硅中氧、碳的二次离子质谱(SIMS)分析
硅中氧、碳的二次离子质谱（SIMS）分析何友琴马农农王东雪（电子材料研究所 天津 300192）摘 要 本文采用相对灵敏度因子法，对硅中氧、碳含量的SIMS定量分析方法进行研究。通过对样品进行预溅射的方法，氧、碳的的检测限分别可达到6.0e16atoms/cm3、2.0e16atoms/cm3。关键词 硅相对灵敏度因子二次离子质谱定量分析预溅射1.1 仪器与测试条件仪器：CAMECA IMS-4F-e7型动态双聚焦二次离子质谱仪，配有铯一次离子源，电子倍增器和法拉第杯检测器，具备检测负二次离子的能力。对于氧、碳元素的测量，典型的测试条件为：采用Cs+作为一次离子束来检测氧和碳的负二次离子，一次离子能量为14.5kV，束流为400nA，扫描面积为250μm×250μm。1.2 样品类型及处理所用样品基本包括三类：（1）参考样品：编号为ST，已知其氧的浓度为7.93E17atoms/cm3, 碳的浓度为4.67E17atoms/c......阅读全文
硅中氧、碳的二次离子质谱(SIMS)分析
硅中氧、碳的二次离子质谱（SIMS）分析何友琴马农农王东雪（电子材料研究所 天津 300192）摘 要 本文采用相对灵敏度因子法，对硅中氧、碳含量的SIMS定量分析方法进行研究。通过对样品进行预溅射的方法，氧、碳的的检测限分别可达到6.0e16atoms/cm3、2.0e16atoms/cm3。关
二次离子质谱（SIMS）的原理特点和应用
二次离子质谱（secondary ion mass spectroscopy），是一种非常灵敏的表面成份精密分析仪器，它是通过高能量的一次离子束轰击样品表面，使样品表面的分析吸收能量而从表面发生溅射产生二次粒子,通过质量分析器收集、分析这些二次离子，就可以得到关于样品表面信息的图谱。
二次离子质谱（SIMS）的原理特点和应用
二次离子质谱（secondary ion mass spectroscopy），是一种非常灵敏的表面成份精密分析仪器，它是通过高能量的一次离子束轰击样品表面，使样品表面的分析吸收能量而从表面发生溅射产生二次粒子,通过质量分析器收集、分析这些二次离子，就可以得到关于样品表面信息的图谱。中文名 二次离子
SIMS(secondary－ion－mass－spectroscopy)二次离子质谱图文
1.仪器介绍二次离子质谱（SIMS）是一种用于通过用聚焦的一次离子束溅射样品表面并收集和分析喷射的二次离子来分析固体表面和薄膜的组成的技术。SIMS是最灵敏的表面分析技术，元素检测限为百万分之几到十亿分之一。Schematic of a typical dynamic SIMS instrument
动态二次离子质谱分析（DSIMS）
动态二次离子质谱分析（D-SIMS）1. 飞行时间二次离子质谱技术二次离子质谱技术（Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry，D-SIMS）是一种非常灵敏的表面分析技术，通过用一次离子激发样品表面，打出极其微量的二次离子，根据二次离子的质量来测定元素种类，具有极
飞行时间二次离子质谱（TOFSIMS）研究
一、二次离子峰位归属煤及烃源岩中的有机组分的二次离子谱非常复杂，再加上目前对SIMS裂分机理掌握不够，因此，对煤及源岩有机质的SIMS谱图解释存在很多问题。目前对TOF-SIMS常见碎片离子峰认识程度综合于表7-7。本节研究重点是根据对现有峰位的认识，建立与13CNMR,Mirco-FT·IR可以类
二次离子质谱仪（SIMS）
二次离子质谱仪（SIMS）分析方法介绍美信检测 失效分析实验室 1.简介 二次离子质谱仪（secondary ion mass spectroscopy，简称SIMS），是利用质谱法分析初级 离子入射靶面后，溅射产生的二次离子而获取材料表面信息的一种方法。二次离子质谱仪分 析对象包括金属及合金、半导
二次离子质谱SIMS应用：从半导体材料到生命科学
在2012年以前，汪福意研究员一直带领团队通过有机质谱，如电喷雾电离质谱(ESI-MS)、基质辅助激光解析电离质谱(MALDI-MS)等进行药物相互作用组学研究、抗肿瘤药物的研究和开发等工作。一次与生物学家偶然的讨论给汪福意带来了启发，他萌生了使用高空间分辨率的二次离子质谱成像进行化
二次离子质谱概述
二次离子质谱（secondary ion mass spectroscopy），是一种非常灵敏的表面成份精密分析仪器，它是通过高能量的一次离子束轰击样品表面，使样品表面的分子吸收能量而从表面发生溅射产生二次粒子,通过质量分析器收集、分析这些二次离子，就可以得到关于样品表面信息的图谱。 用一次离
二次离子质谱技术
海洋有机地球化学检测方法二次离子质谱技术简述 摘要：海洋有机地球化学是通过研究与还原性碳相关的物质来揭示海洋生态系的 结构、功能与演化的一门科学。由于其中的有机组分通常以痕量、复杂的混合物 形式存在，且是不同年龄、不同来源、不同反应历史生源物质的集成产物，所以 总体分析困难较大。目前主要是从整体水平
二次离子质谱技术的分析和应用
二次离子质谱是一种具有超高分辨率和灵敏度的固体表面分析技术。它可以分析氢元素到铀元素在内的所有元素和同位素，还可以得到固体表面官能团和分子结构等信息。SIMS可以分为静态SIMS（SSIMS）和动态SIMS（DSIMS）两种类型，通过不同扫描类型，得到二次离子质谱图、化学成像、动态深度剖析曲线等
二次离子质谱的特点
1.获得样品最表层1-3个原子信息深度信息； 2.可以检测同位素，用于同位素分析 ； 3.达到ppm~ ppb级的探测极限。 4. 可以并行探测所有元素和化合物，离子传输率可以达到100%。 5.采用高效的电子中和枪，可以精确的分析绝缘材料。 6. 具有很小的信息深度（小于1nm）；可
二次离子质谱的原理
二次离子质谱是一种非常灵敏的表面成份精密分析仪器，它是通过高能量的一次离子束轰击样品表面，使样品表面的分析吸收能量而从表面发生溅射产生二次粒子，通过质量分析器收集、分析这些二次离子，就可以得到关于样品表面信息的图谱。它利用电子光学方法把惰性气体等初级离子加速并聚焦成细小的高能离子束轰击样品表
二次离子质谱的结构
近年来，二次离子质谱这一前沿的分析技术越来越多地被用在了科学研究当中，应用范围较为广泛。然而，依然有很多小白对二次离子质谱的基本结构不太了解。那么二次离子质谱的组成结构是怎样的呢？都有哪些功能和特点？今天小编就来简单盘点一下。 二次离子质谱主要由三部分组成：一次离子发射系统、质谱仪、二次
二次离子质谱可完成癌细胞分析
哥德堡大学（University of Gothenburg）进一步开发了二次离子质谱的应用，以帮助研究人员更好地检测身体中的有害细胞。“该方法可以变得重要，例如对于乳腺癌组织的未来分析。”博士生Tina Angerer说。该方法可以被描述为首先通过在其处喷射气体射弹从一片组织释放分子和原子，然后使
二次离子质谱可完成癌细胞分析
分析测试百科网讯 哥德堡大学（University of Gothenburg）进一步开发了二次离子质谱的应用，以帮助研究人员更好地检测身体中的有害细胞。 “该方法可以变得重要，例如对于乳腺癌组织的未来分析。”博士生Tina Angerer说。该方法可以被描述为首先通过在其处喷射气体射弹从一片
二次离子质谱仪的质谱原理
Secondary-ion-mass spectroscope （SIMS）是一种基于质谱的表面分析技术，二次离子质谱原理是基于一次离子与样品表面互相作用现象（基本原理如图1所示）。带有几千电子伏特能量的一次离子轰击样品表面，在轰击的区域引发一系列物理及化学过程，包括一次离子散射及表面原子、原子
质谱图的质谱中主要离子峰
从有机化合物的质谱图中可以看到许多离子峰，这些峰的m/z和相对强度取决于分子结构，并与仪器类型，实验条件有关。质谱中主要的离子峰有分子离子峰、碎片离子峰、同位素离子峰、重排离子峰及亚稳离子峰等。正是这些离子峰给出了丰富的质谱信息，为质谱分析法提供依据。分子受电子束轰击后失去一个电子而生成的离子M+称
质谱中的各种离子
1). 分子离子(molecular ion)分子被电子束轰击失去一个电子形成的离子称为分子离子。分子离子用M+•表示。分子离子是一个游离基离子。在质谱图上，分子离子对应的峰为分子离子峰。分子离子峰的应用：分子离子峰的质荷比就是化合物的相对分子质量，所以，用质谱法可测分子量。2). 同位素离子(is
SiO－2钝化膜中钠离子的二次离子质谱分析
前 言 对于半导体器件而言，在管芯表面覆盖钝化膜的保护措施是非常必要的，钝化膜是器件的最终的钝化层和机械保护层，可以起到电极之间的绝缘作用，减弱和稳定半导体材料的多种表面效应，防止管芯受到尘埃、水汽酸气或金属颗粒的沾污，一般采用CVD 工艺（化学气相沉积，Chemical Vapor Dep
炉前碳硅分析仪快速检测球墨铸铁中碳硅
炉前碳硅分析仪快速检测球墨铸铁中碳硅碳：对于球墨铸铁来说，石墨呈球状，对金属基体的割裂作用减轻，因此含碳量对力学性能的影响不如灰铁显著。含碳量对球铁力学性能的影响主要通过其对金属基体的影响起作用。对铸态球墨铸铁来说，增加含碳量可以减少游离渗碳体。碳的质量分数接近3%时，渗碳体消失，超过3%时，开始出
飞行时间二次离子质谱共享
仪器名称：飞行时间二次离子质谱仪器编号：13027664产地：德国生产厂家：ION-TOF GmbH型号：TOF.SIMS 5出厂日期：2012.5购置日期：201312所属单位：化学系>分析中心>北京电子能谱中心放置地点：理科楼D-104固定电话：固定手机：固定email：联系人：郭冲（010-6
飞行时间二次离子质谱仪（TOFSIMS）
飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）介绍美信检测失效分析实验室 【摘要】飞行时间二次离子质谱仪（Time FlightSecondary Ion Mass Spectrometry， TOF-SIMS）是一种非常灵敏的表面分析技术，通过用一次离子激发样品表面，打出极其微 量的二次离子，根据二次
二次离子质谱的原理组成和结构
二次离子质谱Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)1 引言:离子探针分析仪，即离子探针（Ion Probe Analyzer，IPA），又称二次离子质谱（Secondary Ion Mass Spectrum，SIMS），是利用电子光学方法把惰性气体等初级离子加
SiO2－钝化膜中钠离子的二次离子质谱分析
1.1 仪器 法国CAMECA 公司的IMS-4fE/7 型二次离子质谱仪, 配备双等离子源和铯离子源, 中和电子枪。 1.2 样品 样品结构:SiO 采用CVD方法在抛光硅晶片 上生长的二氧化硅薄膜, 厚度在1000 埃至5000 埃之间, 样品处理: 为避免表面沾污对于测试结果的影响, 用去离子
学者综述二次离子质谱技术发展
近日，应《自然-综述-方法导论》（Nature Reviews Methods Primers）的邀请，香港科技大学（广州）教授翁禄涛与合作者共同撰写了题为《二次离子质谱》（Secondary ion mass spectrometry）的综述论文，同期还配发了导论总览（PrimeView）对该论文
3D成像——二次离子质谱技术
质谱成像技术能将基质辅助激光解吸电离质谱的离子扫描与图像重建技术结合，直接分析生物组织切片，产生任意质荷比(m/z)化合物的二维或三维分布图。其中三维成像图是由获得的质谱数据，通过质谱数据分析处理软件自动标峰，并生成该切片的全部峰值列表文件，然后成像软件读取峰值列表文件，给出每个质荷比在全部质谱图中
聚焦前沿技术－共探半导体痕量成分检测新路径
2025年7月17日，“质析毫微・谱绘万象”半导体痕量成分检测技术交流会在中国科学院上海应用物理研究所学术交流中心隆重举行。本次会议由中国物理学会质谱分会、北京雪迪龙科技股份有限公司联合主办，中国科学院上海应用物理研究所、分析测试百科网、中国仪器仪表学会分析仪器分会质谱仪器专家组协办，吸引了众多
3D成像二次离子质谱技术的相关介绍
质谱成像技术能将基质辅助激光解吸电离质谱的离子扫描与图像重建技术结合，直接分析生物组织切片，产生任意质荷比(m/z)化合物的二维或三维分布图。其中三维成像图是由获得的质谱数据，通过质谱数据分析处理软件自动标峰，并生成该切片的全部峰值列表文件，然后成像软件读取峰值列表文件，给出每个质荷比在全部质谱
研究发现锆石水含量和氧同位素同时测定新方法
水是地球演化的重要介质。名义上无水矿物中的水含量对岩石矿物的物理化学性质有深刻影响，是重要的地球化学指标，氧同位素对矿物本身以及水的来源也具有重要指示意义。这两个指标的同时测试，不仅能拓展仪器功能，使大型二次离子质谱（SIMS）仪器的使用效率提升一倍，还可避免因地质样品中广泛存在的不均匀性而导致