EVG精密对位曝光系统共享应用
仪器名称：精密对位曝光系统仪器编号：04001157产地：奥地利生产厂家：EVG型号：EVG620出厂日期：200303购置日期：200403所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：安东（010-62796021,18701647330,andong3014@163.com）分类标签：微纳加工技术指标：EVG620掩模对准曝光机衬底尺寸：2" - 6"衬底、碎片（单片）掩模版尺寸：最大7"对准精度：光刻对准：顶部对准0.5um 底部对准1um键合对准：玻璃/硅0.5um 硅/硅1.0um曝光精度：1um曝光模式：软接触、硬接触、真空接触、接近式曝光曝光参数：350nm-450nm波长汞灯功......阅读全文
EVG精密对位曝光系统共享应用
仪器名称：精密对位曝光系统仪器编号：04001157产地：奥地利生产厂家：EVG型号：EVG620出厂日期：200303购置日期：200403所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：安东（010-62796021,18701647
EVG高级显影系统共享应用
仪器名称：高级显影系统仪器编号：04001249产地：奥地利生产厂家：EVG型号：EVG101D出厂日期：200303购置日期：200403所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：安东（010-62796021,187016473
EVG高级匀胶系统共享
仪器名称：高级匀胶系统仪器编号：04001156产地：奥地利生产厂家：EVG型号：EVG101C出厂日期：200303购置日期：200403所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：62796022固定手机：18701647330固定email：andong3014
电子束曝光共享应用
仪器名称：电子束曝光仪器编号：22012325产地：中国生产厂家：卡尔蔡司公司型号：Sigma 300出厂日期：购置日期：2022-07-14所属单位：物理系>电子曝光间放置地点：蒙民伟科技大楼S407固定电话：010-62797291固定手机：17356219197固定email：wangj22@
系统测试nikon共享应用
仪器名称：系统测试nikon仪器编号：A15000007产地：生产厂家：型号：出厂日期：购置日期：所属单位：医研院>生物医学测试中心>尼康影像中心放置地点：医学科学楼C153固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹慧珍（010-62798727,15210512148,caohuizhen@m
清洗系统共享应用
仪器名称：清洗系统仪器编号：04009244产地：台湾生产厂家：弘塑科技有限公司型号：SolventStrip出厂日期：200312购置日期：200410所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：马伟涛（010-62796022,1
弘塑清洗系统共享应用
仪器名称：清洗系统仪器编号：04009245产地：台湾生产厂家：弘塑科技有限公司型号：RCAPre出厂日期：200312购置日期：200410所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：马伟涛（010-62796022,1391032
薄膜溅射沉积系统共享应用
仪器名称：薄膜溅射沉积系统仪器编号：16041495产地：中国生产厂家：AJA型号：ATC 2200-V出厂日期：201605购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼108固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278109
弘塑刻蚀系统共享应用
仪器名称：刻蚀系统仪器编号：04009242产地：台湾生产厂家：弘塑科技有限公司型号：NitrideEtch出厂日期：200312购置日期：200410所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：马伟涛（010-62796022,13
PICOSUN－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：PICOSUN 原子层沉积系统仪器编号：16041497产地：中国生产厂家：PICOSUN型号：R200 Advanced出厂日期：201709购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼109固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹
全自动磁控溅射系统共享应用
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zh
DHISTECH玻片扫描系统Pannoramic－SCAN共享应用
仪器名称：3DHISTECH玻片扫描系统Pannoramic SCAN仪器编号：22009068产地：匈牙利生产厂家：3DHISTECH型号：Pannoramic Scan出厂日期：购置日期：2022-06-09所属单位：医研院>生物医学测试中心>细胞生物学平台>细胞平台电镜机组放置地点：医学科学楼
BENEQ－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：BENEQ 原子层沉积系统仪器编号：09016504产地：芬兰生产厂家：BENEQ型号：TFS200-106出厂日期：200810购置日期：200910所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹秉军（010
单面/双面掩模对准光刻机的相关知识
单面/双面掩模对准光刻机支持各种标准光刻工艺，如真空，硬，软接触和接近式曝光模式，可选择背部对准方式。此外，该系统还提供其他功能，包括键合对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速处理和重新加工，以满足不断变化的用户需求，转换时间不到几分钟。其先进的多用户概念适合初学者到专家级各个阶层用户，
多靶位磁控溅射系统共享应用
仪器名称：多靶位磁控溅射系统仪器编号：21012328产地：美国生产厂家：科特·莱斯科公司型号：PVD75出厂日期：购置日期：2021-07-12所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：62781090固定手机：13661079620固定email：
TRION化学气相沉积系统共享应用
仪器名称：化学气相沉积系统仪器编号：13003987产地：美国生产厂家：TRION型号：PHANTOMIII出厂日期：201205购置日期：201303所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
LAB18薄膜沉积系统共享应用
仪器名称：LAB18薄膜沉积系统仪器编号：12028282产地：中国生产厂家：Kurt型号：KJLC出厂日期：201204购置日期：201212所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090
360曝光共享单车三大扫码骗局
日前，共享单车风靡全国，不料这个便民出行神器也成了骗子们的“香饽饽”。最近，全国连发多起共享单车被贴虚假二维码的诈骗事件，用户手机扫描此类二维码后，或被要求直接转账，或被要求下载可疑软件，致使资金账户面临被盗刷的风险。360反诈骗专家刘洋在接受记者采访时表示，市民在骑共享单车时要提高警惕，凡扫码
nikon－系统测试共享
仪器名称：系统测试nikon仪器编号：A15000007产地：生产厂家：型号：出厂日期：购置日期：样品要求：样品要求：活细胞需种植在共聚焦显微镜小皿内；需要用0.17mm的盖玻片进行封片预约说明：所有大型仪器均可通过点击“仪器设备”，查看仪器设备联系人信息，可通过电话及邮件联系。预约后如有特殊原因无
EpiQuest真空互联分子束外延系统(半导体）共享应用
仪器名称：真空互联-分子束外延系统(半导体）仪器编号：21028773产地：日本生产厂家：EpiQuest Inc型号：RC2100Se出厂日期：购置日期：2021-11-18所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：010-62784044
无液氦综合物性测量系统Quantum－DynaCool共享应用
仪器名称：无液氦综合物性测量系统-Quantum DynaCool仪器编号：21032513产地：美国生产厂家：Quantum Design Inc型号：DynaCool出厂日期：购置日期：2021-12-09所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>高精尖放置地点：固定电话：固定手机：固定email：
Picosun－Oy真空互联原子层沉积系统共享应用
仪器名称：真空互联-原子层沉积系统仪器编号：21029113产地：芬兰生产厂家：Picosun Oy型号：R-200 Advanced出厂日期：购置日期：2021-11-25所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：01062784044固定
PXIe精密源测量单元Keysight－M9615A共享
仪器名称：PXIe精密源测量单元-Keysight M9615A仪器编号：22044519产地：中国台湾生产厂家：Keysight型号：M9615A出厂日期：购置日期：2023-02-28所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>高精尖放置地点：荷清大厦（润泽大厦）C101固定电话：010-627995
硬件加速器系统Mentor－Veloce－Strato－TiL共享应用
仪器名称：硬件加速器系统-Mentor Veloce Strato TiL仪器编号：18503447产地：美国生产厂家：Mentor Graphics型号：Mentor Veloce Strato TiL出厂日期：购置日期：2018-12-10所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>高精尖放置地点：荷
电子束曝光系统
电子束曝光是利用电子束在涂有感光胶的晶片上直接描画或投影复印图形的技术，它的特点是分辨率高（极限分辨率可达到3～8μm）、图形产生与修改容易、制作周期短。它可分为扫描曝光和投影曝光两大类，其中扫描曝光系统是电子束在工件面上扫描直接产生图形，分辨率高，生产率低。投影曝光系统实为电子束图形复印系统，
对位苯二胺皮炎的预防
1.改进生产设备，改善生产工作场所的卫生条件：安装良好有效的通风，排气及吸尘设备，减少车间有害气体及粉尘，设立浴室和更衣室。 2.加强个人防护，注意穿工作服，戴手套、口罩、帽子、面罩、防护眼睛等防护服，长统靴等。
对位苯二胺皮炎的概述
对位苯二胺皮炎（paraphenylenediamine dermatitis）是指接触对位苯二胺引起的皮炎湿疹样改变。参与对苯二胺生产的工人、毛皮衣制作者、美发师、参与橡胶硫化过程的工人可发生对位苯二胺皮炎。皮损可发生于手背、腕部、前臂、眼睑和鼻部，表现为红斑、丘疹、丘疱疹，皮损散在或密集，可
对位苯二胺皮炎的治疗
一般疗法 （1）首先应追查病因，避免再接触，清除刺激因子并告知患者以免今后再接触患病。 （2）避免搔抓、摩擦、热水或肥皂水洗涤及其他附加刺激。摒除辛辣刺激食品，清理胃肠，保持大便通畅，避免精神过度紧张。 （3）药物疗法：以脱敏止痒为主，轻者可口服或注射抗组胺药，如皮损面积大，炎症著明者可选
NICP刻蚀机共享应用
仪器名称：NICP刻蚀机仪器编号：02011812产地：中国生产厂家：中科院微电子中心自制型号：NICP-I型出厂日期：200107购置日期：200210所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-627
THERMCO合金炉共享应用
仪器名称：合金炉仪器编号：11013950产地：美国生产厂家：THERMCO型号：MB-81出厂日期：200406购置日期：201107所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：新所一楼工艺平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹秉军（010-62784044,1391080