量和解谱方法,给出一组测量结果,并对测量结果进行了比较和讨论。
软X射线源上X射线能谱与X射线能量的测量
本文介绍了国内首次利用针孔透射光栅谱仪对金属等离子体Ｚ箍缩Ｘ射线源能谱的测量结果及数据处理方法。同时用量热计对该源的单脉冲Ｘ射线能量进行了测量并讨论了其结果。
电子探针分析的X射线能谱法
本文介绍了使用硅(锂)检测器进行定量电子探针分析的一种方法,这种方法使用了背景模拟技术及其它技术中的电荷收集不完全和电子噪声的校正。轻元素分析的改进对硅酸盐样品是特别有利的,使之尽可能采用纯金属作分析标样。这种方法已被用于各种地球化学样品的分析中(包括用JG—1和JB—1岩石做成的玻璃)。与湿式化学
X射线能谱分析中谱线重叠问题
扫描电子显微镜上配接Si(Li)探测器X射线能谱仪,进行地质样品分析时,由于它的峰,背比值较低和谱线分辨率不如X射线波谱仪,尽管探测效率很高,仍然存在谱线的干扰或重叠现象。谱线的干扰或重叠现象主要划分为三个类型:相邻或相近元素同一线系(K、L、M)的谱线之间重叠;原子序数较低的K线系谱线与原子序数较
扫描电镜及X射线能谱仪在首饰镀层检测中的应用
采用扫描电镜及X射线能谱仪对首饰镀层进行了检测,并对两种方法进行了比较。结果表明,镀铑首饰采用无损检测法较合适,而镀金首饰采用破坏性检测法较合适。
高能脉冲X射线能谱测量
给出了高能脉冲X射线能谱测量的基本原理及实验结果.采用Monte-Carlo程序计算了高能光子在能谱仪中每个灵敏单元内的能量沉积,利用能谱仪测量了"强光Ⅰ号"加速器产生的高能脉冲X射线不同衰减程度下的强度,求解得到了具有时间分辨的高能脉冲X射线能谱,时间跨度57ns,时间步长5ns,光子的最高能量3
DPF脉冲X射线能谱测量
采用滤光法对ＤＰＦ脉冲Ｘ射线源装置的Ｘ射线能谱进行了测量，取得了较好的结果，为辐射效应环境测量提供了一种手段。
Si(Li)X射线能谱仪
Si(Li)x射线能谱仪于一九六八午首次应川在电子探针,成为一种x射线微分析的工具。此后,在能量分辨率、计数率和数据分析等方面作了许多改进,目前已经成为电子探针和扫描电镜的一种受欢迎的附件,甚至在透射电子显微镜上也得到应用。
X射线能谱数据处理
本文提出运用FFT,对双路实测能谱信息在变换域中加以滤波修正,同时完成平滑及背底扣除。文中剖析了EDAX-7EMZL程序,并与诸元素特征峰及背底的谱分析相比较,获取滤波修正频窗。文中编制了双路能谱同时作滤波修正程序。试验表明:此法实现了数据压缩及零相位校正,增快了滤波速度,减小了相位滞移量,提高了分
X射线能谱仪应用范围
1、金属材料的相分析、成分分析和夹杂物形态成分的鉴定；2、高分子、陶瓷、混凝土、生物、矿物、纤维等无机或有机固体材料分析；3、可对固体材料的表面涂层、镀层进行分析，如：金属化膜表面镀层的检测；4、金银饰品、宝石首饰的鉴别，考古和文物鉴定，以及刑侦鉴定等领域；5、进行材料表面微区成分的定性和定量分析，
X射线能谱测量与模拟
1895年,德国科学家伦琴发现了X射线,开辟了一个崭新的、广阔的物理研究领域。其中,针对电子打靶产生的韧致辐射X射线的研究,是X射线研究领域的一个重要课题。本文在国内外针对X射线能谱测量与解析的基础上,利用高纯锗(HPGe)探测器使用直接测量法与间接测量法对钨靶X射线与钼靶X射线能谱进行了测量。工作
X射线能谱分析
能量色散谱仪(EDS)原来是一种核物理分析设备。由于半导体检测器制造和微信号低噪声电子学技术的进步,EDS的分辨率(谱线半高宽)由60年代的300ev提高到70年代的150ev,能对Al、Si这类较轻的元素的X射线谱作出明确的鉴别,因此从70年代开始,EDS被大量地用作荧光X射线分析和组装到扫描电镜
X射线镀层测厚仪对电镀层厚度检测
电镀镀层行业中，电镀镀层厚度是产品的zui重要质量指标， X射线镀层测厚仪是检测电镀层厚度必备仪器。X射线镀层测厚仪作为一种测量镀层厚度的精密仪器，在整个电镀层厚度品质检测中占非常重要的地位。它在电镀层厚度控制,品质是否达到要求,镀层是否符合客户要求及成本控制方面,X射线镀层测厚仪均可完成。对于现代
X射线能谱微区分析中出射角对X射线强度的影响
利用SEM-EDS研究了硅衬底上Au、Cu薄膜发射的不同线系特征X射线相对强度间比值随出射角的变化规律,探讨了影响其变化的原因。结果显示:随着出射角变大,同一元素不同线系X射线相对强度间比值具有一定变化规律。低能量谱线的强度相对高能量谱线逐渐变大,这种变化主要是受X射线被基体吸收效应的影响所致。在低
X射线镀层测厚仪测试原理
X射线镀层测厚仪/X光镀层测厚仪检测电子电镀,化学镀层厚度,如镀金,镀镍,镀铜,镀铬,镍锌,镀银,镀钯...可测单层,双层,多层,合金镀层,测量范围:0.04-35um测量精度:±5%,测量时间只需30秒便可准确知道镀层厚度全自动台面,自动雷射对焦,操作非常方便简单● X射线镀层测厚仪的测量原理物质
X射线金属镀层测厚仪应用
X射线金属镀层测厚仪，X射线经过镀层界面，根据理论上同材质无限厚样品反馈回强度的关系推断镀层的厚度。理论上两层中含有同一元素测试很困难（信号分不开）。测试镀层厚度要考虑镀层材质和镀层密度等因素，如果各因素都不确定是无法分析的。XRF是X射线荧光光谱，可以检测不同位置的元素分布（11号以后的），扫面断
X射线金属电镀层测厚仪
目的：提供X-ray测厚仪的操作及方法，从而了解镀层（金、镍、锡、银）的厚度情况。2.0 范围：适用于本公司品质部物理实验室X-ray测厚仪。3.0 X-ray测厚仪操作要求及规范3.1测试环境：温度22±3℃，湿度60±15%。3.2开机：打开测试主机、电脑、显示器，打印机电源。3.3进入Wi
脉冲硬X射线能谱软化方法数值分析
基于轫致辐射原理,提出了通过轫致辐射靶优化设计软化脉冲硬X射线能谱的方法。采用MCNP程序模拟了复合薄靶和反射靶的输出参数,分析了复合薄靶中转化靶和电子吸收材料厚度对脉冲硬X射线能谱、转换效率以及透射电子份额的影响;给出了反射靶透射和反射X射线能谱、转换效率的差异及其随电子入射角度的变化规律。根据模
X射线能谱仪分析的基本原理
X射线能谱仪为扫描电镜附件，其原理为电子枪发射的高能电子由电子光学系统中的两级电磁透镜聚焦成很细的电子束来激发样品室中的样品，从而产生背散射电子、二次电子、俄歇电子、吸收电子、透射电子、X射线和阴极荧光等多种信息。若X射线光子由Si（Li）探测器接收后给出电脉冲讯号，由于X射线光子能量不同（对某一元
X射线能谱仪的原理介绍
在许多材料的研究与应用中，需要用到一些特殊的仪器来对各种材料从成分和结构等方面进行分析研究。 其中，X射线能谱仪(XPS)就是常用仪器之一。下面详细介绍一下X射线能谱仪的基本原理、结构、优缺点及应用。 X射线光电子能谱(XPS)也被称作化学分析用电子能谱(ESCA)。该方法
复杂X射线能谱构造方法研究
本文提出了基于最小二乘法的复杂X射线能谱构造方法,介绍了其构造原理,设计了由35~100kV加速电压条件下的14个X射线过滤谱组成的构造子谱组。目标能谱模拟构造结果表明,构造能谱与目标能谱总体的相对偏差基本控制在10%以内;影响其偏差的主要因素包括构造子谱数量与形态,目标能谱的非连续可微以及射线源特