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台积电第三季度可望超车三星首登全球半导体龙头

全球前三大半导体厂排名大洗牌,据研调机构IC Insights估计,台积电第二季度营收超越英特尔,跃居全球第二位,预期第三季度可望再超越三星,将首度登上半导体龙头宝座。根据IC Insights统计,第二季度三星(Samsung)的半导体营收226.23亿美元,为全球最大半导体厂。台积电营收181.64亿美元,超越英特尔(Intel)的148.61亿美元,跃居全球第二大半导体厂,英特尔则落居第三位。由于存储器市场表现欠佳,处于“自由落体”状态,IC Insights预期,三星第三季度营收恐将滑落至182.9亿美元,将较第二季度减少19%。IC Insights预估,台积电第三季度营收可望延续增长趋势,将突破200亿美元大关,达202亿美元,较第二季度增加11%,并一举超越三星,将首度登上全球半导体龙头宝座。三星则将落居全球第二位。英特尔第三季度营收将约150.4亿美元,较第二季度增加约1%,维持全球第三位。另外,IC Insig......阅读全文

台积电第三季度可望超车三星 首登全球半导体龙头

全球前三大半导体厂排名大洗牌,据研调机构IC Insights估计,台积电第二季度营收超越英特尔,跃居全球第二位,预期第三季度可望再超越三星,将首度登上半导体龙头宝座。根据IC Insights统计,第二季度三星(Samsung)的半导体营收226.23亿美元,为全球最大半导体厂。台积电营收181.

半导体行业再动荡:台积电被控16项专利侵权

  半导体代工厂格芯(GlobalFoundries,GF)8 月 26 日在美国和德国提出多起诉讼,指控台积电(TSMC)使用的半导体技术侵犯了 16 项 GF 的专利,并希望美国贸易主管部门发布进口禁令,以停止台积电“侵权”生产的产品进口,并寻求获得“实质性”损害赔偿。台积电否认侵权,并称将积极

消息称索尼将与台积电打造半导体工厂:日本补贴一半

  据位不具名的知情人士,台积电和索尼计划在日本西部熊本县投资兴建一座价值8000亿日元(约合71.4亿美元)的半导体工厂。  消息人士们透露,工厂将位于索尼所有的土地上,与索尼的图像传感器工厂毗邻。索尼可能持有负责管理该工厂的一家新公司的少数股权,工厂计划于2023或2024年投入运营,将生产用于

三星宣布3纳米工艺落地生产 竞争力几何?

半导体先进工艺竞赛继续,台积电、三星竞逐3纳米。6月30日,三星电子(KRX:005930)宣布,公司3纳米工艺芯片已经开始初步生产。  三星在声明中称,其3纳米工艺将首先应用于高性能、低功耗计算领域的半导体芯片,并计划将其扩大至移动处理器。不过,三星没有透露其3纳米工艺的首批客户,亦未公布其生产的

台积电TSMC公司LED照明研发中心完工

  随着旗下LED照明研发中心的即将完工,台系半导体制造商台积电TSMC已经将公司之后的发展目标锁定在世界前五了。而目前世界排名前五的LED厂商分别是:飞利浦(Royal Philips Electronics)、欧司朗(Osram)、美国Cree、日亚化学(Nichia)及丰田合成( Toyo

台积电在日本建立海外最大设计中心

12月1日,据日经中文网报道,台积电今天正式在大阪市开设支援半导体设计的“设计中心”,这是继神奈川县横滨市之后的日本国内第二处设计中心,预计将成为该公司海外最大的一个设计中心。台积电事实上,台积电2020年就在日本横滨市开设了设计中心基地,而且还在广招人才。据悉,包括2023年4月入职的人员在内,该

台积电STT-MRAM技术细节(四)

图15. 在-40度时,1M循环后写入误码率小于1 ppm。图16. 热稳定性势垒Eb控制着数据保持能力的温度敏感度,在150℃(1ppm)下数据保留超过10年。在基于自旋的STT-MRAM的许多应用中,磁场干扰是一个潜在的问题。该解决方案是在封装上沉积0.3mm厚的磁屏蔽层,如图16所示,实验表明

台积电STT-MRAM技术细节(二)

图6.Rap和Rp的电阻分布间距在计入寄生电阻时变小为了感测MTJ的电阻,必须在读取期间将其两端的电压通过晶体管N1和N2钳位到一个低值,以避免读取干扰,并对其进行微调以消除感测放大器和参考电流偏移。参考电阻是1T4R配置R?(R p + R ap)/ 2 + R1T,如图7所示。图7.具有微调能力

台积电STT-MRAM技术细节(三)

MRAM写入操作低阻态Rp和高阻态Rap的MRAM写入操作需要如图9所示的双向写入操作。要将Rap状态写到Rp需要将BL偏置到VPP,WL到VREG_W0,SL到0以写入0状态。要写入1状态,将Rap变成Rp需要反方向的电流,其中BL为0,SL为VPP,WL为VREG_W1。图9.平行低电阻状态Rp

台积电STT-MRAM技术细节(一)

在ISSCC 2020上台积电呈现了其基于ULL 22nm CMOS工艺的32Mb嵌入式STT-MRAM。该MRAM具有10ns的读取速度,1M个循环的写入耐久性,在150度下10年以上的数据保持能力和高抗磁场干扰能力。ULL 22nm STT-MRAM的动机与闪存相比,TSMC的嵌入式STT-MR