多靶位磁控溅射系统共享应用
仪器名称：多靶位磁控溅射系统仪器编号：21012328产地：美国生产厂家：科特·莱斯科公司型号：PVD75出厂日期：购置日期：2021-07-12所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：62781090固定手机：13661079620固定email：douwz@tsinghua.edu.cn联系人：窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn）分类标签：微纳加工 半导体工艺 磁控溅射 材料制备技术指标：工艺腔配备冷泵，本底真空：10e-8 torr；成膜均匀性<3%；同时装载5个靶位；全自动传送片系统知名用户：钱鹤教授，吴华强教授，陈炜教授，刘泽文教授。技术团队：窦维治、韩冰、魏治乾功能特色：该设备的特点如下：本底真空可达到10E-8Torr量级；基片温度可以控制在室温~800℃；可实现6英寸及以下尺寸的硅......阅读全文
多靶位磁控溅射系统共享应用
仪器名称：多靶位磁控溅射系统仪器编号：21012328产地：美国生产厂家：科特·莱斯科公司型号：PVD75出厂日期：购置日期：2021-07-12所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：62781090固定手机：13661079620固定email：
清华大学仪器共享平台科特·莱斯科－多靶位磁控溅射系统
仪器名称：多靶位磁控溅射系统仪器编号：21012328产地：美国生产厂家：科特·莱斯科公司型号：PVD75出厂日期：购置日期：2021-07-12所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：62781090固定手机：13661079620固定email：
全自动磁控溅射系统共享应用
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zh
金属多靶磁控溅射机
金属多靶磁控溅射机是一种用于电子与通信技术领域的工艺试验仪器，于2014年1月1日启用。 1）真空系统：复合分子泵+直联旋片无油机械泵抽真空系统；真空极限：优于5.0×10E-5Pa ；抽速：从大气开始抽气，溅射室25分钟可达到10E-4Pa；系统漏率≤ 5×10-7PaL/s，系统停泵关机1
超高真空多靶磁控溅射镀膜仪
超高真空多靶磁控溅射镀膜仪是一种用于物理学领域的物理性能测试仪器，于2010年2月21日启用。 技术指标 双室磁控溅射系统，极限压力：主溅射室，6.67*10-6Pa，2、永磁靶5套，三个直流电源，两个射频电源，靶材直径60mm；3、6个样品工位，尺寸直径30mm，基片加热最高600度，退火
磁控溅射镀膜机共享应用
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
金盛微全自动磁控溅射系统共享
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zh
AJA－真空互联磁控溅射镀膜机共享应用
仪器名称：真空互联-磁控溅射镀膜机仪器编号：20004165产地：美国生产厂家：AJA型号：ATC-2200-UHV SPUTTER SYSTEM出厂日期：购置日期：2020-06-05项目名称计价单位费用类别价格备注材料溅射元/小时自主上机机时费460.0Au等贵金属加收100元/10nm所属单位
磁控溅射镀膜机共享
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
清华大学仪器共享平台金盛微纳－全自动磁控溅射系统
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zh
清洗系统共享应用
仪器名称：清洗系统仪器编号：04009244产地：台湾生产厂家：弘塑科技有限公司型号：SolventStrip出厂日期：200312购置日期：200410所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：马伟涛（010-62796022,1
系统测试nikon共享应用
仪器名称：系统测试nikon仪器编号：A15000007产地：生产厂家：型号：出厂日期：购置日期：所属单位：医研院>生物医学测试中心>尼康影像中心放置地点：医学科学楼C153固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹慧珍（010-62798727,15210512148,caohuizhen@m
磁控溅射技术应用的现状
磁控溅射技术不仅是科学研究和精密电子制造中常用的薄膜制备工艺技术，经过多年的不断完善和发展，该技术也已经成为重要的工业化大面积真空镀膜技术之一，广泛应用于玻璃、汽车、医疗卫生、电子工业等工业和民生领域。例如，采用磁控溅射工艺生产镀膜玻璃，其膜层可以由多层金属或金属氧化物祖成，允许任意调节能量通过
清华大学仪器共享平台磁控溅射镀膜机
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
EVG高级显影系统共享应用
仪器名称：高级显影系统仪器编号：04001249产地：奥地利生产厂家：EVG型号：EVG101D出厂日期：200303购置日期：200403所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：安东（010-62796021,187016473
弘塑清洗系统共享应用
仪器名称：清洗系统仪器编号：04009245产地：台湾生产厂家：弘塑科技有限公司型号：RCAPre出厂日期：200312购置日期：200410所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：马伟涛（010-62796022,1391032
弘塑刻蚀系统共享应用
仪器名称：刻蚀系统仪器编号：04009242产地：台湾生产厂家：弘塑科技有限公司型号：NitrideEtch出厂日期：200312购置日期：200410所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：马伟涛（010-62796022,13
薄膜溅射沉积系统共享应用
仪器名称：薄膜溅射沉积系统仪器编号：16041495产地：中国生产厂家：AJA型号：ATC 2200-V出厂日期：201605购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼108固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278109
多克隆位点的应用特点
多克隆位点（multiple cloning site, MCS），是包含多个（最多20个）限制性酶切位点（restriction site）的一段很短的DNA序列。也称为多位点接头（polylinker），是基因工程中常用到的载体质粒的标准配置序列。MCS中，每个限制性酶切位点通常是唯一的，即它们
PICOSUN－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：PICOSUN 原子层沉积系统仪器编号：16041497产地：中国生产厂家：PICOSUN型号：R200 Advanced出厂日期：201709购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼109固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹
DHISTECH玻片扫描系统Pannoramic－SCAN共享应用
仪器名称：3DHISTECH玻片扫描系统Pannoramic SCAN仪器编号：22009068产地：匈牙利生产厂家：3DHISTECH型号：Pannoramic Scan出厂日期：购置日期：2022-06-09所属单位：医研院>生物医学测试中心>细胞生物学平台>细胞平台电镜机组放置地点：医学科学楼
BENEQ－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：BENEQ 原子层沉积系统仪器编号：09016504产地：芬兰生产厂家：BENEQ型号：TFS200-106出厂日期：200810购置日期：200910所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹秉军（010
关于多克隆位点的应用介绍
多克隆位点，是指载体上含有的一个人工合成的DNA片段，其上含有多个单一酶切位点，是外源DNA的插入部位，具备条件：是载体中的一段碱基序列，由数个酶切位点组成，这些位点在载体上都是单一位点。 多克隆位点（multiple cloning site, MCS），是包含多个（最多20个）限制性酶切位
LAB18薄膜沉积系统共享应用
仪器名称：LAB18薄膜沉积系统仪器编号：12028282产地：中国生产厂家：Kurt型号：KJLC出厂日期：201204购置日期：201212所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090
TRION化学气相沉积系统共享应用
仪器名称：化学气相沉积系统仪器编号：13003987产地：美国生产厂家：TRION型号：PHANTOMIII出厂日期：201205购置日期：201303所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
EVG精密对位曝光系统共享应用
仪器名称：精密对位曝光系统仪器编号：04001157产地：奥地利生产厂家：EVG型号：EVG620出厂日期：200303购置日期：200403所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：固定手机：固定email：联系人：安东（010-62796021,18701647
nikon－系统测试共享
仪器名称：系统测试nikon仪器编号：A15000007产地：生产厂家：型号：出厂日期：购置日期：样品要求：样品要求：活细胞需种植在共聚焦显微镜小皿内；需要用0.17mm的盖玻片进行封片预约说明：所有大型仪器均可通过点击“仪器设备”，查看仪器设备联系人信息，可通过电话及邮件联系。预约后如有特殊原因无
无液氦综合物性测量系统Quantum－DynaCool共享应用
仪器名称：无液氦综合物性测量系统-Quantum DynaCool仪器编号：21032513产地：美国生产厂家：Quantum Design Inc型号：DynaCool出厂日期：购置日期：2021-12-09所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>高精尖放置地点：固定电话：固定手机：固定email：
EpiQuest真空互联分子束外延系统(半导体）共享应用
仪器名称：真空互联-分子束外延系统(半导体）仪器编号：21028773产地：日本生产厂家：EpiQuest Inc型号：RC2100Se出厂日期：购置日期：2021-11-18所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：010-62784044
Picosun－Oy真空互联原子层沉积系统共享应用
仪器名称：真空互联-原子层沉积系统仪器编号：21029113产地：芬兰生产厂家：Picosun Oy型号：R-200 Advanced出厂日期：购置日期：2021-11-25所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>真空互联放置地点：微电子学研究所南平房实验室108号固定电话：01062784044固定