牛津仪器与艾恩德霍芬大学开发出二维材料低温生长设备
牛津仪器公司的原子层沉积技术（ALD）和2D材料专家与艾恩德霍芬理工大学合作开发了用于纳米器件的二维过渡金属硫化物（2D TMDS）原子层沉积（ALD） 系统——FlexAL-2D ALD系统。 FlexAL-2D ALD系统可在与CMOS兼容的温度下生长2D材料，并可在大面积（200mm晶圆）上对厚度进行精确的数字控制。该系统的其他特征功能包括MoS2的自限制ALD生长、基础平面或边缘平面取向的可调形态控制，以创建先进的2D器件结构。 据该公司介绍，FlexAL-2D ALD系统可提供较宽的参数空间，使2D TMDS的生长温度比CVD炉中更低。 埃因霍温理工大学研究人员在今年七月的ALD会议上，首先介绍了使用ALD在450℃和低温条件下生长二维MoS2材料的情况。他们展示了如何在CMOS兼容的SiO2 / Si衬底上采用等离子体增强型ALD技术合成二维MoS2膜。这些二维MoS2膜具有可调形态（平面和垂直立体纳米级结......阅读全文
原子层沉积系统（ALD）的应用
原子层沉积技术由于其沉积参数的高度可控型（厚度、成份和结构） 原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD），最初称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），也称为原子层化学气相沉积（Atomic Layer Chemical Vapor Depo
原子层沉积系统（ALD）的介绍
是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。
原子层沉积系统（ALD）的原理
原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层
牛津仪器与艾恩德霍芬大学开发出二维材料低温生长设备
牛津仪器公司的原子层沉积技术（ALD）和2D材料专家与艾恩德霍芬理工大学合作开发了用于纳米器件的二维过渡金属硫化物（2D TMDS）原子层沉积（ALD） 系统——FlexAL-2D ALD系统。 FlexAL-2D ALD系统可在与CMOS兼容的温度下生长2D材料，并可在大面积（200mm晶圆
对于原子层沉积系统（ALD）的研究
原子层沉积（ALD）的自限制性和互补性致使该技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力，所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀，因而引起了人们广泛的关注。原子尺度上的ALD过程仿真对深入了解沉积机理，改进和优化薄膜生长工艺，提高薄膜质量，改善薄膜性质具有重要意义。在深入了解ALD的工艺特点及工艺过程后
原子层沉积系统（ALD）－跟热蒸镀沉积有什么区别？
原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层
原子层沉积
原子层沉积(ALD)是一种真正的"纳米"技术，以精确控制的方式沉积几个纳米的超薄薄膜。 原子层沉积的两个限定性特征--自约束的原子逐层生长和高度保形镀膜--给半导体工程，微机电系统和其他纳米技术应用提供了许多好处。 原子层沉积的优点 因为原子层沉积工艺在每个周期内精确地沉积一个原子层，所以能
ald－工艺－怎么保证－单个原子沉积
原子层沉积（Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。单原子层沉积（atomic layer
原子层沉积的研究
原子层沉积（ALD）的自限制性和互补性致使该技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力，所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀，因而引起了人们广泛的关注。原子尺度上的ALD过程仿真对深入了解沉积机理，改进和优化薄膜生长工艺，提高薄膜质量，改善薄膜性质具有重要意义。在深入了解ALD的工艺特点及工艺过程后，针
清华大学仪器共享平台Ultratech－原子层沉积系统
仪器名称：原子层沉积系统仪器编号：17016605产地：美国生产厂家：Ultratech型号：Savannah S100出厂日期：购置日期：2017-06-25所属单位：电子系>纳米光电子综合测试平台放置地点：罗姆楼B1-304室固定电话：62796594固定手机：固定email：haosun@ts
牛津仪器“新型纳米技术先进工艺研讨会”在沪举办
分析测试百科网讯 2016年3月14日，牛津仪器“新型纳米技术先进工艺研讨会”在上海浦东假日酒店举办，本次研讨会邀请了业内专家学者就纳米制造、新工艺技术等方面展开了一系列的学术交流，让在场的参会人员受益匪浅，更深入了解了牛津仪器在纳米技术方面的新产品、新进展和新应用。分析测试百科网受邀参加了
PICOSUN－原子层沉积系统共享
仪器名称：PICOSUN 原子层沉积系统仪器编号：16041497产地：中国生产厂家：PICOSUN型号：R200 Advanced出厂日期：201709购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼109固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹
BENEQ－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：BENEQ 原子层沉积系统仪器编号：09016504产地：芬兰生产厂家：BENEQ型号：TFS200-106出厂日期：200810购置日期：200910所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹秉军（010
PICOSUN－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：PICOSUN 原子层沉积系统仪器编号：16041497产地：中国生产厂家：PICOSUN型号：R200 Advanced出厂日期：201709购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼109固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹
Picosun－Oy真空互联原子层沉积系统共享应用
仪器名称：真空互联-原子层沉积系统仪器编号：21029113产地：芬兰生产厂家：Picosun Oy型号：R-200 Advanced出厂日期：购置日期：2021-11-25所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：01062784044固定
响应设备更新政策－|－半导体制造工艺、结构与表征解决方案
半导体制造工艺电动汽车等高新技术领域对高效动力转换的需求与日俱增，碳化硅与氮化镓材料扮演关键性角色,有效降低能耗并提升动力转换效率。牛津通过原子层沉积(ALD)与原子层刻蚀(ALE)技术优化了器件工艺。ALD工艺出色的 AlN/Al2O3/SiO2 钝化薄膜有效降低器件中的阈值电压漂移。而ALE低损
原子层沉积技术可用于合金提升态密度有效质量
中国科学院院士、西安交通大学材料学院材料强度组孙军教授，材料强度组丁向东教授、武海军教授与深圳大学合作，在探究相界面工程作用于ZrNiSn基半哈斯勒热电材料取得进展。该工作鉴于现有研究中相界面引发的载流子迁移率降低问题，以及单一能量势垒无法在全温度范围内提升态密度有效质量的局限性，团队创新性地将原子
牛津仪器为Natre－Dame大学提供等离子体设备
为进一步的扩大和促进研究能力，美国中西部纳米电子研发中心(MIND)采购了牛津仪器公司等离子技术部的等离子蚀刻和沉积两套设备。该FlexALâ原子沉积(ALD)和System100 ICP等离子蚀刻设备将安装在Notre Dame的纳米加工设施里，位于美国印第安纳州Notre Dame大
芬兰PICOSUN公司将在波士顿举行原子层沉积系统展览
欢迎您参加2011年6月27-29在波士顿举行的芬兰PICOSUN公司的原子层沉积系统展览。具体内容如下： Thanks to our excellent ALD systems, we are happy report profitable 100% growth during th
牛津仪器等离子体技术—为刻蚀、沉积提供领先设备和工艺
分析测试百科网讯 2018年11月7日，牛津仪器在西安天骊君廷酒店召开等离子体技术在刻蚀与沉积工艺中的应用研讨会，来自牛津仪器等离子技术部亚洲区销售和服务副总裁Ian Wright先生为大家详细介绍了牛津仪器等离子技术部的发展情况及产品介绍。研讨会还邀请到西安电子科技大学杨凌教授、中国电子科技集
牛津仪器与著名的台湾工业技术研究院合作
牛津仪器公司和台湾工业技术研究院很高兴地宣布刚刚签署的项目研究合作协议。该协议是基于牛津仪器公司向工业技术研究院提供一个HBLED相关程序研究中心，并配备自己的程序工程师。这将让工业技术研究院和牛津仪器在远东地区的广大客户受益。工业技术研究院是一个跨多个工业技术领域的应用研究机构，自1973年成
1185万!－南京大学采购非靶向筛选质谱仪和原子层沉积设备
原子层沉积（ALD）设备项目所在采购意向：南京大学企业信息2023年7至9月政府采购意向采购单位：南京大学企业信息采购项目名称：原子层沉积（ALD）设备预算金额：700.000000万元(人民币)采购品目：A02052402 真空应用设备采购需求概况 ：南京大学企业信息拟采购原子层沉积（ALD）设备
微电子所采用ALD技术显著提升发光器件效率
日前，中国科学院微电子研究所将先进的原子层沉积技术应用于高光效半导体发光器件的研究取得显著进展。 上世纪80年代，原子层沉积(Atomic Layer Deposition，ALD)最初由芬兰科学家提出并应用于平板显示器件中Al2O3绝缘膜的沉积。2007年英特尔公司将原子层沉积技术引
牛津仪器Cypher－VRS视频级成像原子力显微镜
牛津仪器Cypher VRS视频级成像原子力显微镜 产品技术特点——牛津仪器AR的原子力显微镜特点主要有：(1)极低的XY方向开环和闭环噪音(8pm和60pm)让Cypher成为不管是溶液中还是空气中最容易实现原子级高分辨率成像的原子力显微镜;(2)SportON全自动的操作和GetStart智能
智能集菌仪适用范围
智能集菌仪适用范围适用范围:1. 制药行业：纯化水、注射用水、无菌制剂（大输液、小针剂、粉剂、生物制品、血液制品、眼用制剂、保养液等）的无菌检查和微生物限度检查；2. 医疗器械行业：纯化水、注射用水、注射器、输液器、输血器、静脉导管等的无菌检查和微生物限度检查；3. 食品、饮料行业；4. 环保行业等
原子层沉积技术开发者获2018年“千年技术奖”
芬兰技术学会２２日宣布，将２０１８年“千年技术奖”授予芬兰物理学家图奥莫·松托拉，以表彰他研发了在信息技术领域发挥重要作用的原子层沉积技术。 原子层沉积技术可以将物质以单原子膜形式一层一层镀在基底表面，在许多高科技领域发挥着重要作用。目前，所有的计算机和智能手机都使用以原子层沉积技术制成的
山西煤化所原子层沉积设计新型纳米催化剂研究获进展
氢能作为一种环境友好的清洁能源被认为是可替代化石燃料的重要能源。光催化分解水制氢是一种非常有前景的绿色制氢途径。影响光催化制氢效率的一个主要因素是电子和空穴的分离效率低。在半导体材料表面负载产氢或/和产氧助剂(例如，Pt，Pd，CoOx，NiO)可有效提高电子和空穴的分离效率，尤其是含双助剂的光
Tony－Bosley加入牛津仪器
牛津仪器磁共振，智能台式核磁共振(NMR)的领先供应商，宣布Tony Bosley已任职该公司总经理。托尼在国际科学仪器领域具有可溯的优秀记录，并将工作在牛津仪器的Tubney Woods，牛津仪器Oxfordshire的工厂。 托尼加入牛津仪器前来自E2V科学仪器有限公司，该公司
科学家利用ALD技术合成多种新型纳米材料
在中国科学院、国家自然科学基金委、中科院山西煤炭化学研究所及所内外合作者的大力支持下，煤转化国家重点实验室覃勇课题组（903组）利用ALD（原子层沉积）技术合成了多种新型纳米材料，并将其应用于环境、催化、国防等领域，取得了系列进展，相关成果发表在ACS Nano、Nano Research、A
山西煤化所应邀撰写金属氧化物界面调控综述论文
近日，中国科学院山西煤炭化学研究所覃勇团队应美国化学会期刊ACS Catalysis 邀请，撰写的综述性论文“Interface Tailoring of Heterogeneous Catalysts by Atomic Layer Deposition”已在线发表（Bin Zhang, Yo