全自动磁控溅射系统共享应用
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zhaoting@tsinghua.edu.cn）窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn）分类标签：微纳加工 半导体工艺 集成电路 磁控溅射技术指标：SiO2薄膜溅射；工艺温度﹤200℃知名用户：王喆垚(微电子所)、陈兢(北京大学)、何立平(中科院物理所)、严清峰(化学系)、许军(微电子所)、尤政(精仪系) 朱荣(精仪系)、张志勇(北京大学)、金传洪(浙江大学)技术团队：设备工程师：林宏设备主管：刘建设项目主管：陈炜功能特色：可低温（T﹤200℃）溅射SiO2膜，满......阅读全文
全自动磁控溅射系统共享应用
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zh
金盛微全自动磁控溅射系统共享
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zh
多靶位磁控溅射系统共享应用
仪器名称：多靶位磁控溅射系统仪器编号：21012328产地：美国生产厂家：科特·莱斯科公司型号：PVD75出厂日期：购置日期：2021-07-12所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：62781090固定手机：13661079620固定email：
磁控溅射镀膜机共享应用
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
清华大学仪器共享平台金盛微纳－全自动磁控溅射系统
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zh
AJA－真空互联磁控溅射镀膜机共享应用
仪器名称：真空互联-磁控溅射镀膜机仪器编号：20004165产地：美国生产厂家：AJA型号：ATC-2200-UHV SPUTTER SYSTEM出厂日期：购置日期：2020-06-05项目名称计价单位费用类别价格备注材料溅射元/小时自主上机机时费460.0Au等贵金属加收100元/10nm所属单位
磁控溅射镀膜机共享
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
清洗系统共享应用
仪器名称：清洗系统仪器编号：04009244产地：台湾生产厂家：弘塑科技有限公司型号：SolventStrip出厂日期：200312购置日期：200410所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：马伟涛（010-62796022,1
系统测试nikon共享应用
仪器名称：系统测试nikon仪器编号：A15000007产地：生产厂家：型号：出厂日期：购置日期：所属单位：医研院>生物医学测试中心>尼康影像中心放置地点：医学科学楼C153固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹慧珍（010-62798727,15210512148,caohuizhen@m
清华大学仪器共享平台科特·莱斯科－多靶位磁控溅射系统
仪器名称：多靶位磁控溅射系统仪器编号：21012328产地：美国生产厂家：科特·莱斯科公司型号：PVD75出厂日期：购置日期：2021-07-12所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：62781090固定手机：13661079620固定email：
磁控溅射技术应用的现状
磁控溅射技术不仅是科学研究和精密电子制造中常用的薄膜制备工艺技术，经过多年的不断完善和发展，该技术也已经成为重要的工业化大面积真空镀膜技术之一，广泛应用于玻璃、汽车、医疗卫生、电子工业等工业和民生领域。例如，采用磁控溅射工艺生产镀膜玻璃，其膜层可以由多层金属或金属氧化物祖成，允许任意调节能量通过
清华大学仪器共享平台磁控溅射镀膜机
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
弘塑清洗系统共享应用
仪器名称：清洗系统仪器编号：04009245产地：台湾生产厂家：弘塑科技有限公司型号：RCAPre出厂日期：200312购置日期：200410所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：马伟涛（010-62796022,1391032
EVG高级显影系统共享应用
仪器名称：高级显影系统仪器编号：04001249产地：奥地利生产厂家：EVG型号：EVG101D出厂日期：200303购置日期：200403所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：安东（010-62796021,187016473
弘塑刻蚀系统共享应用
仪器名称：刻蚀系统仪器编号：04009242产地：台湾生产厂家：弘塑科技有限公司型号：NitrideEtch出厂日期：200312购置日期：200410所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：马伟涛（010-62796022,13
薄膜溅射沉积系统共享应用
仪器名称：薄膜溅射沉积系统仪器编号：16041495产地：中国生产厂家：AJA型号：ATC 2200-V出厂日期：201605购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼108固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278109
Axio－Scan.－Z1－Zeiss全自动数字玻片扫描系统共享应用
仪器名称：Axio Scan. Z1 Zeiss全自动数字玻片扫描系统仪器编号：17026728产地：德国生产厂家：Zeiss型号：Axio Scan. Z1出厂日期：201606购置日期：201710所属单位：医研院>生物医学测试中心>细胞生物学平台>细胞平台光镜机组放置地点：医学科学楼C133固
PICOSUN－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：PICOSUN 原子层沉积系统仪器编号：16041497产地：中国生产厂家：PICOSUN型号：R200 Advanced出厂日期：201709购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼109固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹
BENEQ－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：BENEQ 原子层沉积系统仪器编号：09016504产地：芬兰生产厂家：BENEQ型号：TFS200-106出厂日期：200810购置日期：200910所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹秉军（010
DHISTECH玻片扫描系统Pannoramic－SCAN共享应用
仪器名称：3DHISTECH玻片扫描系统Pannoramic SCAN仪器编号：22009068产地：匈牙利生产厂家：3DHISTECH型号：Pannoramic Scan出厂日期：购置日期：2022-06-09所属单位：医研院>生物医学测试中心>细胞生物学平台>细胞平台电镜机组放置地点：医学科学楼
LAB18薄膜沉积系统共享应用
仪器名称：LAB18薄膜沉积系统仪器编号：12028282产地：中国生产厂家：Kurt型号：KJLC出厂日期：201204购置日期：201212所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090
TRION化学气相沉积系统共享应用
仪器名称：化学气相沉积系统仪器编号：13003987产地：美国生产厂家：TRION型号：PHANTOMIII出厂日期：201205购置日期：201303所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
EVG精密对位曝光系统共享应用
仪器名称：精密对位曝光系统仪器编号：04001157产地：奥地利生产厂家：EVG型号：EVG620出厂日期：200303购置日期：200403所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：安东（010-62796021,18701647
nikon－系统测试共享
仪器名称：系统测试nikon仪器编号：A15000007产地：生产厂家：型号：出厂日期：购置日期：样品要求：样品要求：活细胞需种植在共聚焦显微镜小皿内；需要用0.17mm的盖玻片进行封片预约说明：所有大型仪器均可通过点击“仪器设备”，查看仪器设备联系人信息，可通过电话及邮件联系。预约后如有特殊原因无
Nikon－Ti2E全自动活细胞显微成像系统共享
仪器名称：Nikon Ti2-E全自动活细胞显微成像系统仪器编号：22009067产地：日本生产厂家：Nikon型号：Nikon Ti2-E出厂日期：购置日期：2022-06-09所属单位：医研院>生物医学测试中心>细胞生物学平台>细胞平台光镜机组放置地点：医学科学楼C119固定电话：固定手机：固定
Picosun－Oy真空互联原子层沉积系统共享应用
仪器名称：真空互联-原子层沉积系统仪器编号：21029113产地：芬兰生产厂家：Picosun Oy型号：R-200 Advanced出厂日期：购置日期：2021-11-25所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：01062784044固定
EpiQuest真空互联分子束外延系统(半导体）共享应用
仪器名称：真空互联-分子束外延系统(半导体）仪器编号：21028773产地：日本生产厂家：EpiQuest Inc型号：RC2100Se出厂日期：购置日期：2021-11-18所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：010-62784044
无液氦综合物性测量系统Quantum－DynaCool共享应用
仪器名称：无液氦综合物性测量系统-Quantum DynaCool仪器编号：21032513产地：美国生产厂家：Quantum Design Inc型号：DynaCool出厂日期：购置日期：2021-12-09所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>高精尖放置地点：固定电话：固定手机：固定email：
磁控溅射的相关介绍
磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅
磁控溅射种类的介绍
磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。 靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多