反应离子蚀刻机共享
仪器名称：反应离子蚀刻机仪器编号：85427700产地：瑞典生产厂家：瑞典型号：PTL 520/520出厂日期：198509购置日期：198509所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn）李希有（010-62784044,13641166426,lxyou@mail.tsinghua.edu.cn）分类标签：微纳加工 集成电路 半导体工艺 刻蚀技术指标：介电材料刻蚀：RIE模式；刻蚀精度：1微米知名用户：王喆垚、任天令、刘泽文、吴华强、梁仁荣、潘立阳、王敬、许军、邓宁、钱鹤、伍晓明（微电子所） 尤政、朱荣、阮勇（精仪系）、罗毅（电子系）、姚文清（化学系）技术团队：吴华强、伍晓明、刘朋、李希有、仲涛功能特色：本刻蚀机刻蚀方式：RIE模式。......阅读全文
反应离子蚀刻机共享
仪器名称：反应离子蚀刻机仪器编号：85427700产地：瑞典生产厂家：瑞典型号：PTL 520/520出厂日期：198509购置日期：198509所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278109
反应离子蚀刻机共享应用
仪器名称：反应离子蚀刻机仪器编号：85427700产地：瑞典生产厂家：瑞典型号：PTL 520/520出厂日期：198509购置日期：198509所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278109
清华大学仪器共享平台反应离子蚀刻机
仪器名称：反应离子蚀刻机仪器编号：85427700产地：瑞典生产厂家：瑞典型号：PTL 520/520出厂日期：198509购置日期：198509所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：李希有（010-6278404
等离子清洗机,材料表面清洗、活化、蚀刻、涂层
金铂利莱作为专业生产等离子清洗机的生产厂商，在网上经常有咨询到等离子清洗机的用途有哪些，我的行业能使用等离子清洗机吗?他在我们行业是怎么样工作的，小编总结我们等离子清洗机的一般用途来告诉大家，但是大家有需要等离子清洗机请联系我们！现在我们一起来看看。 一、金属表面去油及清洁 金属表面
北京埃德万斯离子束刻蚀机共享应用
仪器名称：离子束刻蚀机仪器编号：07001234产地：中国生产厂家：北京埃德万斯公司型号：LKJ-ID-150出厂日期：200608购置日期：200701所属单位：物理系>离子束刻蚀实验室放置地点：理科楼C-207固定电话：62772764固定手机：13552113513固定email：jiangl
冰冻蚀刻的冰冻蚀刻原理
冰冻蚀刻（freeze-etching）亦称冰冻断裂（freeze-fracture）。标本置于-100˚C的干冰或-196˚C的液氮中，进行冰冻。然后用冷刀骤然将标本断开，升温后，冰在真空条件下迅即升华，暴露出断面结构，称为蚀刻（etching）。蚀刻后，向断面以45度角喷涂一层蒸汽铂，再以90度
冰冻蚀刻的冰冻蚀刻原理
冰冻蚀刻（freeze-etching）亦称冰冻断裂（freeze-fracture）。标本置于-100˚C的干冰或-196˚C的液氮中，进行冰冻。然后用冷刀骤然将标本断开，升温后，冰在真空条件下迅即升华，暴露出断面结构，称为蚀刻（etching）。蚀刻后，向断面以45度角喷涂一层蒸汽铂，再以90度
冰冻蚀刻的冰冻蚀刻原理
冰冻蚀刻（freeze-etching）亦称冰冻断裂（freeze-fracture）。标本置于-100˚C的干冰或-196˚C的液氮中，进行冰冻。然后用冷刀骤然将标本断开，升温后，冰在真空条件下迅即升华，暴露出断面结构，称为蚀刻（etching）。蚀刻后，向断面以45度角喷涂一层蒸汽铂，再以90度
NICP刻蚀机共享
仪器名称：NICP刻蚀机仪器编号：02011812产地：中国生产厂家：中科院微电子中心自制型号：NICP-I型出厂日期：200107购置日期：200210所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-627
牛津仪器发布新版离子束蚀刻白皮书
作为世界领先的离子束技术和系统制造商，牛津仪器等离子部的应用和技术团队会定期发布技术白皮书，现在最新版的离子束蚀刻白皮书已经面世。 本期白皮书由公司的离子束应用技术资深专家Sebastien Pochon博士和Dave Pearson博士执笔，全面介绍了离子束蚀刻技术并阐述了其在蚀刻工
清华大学仪器共享平台Glentech－等离子体清洗机
仪器名称：等离子体清洗机仪器编号：12002077产地：美国生产厂家：Glentech型号：BSET NT3出厂日期：201109购置日期：201202所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>封装工艺放置地点：新所工艺平台一层固定电话：固定手机：固定email：联系人：王谦（010-62794957,
NICP刻蚀机共享应用
仪器名称：NICP刻蚀机仪器编号：02011812产地：中国生产厂家：中科院微电子中心自制型号：NICP-I型出厂日期：200107购置日期：200210所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-627
清洗机共享应用
仪器名称：清洗机仪器编号：11023084产地：中国生产厂家：中联科利型号：CUC-XS004A-05-10-M-A出厂日期：200612购置日期：201111所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>清洗/湿法工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：宗莉（01
ICP刻蚀机Cl共享
仪器名称：ICP刻蚀机-Cl仪器编号：13015109产地：日本生产厂家：爱发科型号：NE-550H(Cl)出厂日期：201211购置日期：201309所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台(暨微纳技术实验室)固定电话：固定手机：固定email：联系人：李希
佳能光刻机共享
仪器名称：佳能光刻机仪器编号：80424600产地：日本生产厂家：日本型号：PLA-500出厂日期：198004购置日期：198004所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,1
ICP设备(刻蚀机)共享
仪器名称：ICP设备(刻蚀机)仪器编号：02001849产地：英国生产厂家：STS SURFACE TECN.型号：MESC Multiplex出厂日期：200001购置日期：200203所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层工艺平台固定电话：固定手机：固定emai
ICP刻蚀机F共享
仪器名称：ICP刻蚀机-F仪器编号：13015108产地：日本生产厂家：爱发科型号：NE-550H(F)出厂日期：201211购置日期：201309所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台（暨微纳技术实验室）固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（
等离子清洗机对材料表面的反应
等离子清洗机在实际应用中往往会使用不同的工艺气体，所产生的等离子体会含有丰富多样的活性粒子和高能量粒子，这些离子体和固体材料表面的相互作用对等离子体本身或对固体材料都有重要的意义。 等离子清洗机去除金属盖板有机物 等离子体中的粒子将能量传递给固体材料表面，同时给等离子体带来大量的杂质。对固体
等离子刻蚀机简介
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力
等离子体/化学刻蚀设备——等离子刻蚀机简介
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力
去胶设备(等离子光刻)共享应用
仪器名称：去胶设备(等离子光刻)仪器编号：90175600产地：美国生产厂家：DRYTEK型号：MS-5出厂日期：199002购置日期：199003所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-627810
Zeiss－FIB聚焦离子束－共享
仪器名称：聚焦离子束 Zeiss FIB仪器编号：16005806产地：德国生产厂家：蔡司型号：Auriga出厂日期：201506购置日期：201603所属单位：材料学院>材料中心 >电镜中心放置地点：主楼东配楼11-112固定电话：固定手机：固定email：联系人：王永力（010-62773015
冷冻蚀刻电镜技术
冻蚀刻(Freezeetching)技术是从50年代开始发展起来的一种将断裂和复型相结合的制备透射电镜样品技术，亦称冷冻断裂(Freezefracture)或冷冻复型(Freezereplica)，用于细胞生物学等领域的显微结构研究。
什么是冷冻蚀刻？
冷冻蚀刻是指将标本置于-100˚C的干冰或-196˚C的液氮中进行冰冻，然后用冷刀将标本断开，升温后冰在真空条件下迅即升华，暴露出断面结构。蚀刻后，向断面以45度角喷涂一层蒸汽铂，再以90度角喷涂一层碳，加强反差和强度。然后用次氯酸钠溶液消化样品，把碳和铂的膜剥下来，此膜即为复膜（replica）。
蚀刻液是什么
蚀刻是一种对金属或者石质等物质进行化学腐蚀性溶解的加工工艺。蚀刻液通俗的说就是能够进行蚀刻的药水。比如我们使用三氯化铁溶液对铜板进行蚀刻，这里的三氯化铁溶液就是蚀刻液。当然，要想达到较好的蚀刻效果，蚀刻液的种类、浓度、温度、酸度、蚀刻方式等都有相当严格的配制和使用规范。
DEK丝网印刷机共享
仪器名称：丝网印刷机仪器编号：12002078产地：英国生产厂家：DEK型号：DEK Galaxy出厂日期：201110购置日期：201202所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>封装工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：郑瑶（010-62798268,1
ICP刻蚀机Cl共享应用
仪器名称：ICP刻蚀机-Cl仪器编号：13015109产地：日本生产厂家：爱发科型号：NE-550H(Cl)出厂日期：201211购置日期：201309所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台(暨微纳技术实验室)固定电话：固定手机：固定email：联系人：李希
自动打线机共享应用
仪器名称：自动打线机仪器编号：13008618产地：美国生产厂家：K&S型号：K&S ICONN_SEPT09出厂日期：201305购置日期：201305所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>封装工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：郑瑶（010-6279
磁控溅射镀膜机共享
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
ICP设备(刻蚀机)共享应用
仪器名称：ICP设备(刻蚀机)仪器编号：02001849产地：英国生产厂家：STS SURFACE TECN.型号：MESC Multiplex出厂日期：200001购置日期：200203所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层工艺平台固定电话：固定手机：固定emai